JPS58100117A - レ−ザビ−ム走査方法 - Google Patents
レ−ザビ−ム走査方法Info
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- JPS58100117A JPS58100117A JP56199382A JP19938281A JPS58100117A JP S58100117 A JPS58100117 A JP S58100117A JP 56199382 A JP56199382 A JP 56199382A JP 19938281 A JP19938281 A JP 19938281A JP S58100117 A JPS58100117 A JP S58100117A
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- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- MMOXZBCLCQITDF-UHFFFAOYSA-N N,N-diethyl-m-toluamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 MMOXZBCLCQITDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
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- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/0005—Optical objectives specially designed for the purposes specified below having F-Theta characteristic
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、回転多面鏡にレーザビームを入射し、その反
射ビームを像保持体へ照射してレーザ記録を行う場合に
、或いは、上記反)1ビームを原稿へ照射してレーザ読
取を行う場合に、回転多面鏡の倒れ角に起因する走査線
ピップむらを自動的に修正するレーザビーム走査り法に
関し、更に詳しくは、このような走査線ピップむら補正
の際に生ずる湾曲状走査を直線状の走査に補正すること
のできるレーザビーム走Ah法に関するものである。
射ビームを像保持体へ照射してレーザ記録を行う場合に
、或いは、上記反)1ビームを原稿へ照射してレーザ読
取を行う場合に、回転多面鏡の倒れ角に起因する走査線
ピップむらを自動的に修正するレーザビーム走査り法に
関し、更に詳しくは、このような走査線ピップむら補正
の際に生ずる湾曲状走査を直線状の走査に補正すること
のできるレーザビーム走Ah法に関するものである。
例えば、ビーム走査型のレーザプリンタでは、その回転
多面鏡の角度誤差(各反射鏡面と回転軸とのなす角の誤
差及び回転軸の傾斜に起囚暖る角rlL誤差)により、
主走査方向に対して直角の方向におけるビームスポット
の偏位いわゆる走査線ピッチむらが生ずる。このピッチ
むらを画像等に不都合な影響が出ない程度に抑える装置
として、本願出願人は、第1図に示すような、回転多面
鏡の倒れ角を補正するレーザビーム走査装置を、本願と
同日に出願している。第1図において、1はレーザダイ
オードを内部に有した半導体レーザ装置、2は電歪装置
である。この電歪装[2は、印加される電圧に応じて図
の矢印方向に撓むピエゾバイモルフ素子21を使用し、
その先端部側面にミラー22を設け、且つ下端部が保持
部材23に固設されてなるものである。3は回転多面鏡
で、主走査方向Xにレーザビームを走査させるために図
の矢印方向に一定速度で回転するものである。4は副走
査方向Yに回転する円筒状の像保持体(感光体ドラム)
で、この円筒表面は帯電器5により一様に帯電された後
レーザビームの照射により静電潜像が形成される。そし
てこの静電潜像は図示しない現像器、熱定着器−の助け
を借りてハードコピー化されるようになっている。7は
画情報に基づいて半導体レーザ装置1に変調された駆動
電流を与えるなどの種々の機能を有したレーザダイオー
ド駆【装置である。6は走査開始端のレーザビームを検
知し、その出力信号を主走査方向の同期信号としてレー
ザダイオード駆動装置7に与える光検出装置である。こ
の同期信号は各主走査での画情報出り開始点を一定に揃
えるために役立つ信号である。8は回転多面鏡3の各鏡
面の倒れ角に対応した電気信号(1@月)を発生し、電
歪装@2を駆動する制御a装置ぐある。9はレーザビー
ムを像保持体4の表面」−に結像させるためのf・θレ
ンズである。尚、12は半導体レーザ装[1からミラー
22に向かうレーザビーム11の光路上に配置されたレ
ンズ系である。
多面鏡の角度誤差(各反射鏡面と回転軸とのなす角の誤
差及び回転軸の傾斜に起囚暖る角rlL誤差)により、
主走査方向に対して直角の方向におけるビームスポット
の偏位いわゆる走査線ピッチむらが生ずる。このピッチ
むらを画像等に不都合な影響が出ない程度に抑える装置
として、本願出願人は、第1図に示すような、回転多面
鏡の倒れ角を補正するレーザビーム走査装置を、本願と
同日に出願している。第1図において、1はレーザダイ
オードを内部に有した半導体レーザ装置、2は電歪装置
である。この電歪装[2は、印加される電圧に応じて図
の矢印方向に撓むピエゾバイモルフ素子21を使用し、
その先端部側面にミラー22を設け、且つ下端部が保持
部材23に固設されてなるものである。3は回転多面鏡
で、主走査方向Xにレーザビームを走査させるために図
の矢印方向に一定速度で回転するものである。4は副走
査方向Yに回転する円筒状の像保持体(感光体ドラム)
で、この円筒表面は帯電器5により一様に帯電された後
レーザビームの照射により静電潜像が形成される。そし
てこの静電潜像は図示しない現像器、熱定着器−の助け
を借りてハードコピー化されるようになっている。7は
画情報に基づいて半導体レーザ装置1に変調された駆動
電流を与えるなどの種々の機能を有したレーザダイオー
ド駆【装置である。6は走査開始端のレーザビームを検
知し、その出力信号を主走査方向の同期信号としてレー
ザダイオード駆動装置7に与える光検出装置である。こ
の同期信号は各主走査での画情報出り開始点を一定に揃
えるために役立つ信号である。8は回転多面鏡3の各鏡
面の倒れ角に対応した電気信号(1@月)を発生し、電
歪装@2を駆動する制御a装置ぐある。9はレーザビー
ムを像保持体4の表面」−に結像させるためのf・θレ
ンズである。尚、12は半導体レーザ装[1からミラー
22に向かうレーザビーム11の光路上に配置されたレ
ンズ系である。
このような構成において、半導体レーザ装置1より出た
レーザビーム11は、レンズ系12を通過して電歪装置
2のミラー22に入射し、ここで反射した後、回転多面
13に入射づる。
レーザビーム11は、レンズ系12を通過して電歪装置
2のミラー22に入射し、ここで反射した後、回転多面
13に入射づる。
多面11!3での反射ビームは、f・θレンズ9を通っ
て像保持体4の表面に結像する。この結像スポットは画
情報に応じてON・OFF変調させたものであり、この
ON・OFF!f調ビームがX方向に走査され、像保持
体4上に画情報に基づいた静電潜像が形成される。この
場合、制御装置8は電歪装置2のミラー22が第2図に
示すように当該走査鏡面31の倒れ角φと同じ角度に傾
くように当該走査期間中一定の電圧で電歪装置2を駆動
する。そのため、当該走査鏡面31での反射ビームは、
はぼ光軸と平行して「・θレンズ9に入射し、像保持体
4の軸と平行な走査@L上に結像することとなる。
て像保持体4の表面に結像する。この結像スポットは画
情報に応じてON・OFF変調させたものであり、この
ON・OFF!f調ビームがX方向に走査され、像保持
体4上に画情報に基づいた静電潜像が形成される。この
場合、制御装置8は電歪装置2のミラー22が第2図に
示すように当該走査鏡面31の倒れ角φと同じ角度に傾
くように当該走査期間中一定の電圧で電歪装置2を駆動
する。そのため、当該走査鏡面31での反射ビームは、
はぼ光軸と平行して「・θレンズ9に入射し、像保持体
4の軸と平行な走査@L上に結像することとなる。
しかしながら、回転多面鏡3の回転に対して、多面鏡の
一面内においてはミラー22の位置は固定であるため、
像保持体4上では走査ビームは、例えば第3図に示すよ
うに主走査方向と平行でなく、はぼ円弧状の湾曲走査(
点線L’ )となる。例えば、回転多面1i3のある回
転位置での走査ビームが[・θレンズ9の光軸91上に
一致するようにミラー22の倒れ角を定めたとする。そ
して、当該走査鏡面31の倒れ角をφ、回転多面鏡3に
入射するビームとf・θレンズ9の光軸91とのなす角
をα、f・θレンズ9の焦点距離をfとすると、回転多
面113が前記回転位置より回転角θだけ回転したとき
のビームスポットの走査線りからのずれ量Δは次のよう
に表わされる。
一面内においてはミラー22の位置は固定であるため、
像保持体4上では走査ビームは、例えば第3図に示すよ
うに主走査方向と平行でなく、はぼ円弧状の湾曲走査(
点線L’ )となる。例えば、回転多面1i3のある回
転位置での走査ビームが[・θレンズ9の光軸91上に
一致するようにミラー22の倒れ角を定めたとする。そ
して、当該走査鏡面31の倒れ角をφ、回転多面鏡3に
入射するビームとf・θレンズ9の光軸91とのなす角
をα、f・θレンズ9の焦点距離をfとすると、回転多
面113が前記回転位置より回転角θだけ回転したとき
のビームスポットの走査線りからのずれ量Δは次のよう
に表わされる。
Δ−2・f ・φ (COS(α−0> −cos
α)/cos 2 θ・・・・・・ (1)一般に
光学系部品配置上の問題から、αは90度と設定するの
が通常であるので、例えばα−90’ とし、f−25
0mmとすれば、φ・・10秒120秒、30秒の場合
にお番プる回転角θ(度)に対するずれ量Δ(μm)は
、第4図に示すようになる。このずれ量Δはビームスポ
ット径(例えば約100μ霧)に比べ無視できない大き
さで鳴り、記録像が歪んでしまうという問題があった。
α)/cos 2 θ・・・・・・ (1)一般に
光学系部品配置上の問題から、αは90度と設定するの
が通常であるので、例えばα−90’ とし、f−25
0mmとすれば、φ・・10秒120秒、30秒の場合
にお番プる回転角θ(度)に対するずれ量Δ(μm)は
、第4図に示すようになる。このずれ量Δはビームスポ
ット径(例えば約100μ霧)に比べ無視できない大き
さで鳴り、記録像が歪んでしまうという問題があった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたもの・で、その
目的とするところは、このビームスポットの走査1i1
Lからのずれ量を除去できるレーザビーム走査方法を提
供することにある。
目的とするところは、このビームスポットの走査1i1
Lからのずれ量を除去できるレーザビーム走査方法を提
供することにある。
この目的を達成する本発明方法は、当該走査鏡面へ入射
するレーザビームの入射角度を当該走査期間中に適宜に
変化させ、像保持体上でレーザビームを直線状に走査す
るようにしたことを特徴とするものである。
するレーザビームの入射角度を当該走査期間中に適宜に
変化させ、像保持体上でレーザビームを直線状に走査す
るようにしたことを特徴とするものである。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
例えば、t・θレンズ9の光軸91に対する回転多面1
13の各鏡面の倒れ角が、それぞれ第5図の(イ)に示
すような角度であったとする。
13の各鏡面の倒れ角が、それぞれ第5図の(イ)に示
すような角度であったとする。
第1図に示した装置によれば、Ill III装置8の
出力によって偏向する電歪装置12のミラー22の偏向
角(倒れ角)は、第5図の(D)に示すように、同図(
イ)の鏡面の倒れ角と1対1に対応するように駆動され
る。本発明の方法を実施するための装置の概念的構成は
第1図と同じであるが、本発明による制御装置8は、各
走査ごとに前記(1)式で表わされるずれ量Δに対応し
た電圧を発生するように構成した点で、第1図のものと
は異なる。このような制御装置の出力電圧で電歪装置2
を駆動すれば、そのミラー22は、第5図の(ハ)に示
すように、各走査ごとに回転多面113の回転に追従し
て、即ち回転角θに対応して、その偏向角の大きさが減
少するように偏向され、結果としてレーザビームの直線
状走査を得ることができる。第3図及び第4図に示した
走査線L′の一位においては、前記偏向角の大きさは減
少するが、光学系によっては偏向角の大きさを、鏡面の
回転に従い、増大するよう制御する場合もある。
出力によって偏向する電歪装置12のミラー22の偏向
角(倒れ角)は、第5図の(D)に示すように、同図(
イ)の鏡面の倒れ角と1対1に対応するように駆動され
る。本発明の方法を実施するための装置の概念的構成は
第1図と同じであるが、本発明による制御装置8は、各
走査ごとに前記(1)式で表わされるずれ量Δに対応し
た電圧を発生するように構成した点で、第1図のものと
は異なる。このような制御装置の出力電圧で電歪装置2
を駆動すれば、そのミラー22は、第5図の(ハ)に示
すように、各走査ごとに回転多面113の回転に追従し
て、即ち回転角θに対応して、その偏向角の大きさが減
少するように偏向され、結果としてレーザビームの直線
状走査を得ることができる。第3図及び第4図に示した
走査線L′の一位においては、前記偏向角の大きさは減
少するが、光学系によっては偏向角の大きさを、鏡面の
回転に従い、増大するよう制御する場合もある。
尚、(1)式の回転角θに対するずれ崩へは実際には非
線形であり、これに対応する非線形の出力電圧を発生す
るためには制御装置が極めて複雑な構成となる。実用上
は(1)式に代えて、Δakθ(但し、kはf、φ、α
で決まる定数)の近似式を用いてもよい。第6図は、こ
のような近似式で表わされるビームスポットの主走査線
りからのずれ量Δに対応する電圧を発生するためのtl
lJ御装置の出力段回路構成図であるd同図において、
61は積分器、63は加算増幅器であるン積分器61は
走査開始時点に当該走査鏡面の倒れ角に対応して選択さ
れた電圧E1を積分し、積分電圧E1− (−Ei /
CR)・t (但し、CRは積分器の時定数、tは積分
時間)を出力する。又、積分器61は各走査が終わるご
とにスイッチ62により出力電圧がリセットされるよう
になっている。加算増幅器63は、このような積分電圧
E1と前記電圧Eiとを加算・増幅するもので、各抵抗
の定数を同一に定めることにより Eo −Ei (1−t /CR) で示される出力電圧EOを、得るものである。
線形であり、これに対応する非線形の出力電圧を発生す
るためには制御装置が極めて複雑な構成となる。実用上
は(1)式に代えて、Δakθ(但し、kはf、φ、α
で決まる定数)の近似式を用いてもよい。第6図は、こ
のような近似式で表わされるビームスポットの主走査線
りからのずれ量Δに対応する電圧を発生するためのtl
lJ御装置の出力段回路構成図であるd同図において、
61は積分器、63は加算増幅器であるン積分器61は
走査開始時点に当該走査鏡面の倒れ角に対応して選択さ
れた電圧E1を積分し、積分電圧E1− (−Ei /
CR)・t (但し、CRは積分器の時定数、tは積分
時間)を出力する。又、積分器61は各走査が終わるご
とにスイッチ62により出力電圧がリセットされるよう
になっている。加算増幅器63は、このような積分電圧
E1と前記電圧Eiとを加算・増幅するもので、各抵抗
の定数を同一に定めることにより Eo −Ei (1−t /CR) で示される出力電圧EOを、得るものである。
この電圧Eoは各走査ごとに初期値Eiよりその絶対値
が直線的に減少する電圧であって、このような電圧で電
歪装置l12を駆動することにより、ずれ置Δを補正し
、レーザビームを直線状に走査させることができる。
が直線的に減少する電圧であって、このような電圧で電
歪装置l12を駆動することにより、ずれ置Δを補正し
、レーザビームを直線状に走査させることができる。
尚、実施例では、回転多面鏡の倒れ角を補正するための
手段として電歪装置を使用した場合を示したが、電歪装
置に代えて音響光学素子を用いて回転多面鏡への入射ビ
ーム角度を補正することもできる。そして、このような
場合にも当然に本発明方法を適用することができる。
手段として電歪装置を使用した場合を示したが、電歪装
置に代えて音響光学素子を用いて回転多面鏡への入射ビ
ーム角度を補正することもできる。そして、このような
場合にも当然に本発明方法を適用することができる。
又、上記説明は、感光体ドラムを用いたレーザプリンタ
についての説明であったが、他のレーザ記録或いはレー
ザ読取についても、本発明方法を適用できる。従って、
本発明方法にお$7る被走査面は、光導電性絶縁体(セ
レン、0()c、7n O,アモルファスシリコン等〉
を(1する感光体に限らず、銀塩感光材料、感光性樹脂
。
についての説明であったが、他のレーザ記録或いはレー
ザ読取についても、本発明方法を適用できる。従って、
本発明方法にお$7る被走査面は、光導電性絶縁体(セ
レン、0()c、7n O,アモルファスシリコン等〉
を(1する感光体に限らず、銀塩感光材料、感光性樹脂
。
熱可塑性物質等の感熱記録材等、種々のものC・形成さ
れることになる。
れることになる。
以上説明したように、本発明によれば、回転多面鏡への
入射ビーム角度を補正する際に結果として生ずるレーザ
ビ・−ムの湾曲状走査を容易に補正して直線状走査とす
ることができる。
入射ビーム角度を補正する際に結果として生ずるレーザ
ビ・−ムの湾曲状走査を容易に補正して直線状走査とす
ることができる。
第1図は回転多面鏡の倒れ角を補正するレーザビーム走
査装置を包含したレーザプリンタの構成図、第2図は走
査鏡面の倒れ角を補正する方法の説明図、第3図は第1
図装置でのレーザビームの走査態様を示す・説明図、第
4図はずれ量Δを示す説明図、第5図は走査鏡面の倒れ
角とミラーの偏向角を示す□説明図、第6図は回転多面
鏡の回転に追従して変化する電圧を発生するための回路
の構成図である。 2・・・電歪装置I 22・・・ミラー3・・・
回転多面14・・・像保持体 8・・・制御装置 9・・・f・θレンズ61・
・・積分器 63・・・加算増幅器特許出願人
小西六写真工業株式会社代 理 人 弁理士
井 島 藤 治′p51図 篤5図 第6図 1
査装置を包含したレーザプリンタの構成図、第2図は走
査鏡面の倒れ角を補正する方法の説明図、第3図は第1
図装置でのレーザビームの走査態様を示す・説明図、第
4図はずれ量Δを示す説明図、第5図は走査鏡面の倒れ
角とミラーの偏向角を示す□説明図、第6図は回転多面
鏡の回転に追従して変化する電圧を発生するための回路
の構成図である。 2・・・電歪装置I 22・・・ミラー3・・・
回転多面14・・・像保持体 8・・・制御装置 9・・・f・θレンズ61・
・・積分器 63・・・加算増幅器特許出願人
小西六写真工業株式会社代 理 人 弁理士
井 島 藤 治′p51図 篤5図 第6図 1
Claims (2)
- (1) 回転多面鏡にレーザビームを入射し、その反、
射ビームで走査を行い、前記回転多面鏡の各面へのレー
ザビーム入射角度を制御することによって倒れ商補正を
行うレーザビーム走査方法において、前記入射角度を当
該主走査期間中に変化させ、レーザビームが被走査面上
で直線状の走査となるようにしたことを特徴とするレー
ザビーム走査方法。 - (2) 前記入射角度を回転多面鏡の回転に追従して減
少又は増加するように変化させることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のレーザビーム走査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56199382A JPS58100117A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | レ−ザビ−ム走査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56199382A JPS58100117A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | レ−ザビ−ム走査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58100117A true JPS58100117A (ja) | 1983-06-14 |
| JPH0381134B2 JPH0381134B2 (ja) | 1991-12-27 |
Family
ID=16406830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56199382A Granted JPS58100117A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | レ−ザビ−ム走査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58100117A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01237513A (ja) * | 1987-05-13 | 1989-09-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 光ビーム偏向走査装置 |
| EP0704738A1 (en) * | 1994-09-28 | 1996-04-03 | Scitex Corporation Ltd. | A facet inaccuracy compensation unit |
| JP2009151312A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Palo Alto Research Center Inc | アクティブラスタ走査のエラー修正のための走査ビームステアリングミラーアセンブリ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56102821A (en) * | 1980-01-18 | 1981-08-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Correction method for ununiformity of scanning line interval in light beam scanning |
-
1981
- 1981-12-09 JP JP56199382A patent/JPS58100117A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56102821A (en) * | 1980-01-18 | 1981-08-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Correction method for ununiformity of scanning line interval in light beam scanning |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01237513A (ja) * | 1987-05-13 | 1989-09-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 光ビーム偏向走査装置 |
| EP0704738A1 (en) * | 1994-09-28 | 1996-04-03 | Scitex Corporation Ltd. | A facet inaccuracy compensation unit |
| JP2009151312A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | Palo Alto Research Center Inc | アクティブラスタ走査のエラー修正のための走査ビームステアリングミラーアセンブリ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0381134B2 (ja) | 1991-12-27 |
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