JPH1196547A

JPH1196547A - 磁気記録媒体およびその製造方法

Info

Publication number: JPH1196547A
Application number: JP26072097A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Osawa; 弘大澤; Hiroyuki Machida; 裕之町田; Kazuyoshi Matsumoto; 和芳松本
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 1997-09-25
Filing date: 1997-09-25
Publication date: 1999-04-09

Abstract

(57)【要約】【課題】ＣＳＳ特性に優れた磁気記録媒体、およびこ
の磁気記録媒体を効率よく製造することが可能な方法を
提供する。【解決手段】多数の結晶粒部１が非晶質部２により互
いに隔てられた構造を有する結晶化ガラス基板Ｄ表面の
所定範囲にレーザ光を照射することにより、レーザ光照
射範囲の基板Ｄ表面に、結晶粒部１または非晶質部２が
基板表面から突出した複数の突起状構造体３を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
等に用いられる磁気記録媒体およびその製造方法に関
し、さらに詳しくはＣＳＳ特性に優れた磁気記録媒体、
およびこの磁気記録媒体を効率よく製造することが可能
な製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録の高密度化の進歩はまさに日進
月歩の勢いであり、かつて１０年で１０倍といわれたハ
ードディスク・ドライブ（ＨＤＤ）の記録密度向上速度
が最近では１０年で１００倍という声も聞かれている。
ＨＤＤには俗にウィンチェスター様式と呼ばれる、磁気
記録媒体と磁気ヘッド間の接触摺動−ヘッド浮上−接触
摺動を基本動作とするＣＳＳ（接触起動停止）方式が主
に採用されている。この方式はＨＤＤの高記録密度化を
一気に加速した画期的なものであるが、一方で深刻なト
ライボロジー上の課題を持ち込む端緒にもなった。ＨＤ
Ｄにおける近年の記録密度の向上は、磁気記録媒体の回
転速度の増加と、磁気ヘッドの浮上高さの減少を伴うも
のであり、ＨＤＤにおける摺動耐久性、安定性、および
磁気記録媒体表面の平滑性への要求はますます強まって
いるのが現状である。

【０００３】磁気ヘッドと磁気記録媒体の間の摺動耐久
性を向上させる鍵は摩擦係数低下にあり、磁気記録媒体
の側で言えば、従来トップコート技術の検討（ダイヤモ
ンドライクカーボン（ＤＬＣ）保護膜、各種塗布潤滑剤
等）と並んで磁気記録媒体表面の粗面化によって摩擦係
数を低減させることが検討されてきた。これはテクスチ
ャ処理と呼ばれ、基板表面を粗面化することによって磁
気記録媒体表面に凹凸を形成し、磁気ヘッドと磁気記録
媒体の間の接触面積を低減し摩擦係数を下げ、磁気記録
媒体のＣＳＳ耐久性、安定性を高めることを目的として
いる。このテクスチャ処理は磁気記録媒体製造技術の重
要な要素技術となっている。

【０００４】上記テクスチャ技術は、基板材質に応じて
使い分けられており、ＮｉＰ被覆Ａｌ基板等にテクスチ
ャ加工を施す場合には、研磨粉等を用いた機械的研磨に
よって凹凸を形成する方法が主に用いられている。ま
た、ガラス基板を用いる場合には、リソグラフィー、或
いはそれと印刷技法を組み合わせたエッチング技術等が
テクスチャ技術として提案され、一部では実用化されて
いる。

【０００５】テクスチャ技術では、精密な凹凸制御と並
んで生産効率を高めることも重要であるが、両者はしば
しば拮抗する関係にあり、特に前述のようにＨＤＤの高
記録密度化が驚くべき速さで進行している現今の状勢下
では、上記テクスチャ技術はその要求を満足しきれない
だけではなく、もはや工夫や改良の蓄積ではカバーし得
ない様々な問題点を露呈しつつある。

【０００６】例えば、機械研磨法はすでに微細加工制御
の限界付近にあり、凹凸の高低差のみならず、ゾーンテ
クスチャリング等で重要になるテクスチャ領域の精密制
御でも根本的な困難に遭遇している。具体的には、一定
の割合で発生する所定範囲外の高低差を示す凹凸（過研
磨、バリ等）の発生や、テクスチャ境界のぼやけ等によ
るＣＳＳ特性の低下が問題となることがある。また、リ
ソグラフィ的手法は、凹凸高低差制御の点では問題ない
ものの、工程の複雑さが避けられず、それが生産効率の
低下を招くことがある。

【０００７】また、ＨＤＤの高記録容量化、高品質化を
達成するには、磁気記録媒体製造環境の高い清浄性が不
可欠であり、塵埃等の不純物を高いレベルで排除するこ
とは製造工程における至上課題となっている。この観点
から見て、製造工程は不純物混入が起こりにくい方式で
ある乾式であることが望ましい。

【０００８】レーザ光を物質加工や測定に応用する試み
はレーザの発明当初から始まったと言えるが、昨今のレ
ーザ光源の発達は基本特性やハンドリング性の目覚まし
い向上をもたらし、高エネルギー加工から超微細加工、
精密測定まで利用技術の広い裾野を形成している。レー
ザ光によって物質を成膜し、或いは物質表面を加工する
レーザアブレーション（爆蝕）ないしレーザエッチング
は８０年代から盛んに検討されている技術であり、これ
によって基板表面にテクスチャ加工を施す、所謂レーザ
テクスチャ技術には、近年、大きな関心が寄せられてい
る（例えばＵＳＰ５０６２０２１、特開昭６２−２０９
７８８号公報、特開平３−２７２０１８号公報、特開平
７−１８２６５５号公報、特開平８−１２９７４９号公
報）。

【０００９】レーザテクスチャ加工は、通常、パルスレ
ーザ光を、レーザスポットサイズを数μｍ〜数十μｍと
なるまで絞ったうえで基板表面に照射し、照射位置にご
く微小な突起を形成し、上記パルスレーザ光照射を基板
上の照射位置をずらせながら行うことで基板表面に突起
を一つずつ形成していき、基板表面の所定領域に多数の
突起を形成するものとされる。レーザテクスチャ技術
は、突起の高さ、突起同士の間隔、形成位置等の設定を
精度よく行うことができるばかりでなく、基本的に乾式
過程であるため磁気記録媒体への不純物混入を防ぐこと
が可能となるという利点がある。

【００１０】レーザを用いてＮｉＰメッキＡｌ基板にテ
クスチャ加工を行う方法は、有効な手法が上記公報など
に提案されており、その中のいくつかの技法は量産段階
での実用化にも成功している。ＮｉＰメッキＡｌ基板の
レーザテクスチャ加工には通常、ＹＡＧレーザの通常波
（波長１．０６μｍ）、２倍波（波長０．５３μｍ）、
あるいはＡｒレーザからのレーザ光（波長０．３３〜
０．５３μｍ）が用いられており、例えば特開平３−２
７２０１８号公報には、Ｑスイッチパルス発振のＮｄ−
ＹＡＧレーザ（波長１．０６μｍ、発振周波数１２ＫＨ
ｚ）を用い、直径２．５〜１００μｍのクレータ状突起
を突起間隔１２．７〜２５．４μｍでＮｉＰメッキＡｌ
基板に形成する方法が記載されている。

【００１１】近年では、Ａｌ基板に代えて、表面硬度が
高く、耐久性に優れた基板として、ガラス基板が多く用
いられている。上記Ａｌ基板に対するテクスチャ加工に
おいて通常用いられる波長のレーザ光は、ガラスの主成
分である酸化シリコン（ＳｉＯ₂）に対する吸収率が低
いため、ガラス基板に対するテクスチャ加工において
は、酸化シリコンの吸収率が高い長波長、例えば５μｍ
以上のレーザ光、または短波長、例えば０．３μｍ以下
のレーザ光を用いた手法が多く提案されている。

【００１２】例えば、特開平７−１８２６５５号公報に
は、ＣＯ₂レーザを用い、長波長（１０．６μｍ）のレ
ーザ光を用いてガラス基板表面にテクスチャ加工を行う
方法が開示されている。また、特開平６−２９５４３３
号公報には、短波長（０．２４８μｍ）の紫外線レーザ
光をガラス基板などの非金属基板に照射し、アブレーシ
ョンにより上記非金属基板の原子、分子の堆積物からな
る凸部を形成し、テクスチャ処理を行う方法が開示され
ている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記テ
クスチャ技術には、次に示すような問題があった。上記
レーザテクスチャ技術は、上述のように、通常、パルス
レーザ光照射を基板上の照射位置をずらせながら行うこ
とで基板表面に突起を一つずつ形成していき、基板表面
の所定領域に多数の突起を形成するものとされる。この
ため、操作に長時間を要し、生産効率が低い問題があっ
た。

【００１４】また、一般に、テクスチャ加工によって形
成される突起は、その直径が大きくなると、ＣＳＳ時に
ヘッドが突起に接触した際にヘッドに加わる衝撃が大き
くなり磁気記録媒体のＣＳＳ特性を低下させる傾向があ
る。このため、突起の直径を一定値以下に抑えることは
磁気記録媒体のＣＳＳ特性を高める上で重要である。レ
ーザテクスチャ加工において突起の直径を小さくするに
は、レーザスポットサイズを小さくする方法が有効であ
る。レーザスポットサイズは、近似的に（レーザスポッ
トサイズ）＝４×（焦点距離）×（波長）／（π×入射
ビーム径）と定義される。したがって、レーザスポット
サイズを小さくするためには、焦点距離を小さく、波長
を短く、入射ビーム径を大きくすればよい。

【００１５】しかしながら、ガラス基板にレーザテクス
チャ加工を行う際に長波長のレーザ光を用いる方法にお
いて、レーザスポットサイズを一定の値以下に小さくす
るのは困難である場合が多い。例えば上述の特開平７−
１８２６５５号公報に記載されたＣＯ₂レーザを用いた
方法では、レーザ光の波長が大きいため、レーザスポッ
トサイズを５０μｍ以下とすることは難しく、形成可能
な突起の直径には一定の下限値がある。上記公報では、
形成される突起の直径はレーザスポットサイズより小さ
くなると報告しているが、レーザスポットサイズを可能
な範囲で最小としても突起の直径を１０μｍ以下にする
ことは極めて難しい。これは、突起の直径が小さくなる
ように焦点距離、入射ビーム径等を調整していくと、上
記直径の２乗に反比例して焦点深度が浅くなってしまう
ためである。

【００１６】また、短波長のレーザ光を用いる方法、例
えば上述の特開平６−２９５４３３号公報に記載された
紫外線レーザを用いた方法では、レーザ光が短波長であ
るためレーザスポットサイズを小さくするのが容易であ
るものの、繰り返し周波数を高めると出力が変動しやす
い、すなわち繰り返し性が低下する問題があり、形成さ
れる突起の高さにばらつきが生じやすく、ＣＳＳ特性に
優れた磁気記録媒体を効率よく製造することが難しい問
題があった。このように、ガラス基板にレーザテクスチ
ャ加工を行う際には、突起の直径をある程度以下に抑え
るとともに突起高さを均一なものとし、ＣＳＳ特性に優
れた磁気記録媒体を効率よく製造するのは困難であっ
た。本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ＣＳ
Ｓ特性に優れた磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体
を効率よく製造することが可能な製造方法を提供するこ
とを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、多数の結晶粒部が非晶質部により互いに隔
てられた構造を有する結晶化ガラス基板表面の所定範囲
にレーザ光を照射することにより、レーザ光照射範囲の
基板表面に、結晶粒部または非晶質部が基板表面から突
出した複数の突起状構造体を形成することを特徴とする
ものである。上記レーザ光は、エネルギー密度が均一化
されたものとするのが好ましく、その波長は２００〜６
００ｎｍまたは５０００〜１２０００ｎｍとするのが好
ましい。また、本発明の磁気記録媒体は、多数の結晶粒
部が非晶質部により互いに隔てられた構造を有する結晶
化ガラス基板表面に、結晶粒部または非晶質部が基板表
面から突出した突起状構造体を形成したことを特徴とす
るものである。上記結晶粒部の粒径（平均粒径）は０．
１〜５．０μｍとするのが好ましい。また結晶粒部の基
板単位面積当たりの個数は１０００〜１０００００００
個／ｍｍ²とするのが好適である。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の製
造方法の一実施形態を図１および図２を参照して説明す
る。図１は、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施
形態を実施するために用いられる装置を示すもので、こ
の装置は、レーザ光源１１と、レーザ光源１１から発せ
られたレーザ光のエネルギー密度を均一化するカライド
スコープ１２と、テクスチャ処理を施すべき基板Ｄを保
持する基板保持装置１３とを備えて構成されている。

【００１９】ここで用いるレーザ光源１１としては、波
長が２００〜６００ｎｍ、あるいは５０００〜１２００
０ｎｍのレーザ光を照射することが可能なレーザを用い
るのが好適である。具体例としては、ＣＯ₂レーザ、Ｃ
Ｏレーザ、ＹＡＧレーザ等が使用可能である。

【００２０】レーザ光の好適な波長範囲を示した理由は
次に示すとおりである。２００ｎｍ未満の波長のレーザ
光は、ガラスに対する吸収率は良好であるものの、波長
２００ｎｍ未満のレーザ光を発するレーザには安定性に
劣るものが多く、安定的に磁気記録媒体を製造すること
が難しくなるため好ましくない。６００ｎｍを越え、５
０００ｎｍ未満の波長のレーザ光を用いた場合には、ガ
ラスに対する吸収率が低く、十分な大きさの突起を形成
することができず、得られる磁気記録媒体のＣＳＳ特性
が低下する。

【００２１】１２０００ｎｍを越える波長のレーザ光
は、ガラスに対する吸収率は良好であるものの、波長１
２０００ｎｍを越える波長のレーザ光を発するレーザに
は、極低温（１５〜９０Ｋ）でしか動作しない鉛化合物
系半導体レーザなどの安定性に劣るものが多く、安定的
に磁気記録媒体を製造することが難しくなるため好まし
くない。

【００２２】カライドスコープ１２は、レーザ光をエネ
ルギー密度が均一な平行光とするための光学装置であ
り、図２に示すように、筒状のスコープ本体２０内に、
入射光を多重反射させ平行化するカライドミラー２１
と、カライドミラー２１からの出射光の方向を変える反
射ミラー２２とを収容し、本体２０の外周に反射ミラー
２２からの反射光の光路を整えるレンズ２３を設けて構
成されたものである。基板保持装置１３は、テクスチャ
処理を施すべき基板を周方向に所定の回転速度で回転さ
せることができるように構成されている。

【００２３】次に、この装置を用いた場合を例として、
本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を説明す
る。まず、基板Ｄを基板保持装置１３に保持させ、所定
の回転速度、例えば２５〜１０００ｒｐｍで回転させ
る。

【００２４】基板Ｄとしては、リチウムシリケイト結晶
化ガラスなどの結晶化ガラス基板が用いられる。この結
晶化ガラス基板として好適な市販品としては、オハラ社
製のＴＳ−１０などがある。結晶化ガラスは、ガラスを
加熱することによってその内部に結晶を析出させた多結
晶体であり、多数の結晶粒部が、非晶質部によって互い
に隔てられた構造を有するものである。ここで用いる結
晶化ガラス基板Ｄとしては、結晶化時の加熱温度等の製
造条件を調節することによって、結晶粒部の粒径、単位
基板面積当たりの個数等を適宜設定したものを用いるこ
とが好ましい。上記結晶粒部の粒径（平均粒径）は０．
１〜５．０μｍとするのが好ましい。また結晶粒部の基
板単位面積当たりの個数は１０００〜１０００００００
個／ｍｍ²とするのが好適である。

【００２５】上記結晶粒部の粒径が０．１μｍ未満であ
ると、磁気記録媒体表面の凹凸の高低差が不足し、ＣＳ
Ｓ時にヘッドと媒体との間の接触面積が増加し、磁気記
録媒体への磁気ヘッド吸着が起きやすくなる。また粒径
が５．０μｍを越えると、磁気記録媒体の最大表面粗さ
が大きくなりヘッドクラッシュが起こりやすくなる。ま
た、上記結晶粒部の単位面積当たり個数が１０００個／
ｍｍ²未満または１０００００００個／ｍｍ²を越える場
合には、磁気記録媒体表面の凹凸の高低差が不足し磁気
記録媒体に対する磁気ヘッド吸着が起きやすくなる。

【００２６】次いでレーザ光源１１からのレーザ光をカ
ライドスコープ１２に入射させる。上記レーザ光とし
て、波長３００〜６００ｎｍのレーザ光、例えばＹＡＧ
レーザの第二高調波（５３２ｎｍ）を用いる場合には、
テクスチャ処理を施すべき基板Ｄに予めＣｒ、Ｃｏ、Ｍ
ｎ等を含む顔料を適当量添加することによりこのガラス
基板を着色し、レーザ光吸収率を高めておくことが好ま
しい。

【００２７】カライドスコープ１２に入射したレーザ光
は、入射口２１ａからカライドミラー２１内に入り、そ
の内壁で繰り返し反射しつつ出射口２１ｂに向けて進
む。この際、レーザ光はカライドミラー２１内で多重反
射しつつ、エネルギー密度が均一な平行光となって出射
口２１ｂから出射する。

【００２８】カライドミラー２１から出射した出射光
は、反射ミラー２２で反射し、この反射光はレンズ２３
を通過し、基板保持装置１３に保持された基板Ｄに向け
て進む。ここで、レンズ２３を経たレーザ光は、ある範
囲、例えば２〜２０ｍｍ四方の範囲の広がりをもった平
行光となる。

【００２９】上記平行化されたレーザ光は、基板保持装
置１３に保持された基板Ｄ表面の所定範囲、例えば２〜
２０ｍｍ四方の範囲に照射される。レーザ光が基板Ｄに
照射されると、基板Ｄ表面付近のごく浅い領域にエネル
ギーが与えられ、この部分の結晶粒部と非晶質部の温度
が上昇する。またこの際、このレーザ光はエネルギー密
度が均一化されたものであるため、レーザ光照射範囲内
の基板表面に偏り無くエネルギーが与えられる。

【００３０】一般に、ガラスは、温度が上昇すると、軟
化すると共に熱膨張によりその体積が増大し、この状態
から急冷すると、体積が減少することなくそのまま硬化
する性質がある。また一般に、結晶化ガラス等の多結晶
体では、結晶粒部と非晶質部とは熱膨張率などの物性が
異なることが多いことが知られている。

【００３１】上記基板Ｄ中の結晶粒部と非晶質部の温度
が上昇すると、これらはそれぞれ軟化すると共に熱膨張
等によりその体積が増大する。この際、結晶粒部と非晶
質部のうち体積変化率の大きいものはより大きく基板表
面から突出する。レーザ光照射により温度上昇が起きる
のは基板Ｄ表面付近のごく浅い領域のみであるため、レ
ーザ光照射終了後の突出部分は外気または熱拡散によっ
て直ちに冷却され、上記結晶粒部および非晶質部はその
体積が減少することなく硬化し、これにより基板Ｄ表面
には複数の突起が形成される。

【００３２】基板Ｄの回転によって上記レーザ光は基板
Ｄの周方向に偏り無く照射され、照射範囲の基板表面に
突起が形成され、テクスチャ処理が施された基板を得
る。なお、上記レーザ光照射の際には、図示せぬマスク
によってレーザ光のビーム形状を、周方向を基板周方向
に一致させた扇形とし、基板面積当たりのレーザ光照射
量が基板径方向に偏ることがないようにするのが好まし
い。また、上記レーザ光は、連続発振されたものであっ
てもよいし、パルス化されたものであってもよい。

【００３３】上記のようにしてテクスチャ処理を施した
基板上に、Ｃｒ、Ｃｒ／Ｔｉ合金などからなる非磁性下
地層、Ｃｏ／Ｃｒ合金、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｔａ合金などから
なる磁性層、カーボンなどからなる保護層をスパッタリ
ング、真空蒸着、イオンプレーティング、メッキなどの
手法により形成する。また保護層上に、パーフルオロポ
リエーテル（ＰＦＰＥ）などからなる潤滑層を設けても
よい。このようにして得られた磁気記録媒体は、基板に
テクスチャ処理が施されたものであるため、その表面に
凹凸を有するものとなる。

【００３４】図３に、上記方法によって製造された磁気
記録媒体の一例を示す。ここに示す磁気記録媒体は、結
晶粒部１が非晶質部２により互いに隔てられた構造を有
する結晶化ガラス基板Ｄの表面に、表面付近の結晶粒部
１が基板Ｄ表面から突出して突起３が形成されたもので
ある。なお、この例の磁気記録媒体は、結晶粒部１が基
板Ｄ表面から突出することにより突起３が形成されたも
のであるが、逆に、非晶質部２が基板Ｄ表面から突出す
ることにより突起が形成されていてもよい。

【００３５】上記製造方法にあっては、ガラス基板Ｄ表
面の所定範囲にレーザ光を照射することにより、レーザ
光照射範囲内に、同時に複数の突起が形成される。これ
ら複数の突起は一定条件下で形成されたものとなるた
め、基板表面に突起を一つずつ形成する従来の方法によ
り形成されたものに比べ、レーザ光出力の変動に起因す
る突起大きさ、形状のばらつきが生じることが無く、均
一な大きさ、形状を有するものとなる。また上記方法に
あっては、レーザ光照射範囲内に同時に複数の突起を形
成するため、短時間のうちに基板にテクスチャ加工を行
うことができる。さらに、結晶化ガラス基板の製造条
件、例えば結晶化時の加熱温度等の設定により結晶粒部
の粒径、単位基板面積当たり個数などを調節すること
で、上記突起の形状、大きさ、単位基板面積当たりの個
数等を任意に設定することができる。従って、均一な高
さを有しかつ直径が小さい突起を磁気記録媒体表面に形
成し、ＣＳＳ特性に優れた磁気記録媒体を製造すること
を可能とすると共に、生産性向上、製造コスト削減を図
ることができる。

【００３６】また、レーザ光を、エネルギー密度が均一
なものとすることによって、レーザ光照射範囲内で基板
に与えられるエネルギーを均一とすることができる。こ
のため、照射範囲内で形成される突起高さのいっそうの
均一化を促すことができる。従って、磁気記録媒体のＣ
ＳＳ特性をさらに向上させることが可能となる。

【００３７】

【実施例】

（実施例１）図１に示す装置を用いて磁気記録媒体を製
造した。レーザ光源１１としてＣＯ₂レーザを用い、繰
り返し周波数５ｋＨｚ、パルス幅３０μｓｅｃ、波長１
０．６μｍのパルスレーザ光をカライドスコープ１２を
通過させエネルギー密度を均一化した上で、基板表面に
照射した。

【００３８】この基板としては、リチウムシリケイト結
晶化ガラス（オハラ社製、ＴＳ−１０、成分比：酸化珪
素７５％、酸化リチウム１０％、酸化アルミニウム４
％、酸化マグネシウム２％、五酸化燐２％）製であり、
結晶粒部の粒径（平均値）が０．５μｍ、その基板単位
面積当たりの個数が１００００００個／ｍｍ²、平均表
面粗さＲａが７Å、最大表面粗さＲｍａｘが８０Åであ
る直径６５ｍｍのものを用いた。レーザ光照射時の基板
回転速度は５００ｒｐｍ、照射時間は２秒とした。基板
上でのレーザパワーは４０Ｗであった。レーザ光照射位
置は、基板上の半径１２〜１６ｍｍの範囲とした。なお
レーザ光は、隣接する照射位置同士に重なりが生じない
ように、ビーム形状を扇形として照射を行った。

【００３９】上記操作の結果、基板表面のレーザ光照射
範囲に、直径０．５〜１．０μｍの突起が形成され、Ｒ
ａ１８Å、Ｒｍａｘ２５０Åとなった基板を得た。

【００４０】上記操作によって得た基板上に、Ｃｒから
なる厚さ１００ｎｍの下地層、ＣｏＣｒＴａ合金からな
る厚さ２０ｎｍの磁性層、カーボンからなる厚さ２０ｎ
ｍの保護層を順次スパッタリングによって設け、その上
にＰＦＰＥ系材料からなる厚さ潤滑層を設け、磁気記録
媒体を得た。得られた磁気記録媒体について、１０００
０回のＣＳＳを行った後のフリクション値をＣＳＳテス
ター（光洋社製、ＫＴ５０１）を用いて測定するＣＳＳ
特性試験を実施した。

【００４１】（実施例２）レーザ光源１１としてＣＯ₂
レーザを用いた図１に示す装置を用い、繰り返し周波数
５０ｋＨｚ、パルス幅１０μｓｅｃの条件で、実施例１
で用いたものと同様の基板上にレーザ光照射を行った。
レーザ光照射位置は実施例１と同様とした。レーザ光照
射時の基板回転速度は１０００ｒｐｍ、照射時間は５秒
とした。基板上でのレーザパワーは２０Ｗであった。上
記操作の結果、レーザ光照射範囲に、直径０．５〜１．
０μｍの突起が形成され、Ｒａ１６Å、Ｒｍａｘ２００
Åとなった基板を得た。この基板上に、実施例１と同様
にして下地層、磁性層、保護層、および潤滑層を設け、
磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体を上記ＣＳＳ特
性試験に供した。

【００４２】（実施例３）レーザ光源１１としてＣＯ₂
レーザを用いた図１に示す装置を用い、繰り返し周波数
５ｋＨｚ、パルス幅３０μｓｅｃの条件で、実施例１で
用いたものと同様の基板上にレーザ光照射を行った。レ
ーザ光照射位置は実施例１と同様とした。レーザ光照射
時の基板回転速度は５００ｒｐｍ、照射時間は５秒とし
た。基板上でのレーザパワーは１０Ｗであった。上記操
作の結果、レーザ光照射範囲に、直径０．５〜１．０μ
ｍの突起が形成され、Ｒａ１６Å、Ｒｍａｘ２２０Åと
なった基板を得た。この基板上に、実施例１と同様にし
て下地層、磁性層、保護層、および潤滑層を設け、磁気
記録媒体を得た。この磁気記録媒体を上記ＣＳＳ特性試
験に供した。

【００４３】（実施例４）レーザ光源１１としてＹＡＧ
レーザを用いた図１に示す装置を用い、繰り返し周波数
５０ｋＨｚ、パルス幅６ｎｓｅｃの条件で、基板上にレ
ーザ光照射を行った。レーザ光照射位置は実施例１と同
様とした。この基板は、結晶粒部の粒径（平均値）が
０．５μｍ、その基板単位面積当たりの個数が１０００
０００個／ｍｍ²、平均表面粗さがＲａ８Å、最大表面
粗さがＲｍａｘ１００Åであるものとした。レーザ光照
射時の基板回転速度は６０ｒｐｍ、照射時間は５秒とし
た。基板上でのレーザパワーは２０Ｗであった。上記操
作の結果、レーザ光照射範囲に、直径０．５〜１．０μ
ｍの突起が形成され、Ｒａ２０Å、Ｒｍａｘ２７０Åと
なった基板を得た。この基板上に、実施例１と同様にし
て下地層、磁性層、保護層、および潤滑層を設け、磁気
記録媒体を得た。この磁気記録媒体を上記ＣＳＳ特性試
験に供した。

【００４４】（比較例１）レーザ光源としてＣＯ₂レー
ザを用い、繰り返し周波数１０ｋＨｚ、パルス幅１０μ
ｓｅｃの条件で基板上にレーザ光照射を行い、高さ２０
０Å、直径１０μｍの突起が形成された基板を得た。こ
の際、入射ビーム径１０ｍｍのレーザ光を焦点距離６
３．５ｍｍのレンズを通して基板表面に照射し照射位置
に突起を１つずつ形成した。またレーザ光照射時の基板
回転速度は２５０ｒｐｍとし、基板を径方向に速度０．
２ｍｍ／ｓで移動させつつ、２０秒間のレーザ光照射を
行うようにした。基板上でのレーザパワーは０．５Ｗで
あった。レーザ光照射範囲は、実施例１と同様とした。
ここで用いた基板は、アルミナシリケイト製非晶質ガラ
スからなる直径６５ｍｍのものとした。上記操作により
得られた基板上に、実施例１と同様にして下地層、磁性
層、保護層、および潤滑層を設け、磁気記録媒体を得
た。この磁気記録媒体を上記ＣＳＳ特性試験に供した。

【００４５】（比較例２）レーザ光源としてＹＡＧ第二
高周波レーザを用い、繰り返し周波数４０ｋＨｚ、パル
ス幅１２０ｎｓｅｃの条件で基板上にレーザ光照射を行
い、高さ２００Å、直径１０μｍの突起が形成された基
板を得た。この際、入射ビーム径１０ｍｍのレーザ光を
焦点距離４０ｍｍのレンズを通して基板表面に照射し照
射位置に突起を１つずつ形成した。またレーザ光照射時
の基板回転速度は２５０ｒｐｍとし、基板を径方向に速
度０．８ｍｍ／ｓで移動させつつ、４秒間のレーザ光照
射を行うようにした。基板上でのレーザパワーは０．３
Ｗであった。ここで用いた基板は、比較例１と同様のも
のとした。上記操作により得られた基板上に、実施例１
と同様にして下地層、磁性層、保護層、および潤滑層を
設け、磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体を上記Ｃ
ＳＳ特性試験に供した。上記実施例１〜４、および比較
例１、２の磁気記録媒体をＣＳＳ特性試験に供した結果
を表１に示す。

【００４６】

【表１】

【００４７】表１に示すように、比較例１、２の磁気記
録媒体に比べ、実施例１〜４の磁気記録媒体は、フリク
ション値が低くＣＳＳ特性に優れたものとなったことが
わかる。

【００４８】以上本発明を実施例に基づいて説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に記載の構成を変更しない限りどのように
でも実施することができる。例えば、基板の上に成膜す
る各層、下地層、磁性膜、保護膜、潤滑剤等は、特にそ
の材質や組成、成膜方法等に限定するものではなく、公
知の材料、公知の方法を適宜に選定、組み合わせて使用
することができる。

【００４９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体の製造方法にあっては、ガラス基板表面の所定範囲
にレーザ光を照射することによりレーザ光照射範囲の基
板表面に複数の突起を同時に形成するので、大きさ、形
状が均一な突起を短時間のうちに形成することができ
る。従って、ＣＳＳ特性に優れた磁気記録媒体を効率よ
く製造することが可能となる。また、レーザ光を、エネ
ルギー密度が均一なものとすることによって、レーザ光
照射範囲内で形成される突起高さのいっそうの均一化を
促し、磁気記録媒体のＣＳＳ特性をさらに向上させるこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形
態を実施するために用いられる製造装置を示す概略構成
図である。

【図２】図１に示す製造装置の要部拡大図である。

【図３】本発明の磁気記録媒体の一例の要部を示す断
面図である。

【符号の説明】

１・・・結晶粒部、２・・・非晶質部、３・・・突起、１１・・・レ
ーザ光源、１２・・・カライドスコープ、Ｄ・・・基板（結晶
化ガラス基板）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】多数の結晶粒部が非晶質部により互いに
隔てられた構造を有する結晶化ガラス基板表面の所定範
囲にレーザ光を照射することにより、レーザ光照射範囲
の基板表面に、結晶粒部または非晶質部が基板表面から
突出した複数の突起状構造体を形成することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法
において、レーザ光を、エネルギー密度が均一化された
ものとすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】請求項１または２記載の磁気記録媒体の
製造方法において、レーザ光を、波長が２００〜６００
ｎｍまたは５０００〜１２０００ｎｍであるものとする
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】多数の結晶粒部が非晶質部により互いに
隔てられた構造を有する結晶化ガラス基板表面に、結晶
粒部または非晶質部が基板表面から突出した突起状構造
体を形成したことを特徴とする磁気記録媒体。