JPS58100853A - 板材相互の位置合わせ装置 - Google Patents
板材相互の位置合わせ装置Info
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- JPS58100853A JPS58100853A JP56200749A JP20074981A JPS58100853A JP S58100853 A JPS58100853 A JP S58100853A JP 56200749 A JP56200749 A JP 56200749A JP 20074981 A JP20074981 A JP 20074981A JP S58100853 A JPS58100853 A JP S58100853A
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- Japan
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発−の技術分野
本発明は、例えばブラウン管用レヤドウマスクの露光に
用いられるガラスネガ乾板のよ５ｋ、板面が亙いに対内
する如く配置される！秋の板材の一方一に＆５相１位置
を所定の関係に位置会わせする板材＃ＡＩの位置会わせ
装置に−する。
用いられるガラスネガ乾板のよ５ｋ、板面が亙いに対内
する如く配置される！秋の板材の一方一に＆５相１位置
を所定の関係に位置会わせする板材＃ＡＩの位置会わせ
装置に−する。
発明の技術的背景
一般に、シャドウマス゛りの露光装置では、レヤドウマ
スクとなる薄い鉄板の表裏両１１に感光物質の膜を形成
し、その両面にガラスネガ乾板を重ね舎わせて両面を露
光している。この場合、表裏に位置するガラスネガ乾板
の整合精度が高くないと、表裏の露光パターンがずれて
しまう、このため後工１で腐食穿孔によりスリット孔を
形成した場合、孔位置がずれた°す、孔面積が所期のも
のと異なったり、孔形状が変形したらして不良品になる
・このように、４枚のガラスネガ乾板の位置決め精度は
製品の歩留りおよび品質上の重要な因子である。
スクとなる薄い鉄板の表裏両１１に感光物質の膜を形成
し、その両面にガラスネガ乾板を重ね舎わせて両面を露
光している。この場合、表裏に位置するガラスネガ乾板
の整合精度が高くないと、表裏の露光パターンがずれて
しまう、このため後工１で腐食穿孔によりスリット孔を
形成した場合、孔位置がずれた°す、孔面積が所期のも
のと異なったり、孔形状が変形したらして不良品になる
・このように、４枚のガラスネガ乾板の位置決め精度は
製品の歩留りおよび品質上の重要な因子である。
従来、２枚のガラスネガ乾板の位置会す甘は、２枚のガ
ラスネガ乾板上に用意された位置会わ着用の十字線を、
作業者が顕微鏡で目視し、そのずれ量を判定しながら位
置調整用の送りねじを一転操作するなどし【行っていた
。
ラスネガ乾板上に用意された位置会わ着用の十字線を、
作業者が顕微鏡で目視し、そのずれ量を判定しながら位
置調整用の送りねじを一転操作するなどし【行っていた
。
背景技術の間層点
しかし、上述のような位置合わせ方法では、作業に多く
の時間を必要とする。また焦点織度の間層や視野の間層
、光量の問題等により、高脩率の顕微鏡を用いることが
できない、このためｆｆｉ＠Ｐｇ程度の調定精度しか得
ることができず、高精細度なレヤドウマスクを得る上で
大きな障害となって〜また１゜ 発明の目的 本発明の目的は、２枚の板材ＫＩいに対内す番整合パタ
ーンを設け、かつそれらの重なり部分の面積が板材のず
れ量に応じ【変化するように形成し、上記型なり部分の
面積を光学的Ｋ１１ｌｌ定して板材のずれ量を検出する
ように構成したことｋより、板材相互の整合精度を高゛
くでき、しかも位置会すせ作業が容易になる板材相互の
位置合わせ装置を提供することにある。
の時間を必要とする。また焦点織度の間層や視野の間層
、光量の問題等により、高脩率の顕微鏡を用いることが
できない、このためｆｆｉ＠Ｐｇ程度の調定精度しか得
ることができず、高精細度なレヤドウマスクを得る上で
大きな障害となって〜また１゜ 発明の目的 本発明の目的は、２枚の板材ＫＩいに対内す番整合パタ
ーンを設け、かつそれらの重なり部分の面積が板材のず
れ量に応じ【変化するように形成し、上記型なり部分の
面積を光学的Ｋ１１ｌｌ定して板材のずれ量を検出する
ように構成したことｋより、板材相互の整合精度を高゛
くでき、しかも位置会すせ作業が容易になる板材相互の
位置合わせ装置を提供することにある。
発−の概要
本′ｇ＆明は、板面が亙いに対内する如く配置１Ｌれた
２秋の板材の層方向ｋＷａう相夏位蓋を所定の関係に位
置会わせするものにおいて、いずれか一方の板材にその
面方向に沿う亙いに直角を威す１方陶およびＹ方向に向
ってそれでれ形成されたテーパ状を威す才１の整合パタ
ーンと、他方の板材の上記才１の整合パターンと対内す
るそれぞれの部分く配置され長辺が上記才１の整合パタ
ーンのテーパ方向と交差するよ５Ｋｙ＃成された才２０
整舎パターンと、これら才１、ｆ２の鼓合パターン椙互
の重なり部分の阿積を光学的ＫＩｌ定し電気信号に蜜摸
するセンサーと、このセンサーからの電気信号、を受は
設定値または別に設けた基準パターンの面積に相当する
電気信号との差の大きさｋより前記板材相互・のずれ量
を検出するずれ検出装置とを備えたことを特徴とする板
材榴夏の位置合わせ装置にある。
２秋の板材の層方向ｋＷａう相夏位蓋を所定の関係に位
置会わせするものにおいて、いずれか一方の板材にその
面方向に沿う亙いに直角を威す１方陶およびＹ方向に向
ってそれでれ形成されたテーパ状を威す才１の整合パタ
ーンと、他方の板材の上記才１の整合パターンと対内す
るそれぞれの部分く配置され長辺が上記才１の整合パタ
ーンのテーパ方向と交差するよ５Ｋｙ＃成された才２０
整舎パターンと、これら才１、ｆ２の鼓合パターン椙互
の重なり部分の阿積を光学的ＫＩｌ定し電気信号に蜜摸
するセンサーと、このセンサーからの電気信号、を受は
設定値または別に設けた基準パターンの面積に相当する
電気信号との差の大きさｋより前記板材相互・のずれ量
を検出するずれ検出装置とを備えたことを特徴とする板
材榴夏の位置合わせ装置にある。
発明の実施例
以下本発明の一１Ｉ論例をＥ面を参照して説−する、な
お、本実施例では、位置会すせ対象とな番２枚の板材と
して、前述したレヤドウマスク露党用の表裏２秋のガラ
スネガ乾板（以下単に乾板と呼ぶ）を例にして説明する
。
お、本実施例では、位置会すせ対象とな番２枚の板材と
して、前述したレヤドウマスク露党用の表裏２秋のガラ
スネガ乾板（以下単に乾板と呼ぶ）を例にして説明する
。
才１図は一方の乾板４１１に設けられる才１の整合パタ
ーンとしての、？１の整合ｇａｓを示しており、図示の
如くテーパ状（ＩＩＩの儒では１角形状）ｋ形成される
。矛！図は他方の乾板ａｓｋ設けられるスリット状の才
！の整合パターンとしての矛２の整４ＨＩｔａ４ｔ’ｌ
”ｔｔ コｔＬう？ １ 、？ １１’）１１合１！（
１１ａ４に！、両乾板Ｑｆｉａｌの互いに対向する部分
に配量してあり、矛墨図で示すように互いに重なり゛合
う、ここで、才！の壷金１ａ４４才１の整合窓ｌに対し
、スリット状を成す長辺がテーパ方向と交差するように
形成する。９１って両乾板Ｑｌｌ（１１がテーパ方向、
すなわち図示上下方向にずれると、そのずれ量に応じて
重なり部分の面積が変化する。
ーンとしての、？１の整合ｇａｓを示しており、図示の
如くテーパ状（ＩＩＩの儒では１角形状）ｋ形成される
。矛！図は他方の乾板ａｓｋ設けられるスリット状の才
！の整合パターンとしての矛２の整４ＨＩｔａ４ｔ’ｌ
”ｔｔ コｔＬう？ １ 、？ １１’）１１合１！（
１１ａ４に！、両乾板Ｑｆｉａｌの互いに対向する部分
に配量してあり、矛墨図で示すように互いに重なり゛合
う、ここで、才！の壷金１ａ４４才１の整合窓ｌに対し
、スリット状を成す長辺がテーパ方向と交差するように
形成する。９１って両乾板Ｑｌｌ（１１がテーパ方向、
すなわち図示上下方向にずれると、そのずれ量に応じて
重なり部分の面積が変化する。
ここで、本発明は上記型なり部分り面積な光学的Ｋ１１
ｌ定すゐので、上記才１、才２の整合＊ａコａ◆は透光
性とし、その周囲は非透光性とする。なお、乾板ａｌｌ
ＱＩ廁体はガラス等の透光体で構わず、上記整合ｔａａ
ｓａａの周囲のみ非透光性とすればよい。
ｌ定すゐので、上記才１、才２の整合＊ａコａ◆は透光
性とし、その周囲は非透光性とする。なお、乾板ａｌｌ
ＱＩ廁体はガラス等の透光体で構わず、上記整合ｔａａ
ｓａａの周囲のみ非透光性とすればよい。
才４ｇは２枚の乾板ａｎａｓを実際に位置会わせしてい
る状■を示す、Ｉｌｋおいて翰は支持枠で、宜枚の乾Ｉ
１１口ａｓの外周を囲むように設けられ、これら乾板ａ
カ錦を保持する。ここで、一方の乾板鉦珍は上記支持枠
−にで一走する。これに対し、他方の乾板（ｌｊはその
ＷｉＪ示上辺および左側辺と前記支持枠−との間にばね
１１ηを★奄させ、かつ下辺および婁側辺は支持枠Ｑ・
から集画するマイクロメークヘラＦｕｋて支持する。従
ってこれらマイクロメータヘッド舖の軸部の進退に伴い
、面方向に＆ういずれの方向にも位置調整することが工
部である。上記マイクロメークヘラＦＩＬ―はそれでれ
畳−タ＠Ｃ珍■と一体的に結合しており、その回転Ｋ１
１ｌｋい軸−が進退動作す番。
る状■を示す、Ｉｌｋおいて翰は支持枠で、宜枚の乾Ｉ
１１口ａｓの外周を囲むように設けられ、これら乾板ａ
カ錦を保持する。ここで、一方の乾板鉦珍は上記支持枠
−にで一走する。これに対し、他方の乾板（ｌｊはその
ＷｉＪ示上辺および左側辺と前記支持枠−との間にばね
１１ηを★奄させ、かつ下辺および婁側辺は支持枠Ｑ・
から集画するマイクロメークヘラＦｕｋて支持する。従
ってこれらマイクロメータヘッド舖の軸部の進退に伴い
、面方向に＆ういずれの方向にも位置調整することが工
部である。上記マイクロメークヘラＦＩＬ―はそれでれ
畳−タ＠Ｃ珍■と一体的に結合しており、その回転Ｋ１
１ｌｋい軸−が進退動作す番。
前記オｉｍｌ、矛！図、１１図で示したす１、才２の整
合窓Ｈａ４４家、乾板−ａｎ ａｓ ＃）＊方向ＫＧ５
あらゆる方向のずれを検出するため、Ｘ方向（Ｉｔ示水
平方向）用およびこれと直角を成すＹ方向（ＩＩ示上下
方向）用として２組設ける。すなわちＸ方向用のものは
才１の整合窓αりのテーパ方向が図示左右方向となり、
Ｙ方向用のものは岡テーパ方向が図示上下方向となるよ
うに影威する。もちろん、矛！の整合１ｍａ４はその長
辺が才１１図で示すよ５に、対応するｆｌの整合Ｓａ３
のテーパ方向と交差する如く、１方内用のものは図示上
下方向に、Ｘ方向用のものは図示左右方向に形成する。
合窓Ｈａ４４家、乾板−ａｎ ａｓ ＃）＊方向ＫＧ５
あらゆる方向のずれを検出するため、Ｘ方向（Ｉｔ示水
平方向）用およびこれと直角を成すＹ方向（ＩＩ示上下
方向）用として２組設ける。すなわちＸ方向用のものは
才１の整合窓αりのテーパ方向が図示左右方向となり、
Ｙ方向用のものは岡テーパ方向が図示上下方向となるよ
うに影威する。もちろん、矛！の整合１ｍａ４はその長
辺が才１１図で示すよ５に、対応するｆｌの整合Ｓａ３
のテーパ方向と交差する如く、１方内用のものは図示上
下方向に、Ｘ方向用のものは図示左右方向に形成する。
またこれら才１、ｔｔの整合１１８り傷◆は図示被纏で
示したレヤドウマスクの露光パターン領域外の例えば左
上隅部に設ける。原理的には、上記ｘ、Ｙ両方角眉とし
て設けた２＃ＩＦ）４１合１１ａコａ４の組合わせｋて
面方向のずれを検出で會るが、本実施例では位置合わせ
精度をより高くするため、図示右下隅ｍａｙ方肉用とし
て１組の整合窓Ｂ２ Ｑ４の組合わせを設け【いる、■
は基準パターンとしての基準電で、いずれか一方の乾板
、例えばＩの、上記整合ＩＩ［６４近くに設ける。なお
、この基準窓ｒ＃および才１、才２の整合ＩＩａり０１
寡、２−以内の位置精度および寸法精度で形成すること
が可能である。
示したレヤドウマスクの露光パターン領域外の例えば左
上隅部に設ける。原理的には、上記ｘ、Ｙ両方角眉とし
て設けた２＃ＩＦ）４１合１１ａコａ４の組合わせｋて
面方向のずれを検出で會るが、本実施例では位置合わせ
精度をより高くするため、図示右下隅ｍａｙ方肉用とし
て１組の整合窓Ｂ２ Ｑ４の組合わせを設け【いる、■
は基準パターンとしての基準電で、いずれか一方の乾板
、例えばＩの、上記整合ＩＩ［６４近くに設ける。なお
、この基準窓ｒ＃および才１、才２の整合ＩＩａり０１
寡、２−以内の位置精度および寸法精度で形成すること
が可能である。
次に１才ｌ５ｉｌＫより、前記才１、才２の整合窓ａＳ
ａ尋の重なり部分の面積を光学的に一定する構成を説
明する０図において、（至）は固定用の光源で。
ａ尋の重なり部分の面積を光学的に一定する構成を説
明する０図において、（至）は固定用の光源で。
一方の乾４１［ａＩｌの褒−儒に配置され、矛１、才！
の整合１！Ｑ３（Ｊ４および基準１１（２４に対して共
通の一定光を発する。＠はＹ軸層のセンサー、四はＸ軸
層のセンシー、（至）は基準用のセンサーで、それぞれ
対応する整合窓ｌａ４または、基準電（財）を透過した
党を受け、その透過面積、すなわち透過光量に対応した
電気信号を生じる。なお、（２）（至）は共にフィルタ
ーで、外乱光の影譬を防止するためのものであ番。
の整合１！Ｑ３（Ｊ４および基準１１（２４に対して共
通の一定光を発する。＠はＹ軸層のセンサー、四はＸ軸
層のセンシー、（至）は基準用のセンサーで、それぞれ
対応する整合窓ｌａ４または、基準電（財）を透過した
党を受け、その透過面積、すなわち透過光量に対応した
電気信号を生じる。なお、（２）（至）は共にフィルタ
ーで、外乱光の影譬を防止するためのものであ番。
才６ｉｌｌは本薙明に用いるずれ検出装置（財）を示す
。
。
図においズ、（至）（至）（至）は矛５図で示したセン
サーで、才４１１における左上隅部に設けたＹ軸層、Ｘ
軸層のそれぞれの整合ＷａＳα４および基準１勾からの
対応する透過光を受ける。ａｓａｅも共にセンを−で、
矛４ＥＫおける右下隅部に設けたＹ軸層整合−〇〇４お
よび基準電（財）からの対応する透過光を受ける。
サーで、才４１１における左上隅部に設けたＹ軸層、Ｘ
軸層のそれぞれの整合ＷａＳα４および基準１勾からの
対応する透過光を受ける。ａｓａｅも共にセンを−で、
矛４ＥＫおける右下隅部に設けたＹ軸層整合−〇〇４お
よび基準電（財）からの対応する透過光を受ける。
上記各センサー＠＠■＠−からの電気信号はそれぞれ増
幅器（至）を介し【対応する割算器−■−に加えられる
。これら割算器−ＭＩ）４１Ｌ１はそれぞれ基準用のセ
ンサー翰または（至）からの信号を分母とし、分子とし
てはＴ軸層又はＸ軸層のセンサー＠ＯＩ＠からの信号を
入力する。（４ｓはゲートで、後述する中央演算処理装
置（以下ＣＰＵと呼ぶ）−の指示により、取り込、む信
号を決定し、Ａ／Ｄ変換器−を介してＣＰＵ四に入力さ
せる。ＣＰＵ（４％はゲート−により取９込んだずれＫ
ｍするデータ、すなわち前記割算器（４０（４１（ｄか
ら生じる出力をもとにして演算を行い、乾板Ｉの移動量
を決定する。＠−一はドライブ回路で、才４１１″ｅ＠
した畳−夕（２）＠鶴に対応して設けられ、ＣＰＵ−が
決定した乾板ａｓの移動量に基づき対応する畳−夕を所
定量駆動する。
幅器（至）を介し【対応する割算器−■−に加えられる
。これら割算器−ＭＩ）４１Ｌ１はそれぞれ基準用のセ
ンサー翰または（至）からの信号を分母とし、分子とし
てはＴ軸層又はＸ軸層のセンサー＠ＯＩ＠からの信号を
入力する。（４ｓはゲートで、後述する中央演算処理装
置（以下ＣＰＵと呼ぶ）−の指示により、取り込、む信
号を決定し、Ａ／Ｄ変換器−を介してＣＰＵ四に入力さ
せる。ＣＰＵ（４％はゲート−により取９込んだずれＫ
ｍするデータ、すなわち前記割算器（４０（４１（ｄか
ら生じる出力をもとにして演算を行い、乾板Ｉの移動量
を決定する。＠−一はドライブ回路で、才４１１″ｅ＠
した畳−夕（２）＠鶴に対応して設けられ、ＣＰＵ−が
決定した乾板ａｓの移動量に基づき対応する畳−夕を所
定量駆動する。
上記構成において、２秋の乾板ａ曹０の位置会わせを行
う場合は、先ず才４図で示すように、一方の乾板ａ論を
支持枠組・Ｋｌｌ定し、他方の乾板ａｓをばね（ｌｆｆ
ｉおよびマイクロメータヘラＦ（１＠により位置調整可
＊＠に支持する。この＃態で両乾板（ｌｌｌａｌのＩい
に対向する才１、才２の整合１１！俣りａ４および基準
１＠に対し、矛島図で示す光源（ハ）から−走用の光を
照射する。この光は才１、才！の整合窓ａｓａａの重な
り部を通り、或いは基準１１０４を通って対応するセン
サー＠＠０Ｉ（至）ＯＩＫ達する。上記才唱、才１の整
合１ｍ ｆｉ３ ａ４の重なり部は、前述のように、乾
板龜鯵０が夏いｋずれているとそのずれた分だ珍聞積が
変化する。従って、対応するセンサー＠ｅｌＩ（至）ｋ
加わＴｏ党量もずれ分だけ炭化する。これに対し、基準
＊ｈは當に一定面積なので、対応するセンサー＠ＷＸ加
わる光量−一定である。ここで、基準−（財）の面積を
、両乾板ａＩｓの相互位置が一歇したときの前記型なり
部分の面積と等しく設定しておくと、両転板ａυ、（＋
１の相互位置が一致した場合は、各センサー＠＠ＯＩ（
至）（至）ｋ加わる光量は等しくなる。
う場合は、先ず才４図で示すように、一方の乾板ａ論を
支持枠組・Ｋｌｌ定し、他方の乾板ａｓをばね（ｌｆｆ
ｉおよびマイクロメータヘラＦ（１＠により位置調整可
＊＠に支持する。この＃態で両乾板（ｌｌｌａｌのＩい
に対向する才１、才２の整合１１！俣りａ４および基準
１＠に対し、矛島図で示す光源（ハ）から−走用の光を
照射する。この光は才１、才！の整合窓ａｓａａの重な
り部を通り、或いは基準１１０４を通って対応するセン
サー＠＠０Ｉ（至）ＯＩＫ達する。上記才唱、才１の整
合１ｍ ｆｉ３ ａ４の重なり部は、前述のように、乾
板龜鯵０が夏いｋずれているとそのずれた分だ珍聞積が
変化する。従って、対応するセンサー＠ｅｌＩ（至）ｋ
加わＴｏ党量もずれ分だけ炭化する。これに対し、基準
＊ｈは當に一定面積なので、対応するセンサー＠ＷＸ加
わる光量−一定である。ここで、基準−（財）の面積を
、両乾板ａＩｓの相互位置が一歇したときの前記型なり
部分の面積と等しく設定しておくと、両転板ａυ、（＋
１の相互位置が一致した場合は、各センサー＠＠ＯＩ（
至）（至）ｋ加わる光量は等しくなる。
このため各割算ＩＩ Ｍ （４１） （４ａは分子、分
母が同人力となり、その比率は＠１′″となる。これに
対し、乾板ｕａｉ間にずれがあると、当然型なり部用の
センサー＠Ｏｎ（至）と基阜癲篩のセンサー＠（至）と
では受光光量が異なり、各割算器（至）＠ａｎ＜おける
分子、分母の比率は＠１“にならない、ＣＰＵ＠はゲー
トるために要する乾ＷａＳの移動量を演算する。そして
ずれの生じている方向、例えばＸ方向であれば、Ｘ方向
移動用畳−タｇＩＪｔ−ドライブ回路四を介して駆動し
、乾板ａｊを重畳量移動させる。この動作は他の方向に
ついても同じである。
母が同人力となり、その比率は＠１′″となる。これに
対し、乾板ｕａｉ間にずれがあると、当然型なり部用の
センサー＠Ｏｎ（至）と基阜癲篩のセンサー＠（至）と
では受光光量が異なり、各割算器（至）＠ａｎ＜おける
分子、分母の比率は＠１“にならない、ＣＰＵ＠はゲー
トるために要する乾ＷａＳの移動量を演算する。そして
ずれの生じている方向、例えばＸ方向であれば、Ｘ方向
移動用畳−タｇＩＪｔ−ドライブ回路四を介して駆動し
、乾板ａｊを重畳量移動させる。この動作は他の方向に
ついても同じである。
上記説明では、基準ａｈの面積を両転ＩＩｊＬｎａｗの
相互位置が一致したとき°の重なり部分の面積と等しく
設定したが、必ずしも上記同面積を等しく設定する必要
はなく、異なる面積であってもよい。
相互位置が一致したとき°の重なり部分の面積と等しく
設定したが、必ずしも上記同面積を等しく設定する必要
はなく、異なる面積であってもよい。
この場合、両転板０υαｊの相互位置が一致しても、各
割算ＩＩ（４０（ロ）−における分子と分母の比率は＠
１′″にならないが、予め、上記相互位置が一致したと
きの比率を求めておき、これをｃｐｔｒ四に記憶させて
おけば、両転板ａｆｉａｌのずれに対し、各割算−＠＊
伽珍−の分子、分母の比率が上記配憶された比率となる
ように乾板ａ１の移動量を演算するので何ら問題はない
。
割算ＩＩ（４０（ロ）−における分子と分母の比率は＠
１′″にならないが、予め、上記相互位置が一致したと
きの比率を求めておき、これをｃｐｔｒ四に記憶させて
おけば、両転板ａｆｉａｌのずれに対し、各割算−＠＊
伽珍−の分子、分母の比率が上記配憶された比率となる
ように乾板ａ１の移動量を演算するので何ら問題はない
。
また、基準ＩＩｔ＃及びそのセンサー＠（至）、さらｋ
“−算器−４１珍−を用いずに、才１、才２０
壷舎璽口０４の重なり５ｗ１ｉ積のデータをＣＰＵ＠に
とり込むよ５Ｋしても、同じ目的を達成することができ
る。
“−算器−４１珍−を用いずに、才１、才２０
壷舎璽口０４の重なり５ｗ１ｉ積のデータをＣＰＵ＠に
とり込むよ５Ｋしても、同じ目的を達成することができ
る。
この場合、ＣＰＵ−には両転板ａｎ ｕの相互位置が一
致した時の上記型なりｌｌ５Ｗｉ積の値を、予め設定値
として記憶させておく、このようにすれば、ＣＰＵ−は
６方・向につき、対応するセンサー＠（：１Ｊ（８から
取り込まれる重なり部分の面積と設電値とを比較し、こ
の設定値との−が零となるよ５な乾板ａ３の移動量を演
算により決定する。その後の動作は前述の場合と同じで
あり、両転板甑１１０の相互間を一致させることができ
る。
致した時の上記型なりｌｌ５Ｗｉ積の値を、予め設定値
として記憶させておく、このようにすれば、ＣＰＵ−は
６方・向につき、対応するセンサー＠（：１Ｊ（８から
取り込まれる重なり部分の面積と設電値とを比較し、こ
の設定値との−が零となるよ５な乾板ａ３の移動量を演
算により決定する。その後の動作は前述の場合と同じで
あり、両転板甑１１０の相互間を一致させることができ
る。
また前記説明は、いずれ４才１、才２０整合−１３（１
４および基準１Ｉｌｏ４を透光性のものとしたが、整合
＊ａりａ４のいずれか一方、および基準＊ｏ４を反射面
にしてもよい、＃１えば、才す図で示した整合量ａ４お
よび基準１１（財）を反射１ｉｆＫＬ、、その周一を伸
度射面とする。この場合、矛１の整合ｗｎｔｍａｓを透
過し、才２の整合反射面、Ｉで反射した光が、重なり部
分の面積に対応する。また、一方の乾板０の透明部分を
透過し、基準反射ｗｈで反射した光が、基準パターンの
面積に対応する。もちろん、各センサー＠＠（至）は上
記反射光を受けるよ５に配置する。
４および基準１Ｉｌｏ４を透光性のものとしたが、整合
＊ａりａ４のいずれか一方、および基準＊ｏ４を反射面
にしてもよい、＃１えば、才す図で示した整合量ａ４お
よび基準１１（財）を反射１ｉｆＫＬ、、その周一を伸
度射面とする。この場合、矛１の整合ｗｎｔｍａｓを透
過し、才２の整合反射面、Ｉで反射した光が、重なり部
分の面積に対応する。また、一方の乾板０の透明部分を
透過し、基準反射ｗｈで反射した光が、基準パターンの
面積に対応する。もちろん、各センサー＠＠（至）は上
記反射光を受けるよ５に配置する。
さらに、前記説明では、ずれ検出装置（２）のＣＰＵ−
が決定した移動量、すなわちずれ量により畳−タを自動
制御していたが、上記ずれ量を表示し、作業者がこの表
示データにより位置合わせな行うようにしてもよい。
が決定した移動量、すなわちずれ量により畳−タを自動
制御していたが、上記ずれ量を表示し、作業者がこの表
示データにより位置合わせな行うようにしてもよい。
なお位置合わせを行う板材としてシャドウマスク露光用
のガラスネガ乾板を例示して説明したが。
のガラスネガ乾板を例示して説明したが。
もちろん他の板材、例えば液晶基板の位置合わ艙等にも
使用できる。
使用できる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、板材相互の位置会わせを
短時間のうちに行うことができ、精度もｌ ｐｇ ９度
の高い値を得ることができ、側晶の品質および歩留りを
大幅に陶土させることができる。
短時間のうちに行うことができ、精度もｌ ｐｇ ９度
の高い値を得ることができ、側晶の品質および歩留りを
大幅に陶土させることができる。
才ｔｉｌｌおよび才２図はそれぞれ本発明における矛１
およびＩＦ５の整合パターンとしての才噛および才２の
整合窓を示す部分図１才１ＩＩｌｌは才１図、才２１ｉ
で示した才゛１および才２の整合窓の重なり状態を示す
部分図、才４ＩＱは本発明によ４板材相互の位置会わせ
装置の一実施例を示す正ｗＷｊＡ１才ＳＩＱは才４Ｗ４
における光学的面積橢定部分を示す部分側＠図、才４１
１１は本発＠に用いる制御装置を示すブ交ツク図である
。 ａｌｌａ：１・・板材、級２・・・才１の整合パターン
としての才１の整合窓、α滲・・、ｌの整合パターンと
し【の才２の整合窓、０４）−・基準パターンとしての
基準窓、＠（至）（至）（至）（至）・・センサー、（
財）−・ずれ検出装置。
およびＩＦ５の整合パターンとしての才噛および才２の
整合窓を示す部分図１才１ＩＩｌｌは才１図、才２１ｉ
で示した才゛１および才２の整合窓の重なり状態を示す
部分図、才４ＩＱは本発明によ４板材相互の位置会わせ
装置の一実施例を示す正ｗＷｊＡ１才ＳＩＱは才４Ｗ４
における光学的面積橢定部分を示す部分側＠図、才４１
１１は本発＠に用いる制御装置を示すブ交ツク図である
。 ａｌｌａ：１・・板材、級２・・・才１の整合パターン
としての才１の整合窓、α滲・・、ｌの整合パターンと
し【の才２の整合窓、０４）−・基準パターンとしての
基準窓、＠（至）（至）（至）（至）・・センサー、（
財）−・ずれ検出装置。
Claims (2)
- （１） 板間が、１．いに対向する如く配置された２
枚の板材の面方向に沿う相互位置を所定の関係に位置合
わせするものにおいて、いずれか一方の板材にその面方
向に沿５亙いに直角を威すＸ方向およびＹ方向に陶って
それぞれ形成されたテーパ状を成す才１の整合パターン
と、他方の板材の上記才１の参会パターンと対内するそ
れぞれの部分に配置され長辺が上記才１の整合パターン
のテーパ方向と麦麹するように形成されたスリット状を
成す才２０整舎パターンと、これら才１、才！の整合パ
ターン椙Ｉの重なり部分の面積を光学的ＫＩｌ定して電
気信号に変換するセンサーと、この電ン！−からの電気
信号を受す設定値との！１１により前記板材相互のずれ
量を検出するずれ検出装置とを備えたことを特徴とする
板材相互の位置会わせ装置。 - （２） 板面が夏いに対向する如（配置された！秋の
板材の面方向に沿う相互位置を所定の関係に位置合わせ
するものｋおいて、いずれか一方の板材にその面方向に
？Ｂう互いに直角を成すＸ方向およびＹ方向に陶ってそ
れぞれ形成されたテーパ状を成す矛１の整合パターンと
、他方の板材の上記才１の整合パターンと対向するそれ
ぞれの部分に配置され長辺が上記才１の整合パターンの
テーパオ向と交差するように形成されたスリット状を威
す矛宜の整合パターンと、いずれか一方の板材に設けら
れる基準パターンと、上記）１．才２０警会パターン摺
夏の重なり部分の面積を光学的に判定して電気信号に変
換する整合用センサーと、前記基準パターンの面積を光
学的Ｅ１ｍ定し電気信号に変換する基準用曾ン！−と、
前記整合用センサーからの電気信・号と基準用センサー
からの電気４１４との比砿により前記Ｉ！材相夏のずれ
量を検出す１ずれ検出装置とを備えたことを特徴とする
板材椙Ｉの位置会わせ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56200749A JPS58100853A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 板材相互の位置合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56200749A JPS58100853A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 板材相互の位置合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58100853A true JPS58100853A (ja) | 1983-06-15 |
Family
ID=16429527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56200749A Pending JPS58100853A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 板材相互の位置合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58100853A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998040792A1 (en) * | 1997-03-10 | 1998-09-17 | Ohlig Albert H | System and method for optically aligning films and substrates used in printed circuit boards |
| JP2010147253A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 位置合わせ方法、ホトマスクおよびウエハ |
-
1981
- 1981-12-11 JP JP56200749A patent/JPS58100853A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998040792A1 (en) * | 1997-03-10 | 1998-09-17 | Ohlig Albert H | System and method for optically aligning films and substrates used in printed circuit boards |
| GB2340960A (en) * | 1997-03-10 | 2000-03-01 | Albert H Ohlig | System and method for optically aligning films and substrates used in printed circuit boards |
| US6156220A (en) * | 1997-03-10 | 2000-12-05 | Ohlig; Albert H. | System and method for optically aligning films and substrates used in printed circuit boards |
| US6193899B1 (en) | 1997-03-10 | 2001-02-27 | Albert H. Ohlig | System and method for optically aligning films and substrates used in printed circuit boards |
| JP2010147253A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 位置合わせ方法、ホトマスクおよびウエハ |
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