JPH1192425A - アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法 - Google Patents
アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH1192425A JPH1192425A JP25376797A JP25376797A JPH1192425A JP H1192425 A JPH1192425 A JP H1192425A JP 25376797 A JP25376797 A JP 25376797A JP 25376797 A JP25376797 A JP 25376797A JP H1192425 A JPH1192425 A JP H1192425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- acid
- acrylate
- organic residue
- anhydride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 8
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 26
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 23
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 14
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 abstract description 14
- -1 air) Chemical compound 0.000 abstract description 11
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 4
- SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CO SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- LSURRKWOANERMF-UHFFFAOYSA-N butyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(=C)CO LSURRKWOANERMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- RFUCOAQWQVDBEU-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(=C)CO RFUCOAQWQVDBEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRCRJFOGPCJKPF-UHFFFAOYSA-N 2-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CCCCC1=CC(O)=CC=C1O XRCRJFOGPCJKPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEXOQMOKIUWPNU-UHFFFAOYSA-N C(=O)(O)C=CC(=O)OCC(C(=O)O)=C Chemical compound C(=O)(O)C=CC(=O)OCC(C(=O)O)=C XEXOQMOKIUWPNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZCCUDJHOGOSO-UHFFFAOYSA-N diphenic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1C(O)=O GWZCCUDJHOGOSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000002431 foraging effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
なアクリル酸エステル誘導体およびその製造方法を提供
する。 【解決手段】 本発明のアクリル酸エステル誘導体は、
例えばオキシアクリル酸エステル類と多塩基酸無水物お
よび/または多塩基酸とを反応させることにより製造さ
れる。
Description
(2):
表し、R2およびR3はそれぞれ独立して有機残基を表
す。)で表されるアクリル酸エステル誘導体およびその
製造方法に関するものである。
の原料、架橋用モノマー、レジスト用モノマー等に有用
である。
塩基酸および/または多塩基酸とを反応させてカルボキ
シル基含有化合物を製造する方法については、従来より
種々検討がなされている。
は、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと無水
コハク酸とを反応させると、下記式(3):
す。)で表されるカルボキシル基含有アクリレートが得
られる合成例が開示されている。
るアクリル酸エステル誘導体およびその製造方法に関し
ては今まで知られていなかった。
に利用され得る、前記一般式(2)で表されるアクリル
酸エステル誘導体およびその製造方法を提供することに
ある。
般式(2)で表されるアクリル酸エステル誘導体を提供
すべく鋭意検討した結果、オキシアクリル酸エステルと
無水多塩基酸および/または多塩基酸とを反応させるこ
とにより、前記一般式(2)で表されるアクリル酸エス
テル誘導体が得られることを見いだして、本発明を完成
させるに至った。
表し、R3は有機残基を表す)で表されるオキシアクリ
ル酸エステル類と、多塩基酸無水物および/または多塩
基酸とを反応させることを特徴とする一般式(2):
表し、R2、R3はそれぞれ独立して有機残基を表す)で
表わされるアクリル酸エステル誘導体の製造方法に関す
る。
表し、R2およびR3はそれぞれ独立して有機残基を表
す)で表わされるアクリル酸エステル誘導体に関するも
のである。
ル誘導体は、前記一般式(2)中、R1で示される置換
基が水素原子または有機残基で構成され、R2で示され
る置換基が2価の有機残基で構成され、かつ、R3で示
される置換基が有機残基で構成される化合物である。
原子であり、R2で示される基が、
8のアルキル基を表し、R6及びR7は直接結合または炭
素数1〜6のアルキル基を表し、R8及びR9は直接結合
または炭素数1〜3のアルキル基を表し、該基中の水素
がアルキル基、水酸基、カルボキシル基、またはハロゲ
ン原子で置換されていても良い。)であり、かつ、R3
で示される基が炭素数1〜18の直鎖状もしくは分枝鎖
状もしくは環状のアルキル基、アリール基、炭素数2〜
20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜8のハロゲン
化アルキル基である化合物が好ましい。
子であり、R2で示される基が、
1〜8のアルキル基である化合物がより好ましい。
子であり、R2で示される基が、
1〜4のアルキル基である化合物がさらに好ましい。
する方法としては、特に限定されるものではないが、例
えば、オキシアクリル酸エステルと、無水多塩基酸およ
び/または多塩基酸とを反応させることにより容易に製
造される。以下にその製造方法を説明する。
方法において、原料として用いられるオキシアクリル酸
エステル類は、前記一般式(1)で示され、式中、R1
で示される置換基が水素原子または有機残基で構成さ
れ、かつ、R3で示される置換基が有機残基で構成され
る化合物である。前記R1で示される置換基とは、具体
的には水素原子、炭素数1〜8のアルキル基等が挙げら
れる。前記R3で示される置換基としては、具体的には
炭素数1〜18の直鎖状、枝分鎖状、もしくは環状のア
ルキル基、アリール基、炭素数2〜20のアルコキシア
ルキル基、炭素数1〜8のハロゲン化アルキル基等が挙
げられる。
ル酸エステル化合物としては、具体的には、例えば、メ
チル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、エチル−α
−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチル−α−ヒドロ
キシメチルアクリレート、2−エチルヘキシル−α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート、メチル−α−(1−ヒド
ロキシエチル)アクリレート、エチル−α−(1−ヒド
ロキシエチル)アクリレート、ブチル−α−(1−ヒド
ロキシエチル)アクリレート、2−エチルヘキシル−α
−(1−ヒドロキシエチル)アクリレート等が挙げられ
る。これらオキシアクリル酸エステル系化合物は、一種
類のみ用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して
もよい。上記例示の化合物のうち、メチル−α−ヒドロ
キシメチルアクリレート、エチル−α−ヒドロキシメチ
ルアクリレート、ブチル−α−ヒドロキシメチルアクリ
レート、2−エチルヘキシル−α−ヒドロキシメチルア
クリレートが重合性に優れるので好ましい。
物は、従来公知の方法、例えば、相当するアクリル酸エ
ステルとアルデヒド化合物とを塩基性イオン交換樹脂の
触媒の存在下で反応させる(特開平6−135896号
公報等)ことにより、容易に得ることができる。
方法において原料として用いられる多塩基酸および/ま
たはその無水物としてはコハク酸、マレイン酸、o−フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、o−ヘキサヒド
ロフタル酸、m−ヘキサヒドロフタル酸、p−ヘキサヒ
ドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、トリメリット
酸、ピロメリット酸、ジフェン酸等の多塩基酸およびそ
れらの無水物が挙げられるが、特に限定されるものでは
ない。
水多塩基酸および/または多塩基酸との反応方法は、特
に限定されるものではなく、従来公知の種々の方法を転
用することができる。例えば、 オキシアクリル酸エステル化合物と無水多塩基酸との
反応方法としては、例えばオキシアクリル酸エステル化
合物と無水多塩基酸とを、加温し反応させる方法が好適
である。
基酸との反応方法としては、例えばオキシアクリル酸エ
ステル化合物と多塩基酸とを、触媒の存在下に加熱して
反応させる方法が好適である。
ステル化合物に対する無水多塩基酸の添加量は、該オキ
シアクリル酸エステル化合物1モルに対し、無水多塩基
酸を0.01〜5モルの範囲とすればよい。無水多塩基
酸の添加量が0.01モルより少ない場合には、反応後
に残る未反応のオキシアクリル酸エステルが多くなるお
それがある。また、無水多塩基酸の添加量が5モルより
多い場合には、反応後に残る未反応の無水多塩基酸が多
くなるおそれがある。
に限定されるものではないが、原料であるオキシアクリ
ル酸エステル、並びに、生成物であるアクリル酸エステ
ルは、分子中にビニル基を含有しているので、重合しや
すい性質を有している。従って、オキシアクリル酸エス
テルやアクリル酸エステルの重合を抑制するために、反
応系に重合防止剤(または重合禁止剤)や分子状酸素を
添加することが好ましい。
ヒドロキノンモノメチルエーテル、p−ベンゾキノン、
メチルヒドロキノン、t−ブチルヒドキノン、ジ−t−
ブチルヒドロキノン、tーブチルカテコール、フェノチ
アジン等が挙げられるが、特に限定されるものではな
い。これら重合防止剤は、一種類のみを用いてもよく、
また、二種類以上を適宜混合してもよい。また、重合防
止剤の添加量は、特に限定されるものではないが、例え
ば、得られるアクリル酸エステルに対する割合が、0.
001重量%〜5重量%の範囲内となるようにすればよ
い。分子状酸素としては、例えば、空気を用いることが
できる。この場合、反応系、つまり、オキシアクリル酸
と無水多塩基酸の混合液中に空気を吹き込む(いわゆ
る、バブリング)ようにすればよい。そして、上記重合
を充分に抑制するために、重合防止剤と分子状酸素とを
併用することが好ましい。
する必要は無いが、使用しても差し支えない。使用され
る触媒としてはヒドロキシル基と無水多塩基酸との反応
に用いられる公知の触媒が使用できる。例えば、トリエ
チルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン等
の3級アミン化合物、およびそれらのクロル塩、ブロモ
塩等の4級アンモニウム塩等が挙げられる。触媒を使用
する場合の使用量としては、使用されるオキシアクリル
酸エステルに対し10重量%以下、好ましくは5重量%
以下が好ましい。使用量が多いと経済的に有利ではな
い。
る必要は無いが、使用しても差し支えない。使用される
溶媒としては、反応を阻害しない溶媒であれば良いが、
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族系溶剤や脂肪族系溶剤が好適に使用される。
限定されるものではないが、前記した重合を抑制するた
めに、0℃〜150℃の範囲内が好ましく、30〜12
0℃の範囲内が特に好ましい。反応温度が0℃よりも低
い場合には、反応時間が長く成り過ぎ、アクリル酸エス
テルを効率的に製造することができなくなるおそれがあ
る。また、反応温度が150℃よりも高い場合には、前
記した重合を抑制することができなくなるおそれがあ
る。オキシアクリル酸エステル化合物と無水多塩基酸と
の反応は発熱反応であるので、両者を反応させる際に
は、反応系から余分な熱を除去すると共に、該反応系か
ら除去される熱量に見合う量の無水多塩基酸を粉体ある
いは溶融状態あるいは溶媒に溶解させて反応系に添加す
ることにより反応温度をほぼ一定に保ちながら反応を進
行させても差し支えない。但し、上記反応は必ずしもほ
ぼ一定の反応温度で進行させる必要はない。反応時間
は、上記反応が完結するように、反応温度やオキシアク
リル酸エステル化合物および無水多塩基酸の種類や組み
合わせ、使用量等に応じて、適宜設定すればよい。この
ときの反応圧力は、特に限定されるものではなく、常圧
(大気圧)、減圧、加圧の何れであってもよい。
を除去し、所望するアクリル酸エステル誘導体が容易に
得られる。尚、触媒や有機溶媒の除去方法は、特に限定
されるものではない。
リル酸エステル化合物としてα−ヒドロキシアルキルア
クリル酸エステルを用い、α−ヒドロキシアルキルアク
リル酸エステルと多塩基酸とを触媒の存在下に加熱する
ことにより行うことが好適である。
ヒドロキシル基とカルボキシル基とのエステル化反応に
用いられる公知の触媒が使用できる。例えば、塩酸、硫
酸、リン酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、酸性イオン交換樹脂等のプロ
トン酸が挙げられ、好ましくはメタンスルホン酸、パラ
トルエンスルホン酸が好適に使用される。これら触媒
は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適
宜混合してもよい。
前記触媒の添加量は、用いるオキシアクリル酸エステル
類の種類にもよるが、例えば、該オキシアクリル酸エス
テル類に対する割合が、0.001重量%〜50重量%
の範囲内、好ましくは0.01重量%〜10重量%の範
囲内となるようにすればよい。触媒の添加量が、0.0
01重量%よりも少ない場合には、反応時間が長くなり
過ぎ、アクリル酸エステル誘導体を効率的に製造するこ
とができなくなるおそれがある。また、触媒の添加量を
50重量%よりも多くしても、反応時間の短縮等の効果
のさらなる向上は望めず、添加した触媒の一部が無駄に
なり、経済的に不利と成るおそれがある。
酸エステル化合物に対する多塩基酸の添加量は、該オキ
シアクリル酸エステル1モルに対し、多塩基酸を0.0
1〜5モルの範囲とすればよい。多塩基酸の添加量が
0.01モルより少ない場合には、反応後に残る未反応
のオキシアクリル酸エステルが多くなるおそれがある。
また、多塩基酸の添加量が5モルより多い場合には、反
応後に残る未反応の多塩基酸が多くなるおそれがある。
に限定されるものではないが、原料であるオキシアクリ
ル酸エステル、並びに、生成物であるアクリル酸エステ
ルは、分子中にビニル基を含有しているので、重合しや
すい性質を有している。従って、オキシアクリル酸エス
テルやアクリル酸エステルの重合を抑制するために、反
応系に重合防止剤(または重合禁止剤)や分子状酸素を
添加することが好ましい。
クリル酸と無水多塩基酸との反応で挙げられるものが使
用できるが、特に限定されるものではない。これら重合
防止剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以
上を適宜混合してもよい。また、重合防止剤の添加量
は、特に限定されるものではないが、例えば、得られる
アクリル酸エステルに対する割合が、0.001重量%
〜5重量%の範囲内となるようにすればよい。分子状酸
素としては、例えば、空気を用いることができる。この
場合、反応系、つまり、オキシアクリル酸と無水多塩基
酸の混合液中に空気を吹き込む(いわゆる、バブリン
グ)ようにすればよい。そして、上記重合を充分に抑制
するために、重合防止剤と分子状酸素とを併用すること
が好ましい。
る必要は無いが、オキシアクリル酸と多塩基酸との反応
は脱水反応であるので、使用した生成した水を共沸除去
する目的で使用する方が好ましい。使用される溶媒とし
ては、反応を阻害しない溶媒であれば良いが、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶
剤や脂肪族系溶剤が好適に使用される。
限定されるものではないが、前記した重合を抑制するた
めに、0℃〜150℃の範囲内が好ましく、30〜12
0℃の範囲内が特に好ましい。反応温度が0℃よりも低
い場合には、反応時間が長く成り過ぎ、アクリル酸エス
テルを効率的に製造することができなくなるおそれがあ
る。また、反応温度が150℃よりも高い場合には、前
記した重合を抑制することができなくなるおそれがあ
る。オキシアクリル酸と多塩基酸との反応は脱水反応で
あるので、両者を反応させる際には、反応系から生成す
る水を除去すると共に、該反応系から除去される熱量に
見合う量の無水多塩基酸を粉体あるいは溶融状態あるい
は溶媒に溶解させて反応系に添加することにより反応温
度をほぼ一定に保ちながら反応を進行させるても差し支
えない。但し、上記反応は必ずしもほぼ一定の反応温度
で進行させる必要はない。反応時間は、上記反応が完結
するように、反応温度やオキシアクリル酸系化合物およ
び無水多塩基酸の種類や組み合わせ、使用量等に応じ
て、適宜設定すればよい。また、反応圧力は、特に限定
されるものではなく、常圧(大気圧)、減圧、加圧の何
れであってもよい。
ら触媒および溶媒を除去することにより、所望するアク
リル酸エステル誘導体が容易に得られる。尚、触媒の除
去方法は、特に限定されるものではない。例えば、アル
カリ水溶液で洗浄する方法や、酸吸着剤を添加し、吸着
剤に反応溶液中の触媒を吸着させて不溶物を形成し、次
いで、反応溶液の濾過等を行うことにより、不純物、す
なわち触媒を除去することができる。また溶媒の除去方
法は特に限定されるものではない。例えば、蒸発による
溜去、空気や不活性ガスの吹き込みによる除去などが採
用できる。
に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるも
のではない。
および13C−NMRで行なった。
lの反応容器に、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチ
ル130g、無水マレイン酸98g、重合防止剤として
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.046gを仕込
んだ。反応液中に空気を吹き込みながら、反応液の温度
を80〜90℃とし、除熱しながら反応した。発熱が見
られなくなってから、反応液を90℃に10時間保持す
ることにより熟成した。この液を吸引ろ過して淡黄色透
明液体58gを得た。得られた反応生成物の1H−NM
R、および13C−NMRスペクトルを図1および図2に
示す。その結果、得られた化合物は、α−((3−カル
ボキシ−1−オキソプロペニル)オキシメチル)アクリ
ル酸であることが特定された。
リル酸エステル誘導体は、従来公知のカルボキシル基を
含有する単量体、例えばコハク酸モノ(2−アクリロイ
ルオキシエチル)等の用途と同様の用途に供することが
できる。例えば、アクリル酸エステル誘導体もしくは前
記アクリル酸エステル誘導体からなる重合体は、いわゆ
る塗料の密着性向上剤として用いることができる。つま
り、アクリル酸エステル誘導体もしくは前記アクリル酸
エステル誘導体からなる重合体を塗料に添加することに
より、被塗布物に対する塗膜の密着性を向上させること
ができる。
くは前記アクリル酸エステル誘導体からなる重合体は、
エポキシ樹脂等の架橋反応に供される架橋用モノマー;
紫外線硬化性樹脂やアルカリ可溶性樹脂モノマー等に有
用であるので、エッチングレジストやフォトレジスト等
のレジスト材料用途に好適に用いることができる。
スペクトル図である。
スペクトル図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(1): 【化1】 (式中、R1は水素原子または有機残基を表し、R3は有
機残基を表す)で表されるオキシアクリル酸エステル類
と、多塩基酸無水物および/または多塩基酸とを反応さ
せることを特徴とする一般式(2): 【化2】 (式中、R1は水素原子または有機残基を表し、R2、R
3はそれぞれ独立して有機残基を表す)で表わされるア
クリル酸エステル誘導体の製造方法。 - 【請求項2】 一般式(2): 【化3】 (式中、R1は水素原子または有機残基を表し、R2およ
びR3はそれぞれ独立して有機残基を表す。)で表わさ
れるアクリル酸エステル誘導体。 - 【請求項3】 前記一般式(2)において、R1が水素
原子であり、R2が 【化4】 で示される基であり、R3が炭素数1から4のアルキル
基である請求項2記載のアクリル酸エステル誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25376797A JP4046813B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25376797A JP4046813B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1192425A true JPH1192425A (ja) | 1999-04-06 |
| JP4046813B2 JP4046813B2 (ja) | 2008-02-13 |
Family
ID=17255866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25376797A Expired - Fee Related JP4046813B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4046813B2 (ja) |
-
1997
- 1997-09-18 JP JP25376797A patent/JP4046813B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4046813B2 (ja) | 2008-02-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101616951B (zh) | 基于芴的树脂聚合物及其制备方法 | |
| CN101379111B (zh) | 聚合性不饱和化合物及其制造方法 | |
| JP4140743B2 (ja) | 第三級アルコール有機カルボン酸エステルの製造方法 | |
| TWI237038B (en) | Preparation of a compound containing cyclic and linear carbonate groups | |
| JP3422987B2 (ja) | N−オキシル化合物、その製造方法ならびにそのn−オキシル化合物を用いるビニル型単量体の重合防止方法 | |
| JPH1192425A (ja) | アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法 | |
| JP2006315960A (ja) | トリシクロデカンジオールジ(メタ)アクリレート及びその製造方法 | |
| JP2007008828A (ja) | アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの製造方法 | |
| WO2024225442A1 (ja) | (メタ)アクリル酸化合物の製造方法 | |
| JP3395358B2 (ja) | 重合性イミド化合物の製造方法 | |
| TW201105629A (en) | Methacrylate having carboxyl group and manufacturing method thereof | |
| CA2507111A1 (en) | Production process of a polymerizable hyperbranched polyester | |
| JPH107755A (ja) | 脂環式骨格を有する光硬化性樹脂及びその製造方法 | |
| JP2702249B2 (ja) | アクリル酸またはメタクリル酸のアルキルアミノアルキルエステルの製造方法 | |
| JP4963545B2 (ja) | (メタ)アクリロイロオキシテトラヒドロフラン類およびその製造方法 | |
| JPH1072404A (ja) | ソルビトールの(メタ)アクリル酸エステル及びその製法 | |
| JP3953133B2 (ja) | α−ヒドロキシアルキルアクリル酸類の安定化方法 | |
| JPS6258368B2 (ja) | ||
| JPH10259202A (ja) | サイクロデキストリンの(メタ)アクリル酸エステルの製法及びサイクロデキストリンの(メタ)アクリル酸エステル | |
| JP3859290B2 (ja) | α−ヒドロキシアルキルアクリル酸類の製造方法 | |
| JPS62175448A (ja) | アクリル酸またはメタクリル酸のアルキルアミノアルキルエステルの製造方法 | |
| JPH1087725A (ja) | 側鎖に不飽和基を有する重合体及びその製造方法 | |
| JP2000302749A (ja) | (メタ)アクリル酸ポリオキシエチレン化ビスフェノ−ルsエステル、その製造法及び感光性樹脂組成物 | |
| JP2002088021A (ja) | カルボキシル基含有低ラクトン変性アクリレート単量体の製造方法 | |
| JP4070297B2 (ja) | 新規な(メタ)アクリル酸エステル化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040526 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070424 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20070625 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070625 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070807 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071003 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20071024 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071120 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071121 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101130 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101130 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111130 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121130 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |