JPS524853B1 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS524853B1 JPS524853B1 JP10428270A JP10428270A JPS524853B1 JP S524853 B1 JPS524853 B1 JP S524853B1 JP 10428270 A JP10428270 A JP 10428270A JP 10428270 A JP10428270 A JP 10428270A JP S524853 B1 JPS524853 B1 JP S524853B1
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Building Environments (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10428270A JPS524853B1 (2) | 1970-11-25 | 1970-11-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10428270A JPS524853B1 (2) | 1970-11-25 | 1970-11-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS524853B1 true JPS524853B1 (2) | 1977-02-08 |
Family
ID=14376555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10428270A Pending JPS524853B1 (2) | 1970-11-25 | 1970-11-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS524853B1 (2) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200136892A (ko) | 2018-03-30 | 2020-12-08 | 타스밋 가부시키가이샤 | 웨이퍼 패턴의 에지와 기준 패턴의 에지와의 괴리량과 기준 패턴의 스페이스 폭과의 관계를 나타내는 보정선을 생성하는 방법 및 장치, 그리고 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 |
-
1970
- 1970-11-25 JP JP10428270A patent/JPS524853B1/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200136892A (ko) | 2018-03-30 | 2020-12-08 | 타스밋 가부시키가이샤 | 웨이퍼 패턴의 에지와 기준 패턴의 에지와의 괴리량과 기준 패턴의 스페이스 폭과의 관계를 나타내는 보정선을 생성하는 방법 및 장치, 그리고 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 |
| US11468555B2 (en) | 2018-03-30 | 2022-10-11 | Tasmit, Inc. | Method and apparatus for generating a correction line indicating relationship between deviation of an edge of a wafer pattern from an edge of a reference pattern and space width of the reference pattern, and a computer-readable recording medium |