JPS58105497A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPS58105497A
JPS58105497A JP56204246A JP20424681A JPS58105497A JP S58105497 A JPS58105497 A JP S58105497A JP 56204246 A JP56204246 A JP 56204246A JP 20424681 A JP20424681 A JP 20424681A JP S58105497 A JPS58105497 A JP S58105497A
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output terminal
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Hiroshi Iwahashi
岩橋 弘
Kiyobumi Ochii
落井 清文
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Abstract

PURPOSE:To increase the reliability, by obtaining a binary output without flowing at all times a current to a nonvolatile storage element for a semiconductor integrated circuit having the redundant function and can switch a normal circuit to a spare circuit in case the normal circuit is faulty. CONSTITUTION:For this semiconductor integrated position, a fuse element F made of polysilicon is inserted between the point of application of a power supply VD and an output terminal Out, an MOSFETQE1 of an enhancement mode for program is inserted between the terminal Out and an earth, and another enhancement mode MOSFETQE2 is inserted between the terminal Out and the earth. Furthermore a pulse generating circuit 10 which delivers the pulse signal of a prescribed pulse width of level 1 after the application of a power supply is provided along with a latch circuit 20 which stores the signal of the terminal Out. With such an IC, the current flows to the element F as long as the element F is not fused only when the pulse signal is applied to the MOSFETQE2 from the circuit 10 to turn on the MOSFETQE2.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術1分野 この発明は正規回路が不具合な場合に予備回路に切換え
ることのできる大長姓模能を持った半導体集積回路にお
いて、正規回路が不具合な場合に予備回路に切換える際
の切換制御信号として用いられる信号を発生する半導体
集積回路に関する。
[Detailed Description of the Invention] Technical field 1 of the invention This invention relates to a semiconductor integrated circuit having a large capacity to switch to a backup circuit when the regular circuit is defective. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit that generates a signal used as a switching control signal when switching a circuit.

発明の技術的背景 最近、半導体集積回路、時に半導体メモリにおいては、
正規のメモリセル回路と予備のメモリセル回路を予め形
成しておき、製造時に正規のメモリセル回路内に不良ビ
ットがあった場合にはこの不良ビット部分を予備のメモ
リセル回路に、tき変えて使用するような大喪性機能を
持ったものが増加して−る。これは、正規のメモリセル
回路にわずか1ビツトの不良セルがあってもメモリ全体
としては不具合なため、このようなメモリは不良品とし
て捨てられている。しかしながら、メモリ容量が増大す
るのに伴ない不良のメモリセルが発生する確率は高くな
ってきており、不良が発生しているメモリを捨てていた
のでは製品のコストが極めてs6価なものとなってしま
う、したがって、全体の歩留り向上のために予備のメモ
リセル回路を形成し、正規のメモリセル回路の一部が不
良の場合にこれを切り供えて使う方法が採用されてきた
のである。
Technical Background of the Invention Recently, in semiconductor integrated circuits and sometimes semiconductor memories,
A regular memory cell circuit and a spare memory cell circuit are formed in advance, and if there is a defective bit in the regular memory cell circuit during manufacturing, this defective bit part is replaced with a spare memory cell circuit. There is an increasing number of devices that have a great mourning function, such as those used for personal use. This is because even if a normal memory cell circuit has just one defective cell, the memory as a whole is defective, so such memories are discarded as defective products. However, as memory capacity increases, the probability of defective memory cells occurring increases, and if defective memory is discarded, the cost of the product becomes extremely high. Therefore, in order to improve the overall yield, a method has been adopted in which a spare memory cell circuit is formed and used as a substitute when a part of the regular memory cell circuit is defective.

そして切り換えのための情報は不揮性記憶素子に書き込
まれている。
Information for switching is written in a non-volatile memory element.

第1図は上記予備のメモリセル回路が形成されている半
導体メモリのブロック構成図である。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory in which the above-mentioned spare memory cell circuit is formed.

第1図において、1riアドレス信号が与えられるアド
レスバッファであり、このアドレスバッファ1からの出
力は正規のアドレスデコーダ2および予備のアドレスデ
コーダJ4C並列的に与えられる。正規のアドレスデコ
ーダ2のデコード出力蝶正規のメモリセル回路4に与え
られ、このデコード出力によって正規のメモリセル回路
4内の1つあるいはそれ以上のメモリセルが選択され、
この後、この選択されたメモリセルにデータが記憶され
たプデータが読み出されたりする。また、上記正規のア
ドレスデコーダ2は予備のアドレスデコーダSからの出
力によってそのデコード動作が制御される。予備のアド
レスデコーダ3のデコード出力は予備のメモリセル回路
5に与えられ、このデコード出力によって予備のメモリ
セル回路5内のメモリセルが選択され、この後、この選
択されたメモリ膚ルにデータが記憶され九9データが絖
み出され九すする。また、上記予備のアドレスデコーダ
3の出力は、正規のアドレスデコーダ2のデコード動作
を制御するための信号としても出力される。さらに上記
予備のアドレスデコーダSのデコード動作は、正規のメ
モリセル回路4内に不良のビットがあシ、この不良部分
を予備のメモリセル回路s内のメモリセルと交換する9
K。
In FIG. 1, it is an address buffer to which a 1ri address signal is applied, and the output from this address buffer 1 is applied in parallel to a regular address decoder 2 and a spare address decoder J4C. The decode output of the regular address decoder 2 is given to the regular memory cell circuit 4, and one or more memory cells in the regular memory cell circuit 4 are selected by this decode output,
Thereafter, the data stored in the selected memory cell is read out. Further, the decoding operation of the regular address decoder 2 is controlled by the output from the spare address decoder S. The decoded output of the spare address decoder 3 is given to the spare memory cell circuit 5, a memory cell in the spare memory cell circuit 5 is selected by this decoded output, and data is then stored in the selected memory cell. The 99 data is memorized and extracted. Further, the output of the spare address decoder 3 is also output as a signal for controlling the decoding operation of the regular address decoder 2. Furthermore, in the decoding operation of the spare address decoder S, if there is a defective bit in the regular memory cell circuit 4, this defective part is replaced with a memory cell in the spare memory cell circuit s.
K.

メモリセル回路の九めの情報が予め不揮発性記憶素子に
書き込まれている交換制御信号発生部・6から出力され
る交換制御信号によって制御される。すなわち、このよ
うな構成の半導体メモリにおいて、正規のメモリセル回
路4に不良ビットがなければ交換制御信号は出力されず
、正規のアドレスデコーダ1のみが動作して正規のメモ
リセル回路4内のメモリセルがアクセスされる。一方、
正規のメモリ回路4内に不良ビットがあれば、この不良
ビットを含む行あるいは列アドレスに和尚するデコード
出力が得られるように予め予備のアドレスデコーダSを
プロゲラしておくとともに、交換制御信号発生部φから
ルベルまたは0レベルの交換制御信号が得られるように
前記不揮発性記憶累子七プ四グラムしておく、シたがっ
て、いまアドレスノ(ツ7アJで正規−のメモリセル回
路4の不良ビットを含む行または列アドレスに対応する
出力が得られると、予備のアドレスデコーダSによって
予備のメモリセル回路5内のメモリセルが選択される。
The ninth information of the memory cell circuit is controlled by an exchange control signal outputted from an exchange control signal generator 6, which is written in advance in a nonvolatile memory element. That is, in a semiconductor memory having such a configuration, if there is no defective bit in the regular memory cell circuit 4, the exchange control signal is not output, and only the regular address decoder 1 operates to replace the memory in the regular memory cell circuit 4. A cell is accessed. on the other hand,
If there is a defective bit in the regular memory circuit 4, the spare address decoder S is programmed in advance so that a decode output corresponding to the row or column address containing the defective bit can be obtained, and the replacement control signal generator is also programmed. The non-volatile memory resistor 7 is programmed so that a level or 0 level exchange control signal can be obtained from φ. Therefore, the address no. When an output corresponding to a row or column address including a defective bit is obtained, a memory cell in the spare memory cell circuit 5 is selected by the spare address decoder S.

さらにこのときの予備のアドレスデー−ダ1のデコード
出力によって正規のアドレスデコーダ1のデコード動作
が停止され、正規のメ篭りセル回路4はアクセスされな
い、仁のような操作によって、正規のメ峰すセル回路4
内の不良部分が予備のメモリセル回路5と交換されるも
のである。
Furthermore, the decoding operation of the regular address decoder 1 is stopped by the decoded output of the spare address data 1 at this time, and the regular address data cell circuit 4 is not accessed. Cell circuit 4
The defective portion within is replaced with a spare memory cell circuit 5.

第2図(荀、伽)は上記交換制御信号発生部6の従来の
構成を示す回路図である。第2図(a) K示す回路は
、電源VD印加点と出力端子Oatとの関に不揮発性記
憶素子の一つであるポリシリーンによって構成されたフ
ェーズ素子rを挿入し。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a conventional configuration of the exchange control signal generating section 6. As shown in FIG. In the circuit shown in FIG. 2(a) K, a phase element r made of polysilicon, which is one of the nonvolatile memory elements, is inserted between the power supply VD application point and the output terminal Oat.

出力端子Oatとアース点との間にプログラム用のエン
ハンスメント%−)”0M08FIi?QBを挿入し、
かつ出力端子Outとアース点との間にディプレッジl
ンモードのMO1iFW?Qiを挿入し、?M、O’8
 ff E T=Q、’のゲートにはグーダラム信号P
t−与えるようにするとともにMO8FITQ1)のゲ
ートはアース点に接続するようにしたものである。fた
。第2図(b) K示す回路は、電源VD印加点と出力
端子Oatとの間にプログラム用のエンハンスメントセ
ードのMO8FETQIを挿入し、同様に電源VD印加
点と出力端子Outとの間にディプレッジ冒ンモードの
MOIIFI〒QDを挿入し、かつ出力端子とアース点
との間にフェーズ素子rを挿入し、MO8FITQ鳶の
ゲートにはプログラム用号Pを与えるようにするととも
にMOgFlTQnのゲートは出力端子OmtK接続す
るようにしたものである。
Insert the program enhancement %-)”0M08FIi?QB between the output terminal Oat and the ground point,
And there is a dip l between the output terminal Out and the ground point.
MO1iFW in mode? Insert Qi, ? M, O'8
The gate of ff E T=Q,' has a Gudaram signal P.
t- is applied, and the gate of MO8FITQ1) is connected to the ground point. It was. In the circuit shown in Fig. 2(b) K, an enhancement shade MO8FETQI for programming is inserted between the power supply VD application point and the output terminal Oat, and a depression effect is similarly inserted between the power supply VD application point and the output terminal Out. Insert MOIIFI〒QD in mode mode, insert a phase element r between the output terminal and the ground point, give the program code P to the gate of MO8FITQ, and connect the gate of MOgFlTQn to the output terminal OmtK. It was designed to do so.

第2図(a)の回路において、7ユーズ素子Tが溶断さ
れていないと11、出力端子011tのレベルはM@t
Fl:に’1Y(4Dと)為−ズ素子rとの抵抗比によ
ってルベルに保友れている。一方。
In the circuit of FIG. 2(a), if the 7-use element T is not fused, the level of the output terminal 011t is M@t.
Fl: is maintained at a level depending on the resistance ratio between '1Y (4D) and the element r. on the other hand.

M @g F11’r(44mのゲートにルベルのプロ
グラム信号pt与えると、このMO!IFITQ鳶がオ
ンしてフェーズ素子FK大きな電流が流れ、このと1&
に発生するジ具−ル熱によって7!L−ズ素子rが溶断
される。フェーズ素子rが溶断されると%信号Pは再び
0レベルとなってMOIIF罵テQ鳶がカットオフし、
今度はMOgFlTQnを介して出力端子Outがoレ
ベルに放電される。そして、上記出力端子Oatの信号
、すなわち前記交換制御信号のレベルが九とえばlレベ
ルのときには予備のアドレスデコーダ1のデコード動作
は停止され、九とえば0レベルのと1iにデコード動作
が行なわれる。
M @g F11'r (When Lebel's program signal pt is applied to the gate of 44m, this MO!IFITQ turns on and a large current flows through the phase element FK, and this 1&
7 due to the jiguru fever that occurs! L-Z element r is fused. When the phase element r is blown out, the % signal P becomes 0 level again and the MOIIF is cut off.
This time, the output terminal Out is discharged to the O level via MOgFlTQn. Then, when the level of the signal at the output terminal Oat, that is, the exchange control signal, is at level 9, for example, l, the decoding operation of the spare address decoder 1 is stopped, and the decoding operation is performed at level 9, for example, 0, and 1i. .

第2図(荀の回路では第21f(a)の回路とは反対に
、フェーズ素子?が溶断されていないとき、出力端子O
utのレベルはMO8FICTQDと7z −、(素子
rとの抵抗比によって0レペルニ保と同様にフェーズ素
子yが溶断され、その後、出力端子OatはM OI 
F I T Q Dを介してルベルに充電される。こめ
場合には、出力端子Outの信4t1すなわち交換制御
備考のレベルが九とえばOレベルのときkは予備のアド
レスデコーダ3のデコード動作は停止され、たとえばル
ベルのときにデコード動作が行なわれる。
Figure 2 (In the circuit of Xun, contrary to the circuit of No. 21f(a), when the phase element ? is not fused, the output terminal O
The level of ut is MO8FICTQD and 7z - (Depending on the resistance ratio with element r, phase element y is blown out in the same way as in the case of 0 Léperny, and then the output terminal Oat becomes MOI
Rebel is charged via FITQD. In this case, when the level of the signal 4t1 of the output terminal Out, that is, the level of the exchange control note, is 9, for example, the O level, the decoding operation of the spare address decoder 3 is stopped, and the decoding operation is performed when, for example, it is the level.

第8図は前記予備のアドレスデコーダSの一つのデコー
ド回路の構成の一例を示す回路図である。この回路は負
荷用のディプレッションそ一ドのMO8FI?Qt、n
と、前記アドレスバッファ1から出力される各アドレス
信号ム・、ム、。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of the configuration of one decoding circuit of the spare address decoder S. Is this circuit a MO8FI with depletion mode for the load? Qt,n
and each address signal M, M, output from the address buffer 1.

AI+11・・・・・・An fゲート入力とする都動
用の、複数のエンハンスメントモードの謔αm1,1で
QbiJ’と、これら複数の各MOgFITQ1)虱と
上記MO8FITQLDとの間に挿入される複数の7エ
ーズ素子Flとから構成されている。
AI+11...An 7Aze element Fl.

仁のようなデコード回路では、たとえば前記正規のメモ
リセル回路4のメモリセルのうちアドレスA 、= A
 、 z−・・・・・震ムm = OK対応するものが
千成の場合には、このアドレスに和尚するデコード出力
が得られるように各7エーズ素子Pgがプログラム、す
なわちム、、ム、・・・−・ム鳳をゲート入力とするM
Ofl、FETQo*に接続されている7エーズ素子?
、が溶断される。
In a decoding circuit like Jin, for example, among the memory cells of the regular memory cell circuit 4, address A,=A
, z-...Shinmu m = OK If the corresponding one is Sennari, each of the 7A's elements Pg is programmed so that a decode output corresponding to this address is obtained, that is, Mu, , Mu,・・・−・M with Muho as gate input
Ofl, 7A element connected to FETQo*?
, is fused.

背景技術の問題点 とζろで前記第2図(荀、伽)K示す従来の交換制御信
号発生部にあって線、フェーズ素子lが溶断されていな
いときはこのフェーズ素子PKは常に電流が流れ良状態
になってiる。一方、この7エーズ素子rは溶断され1
くするためにそのパターン形状の幅が極めて細く作られ
ている。この丸め、上記フェーズ素子PK定常的に電流
を流す仁とは信頼性上好ましくな−、九七えば何らかの
原因によって電源TDKノイズが乗った〉、誤まって電
源電圧を高くしてしtりたよりな場合には、7エーズ素
子1に異常電流が流れ、誤まって溶断される恐れがある
Problems with the Background Art In the conventional switching control signal generator shown in FIG. The flow is now in good condition. On the other hand, this 7Aze element r is fused and 1
The width of the pattern shape is made extremely narrow in order to make it more compact. This rounding is unfavorable in terms of reliability since the above phase element PK constantly flows a current.For example, the power supply TDK noise was caused by some reason, or the power supply voltage was increased by mistake. In such a case, an abnormal current may flow through the 7Aze element 1 and it may be erroneously blown out.

発明の目的 したがって、この発明の目的とするところは、不揮発性
記憶素子を用いて二値の出力t−得ることので11h(
IIIIll性の高い半導体集積回路t11供すること
Kある。
Purpose of the Invention Therefore, the purpose of the present invention is to obtain a binary output t- using a non-volatile memory element.
It is possible to provide a semiconductor integrated circuit t11 with high IIIll performance.

発明の概要 この発明の半導体集積回路は、電源と出力端子との間に
フェーズ素子等両端間のインピーダンスが不揮発的に変
化する不揮発性記憶素子を挿入し、上記出力端子とアー
スとの関KMOIIFICTからなるスイッチング素子
を挿入し、電源が与えられ九初期の一定期間、上記スイ
ッチング素子をスイッチし、スイッチング素子がスイッ
チされている期間の上記出力端子の信号を記憶すること
によって、上記不揮発性記憶素子の両端間のインピーダ
ンスが低い状態になっているときでも、この不揮発性記
憶素子に常時電流を流す必賛なしに二illの出力を得
るようにして信頼性を尚めるよ、うにしたものである。
Summary of the Invention The semiconductor integrated circuit of the present invention includes a non-volatile memory element such as a phase element whose impedance changes non-volatilely between both ends, between a power supply and an output terminal, and a relationship between the output terminal and the ground KMOIIFICT. By inserting a switching element, switching the switching element for an initial period after power is applied, and storing the signal at the output terminal during the period when the switching element is switched, the non-volatile memory element can be stored. Even when the impedance between both ends is low, it is possible to improve reliability by obtaining an output of 2 ll without having to constantly supply current to this nonvolatile memory element. .

発明の実施例 以下図面を参照してこの発明の詳細な説明する。第4゛
図はこの発明の詳細な説明する丸めの回路図である。こ
の回路は、電源VD印加鹿(一方電位供給端)と出力端
子Outとの間にポリシリコンによって構成されたフユ
ーズ素子Ft−偉人し、出力端子Owlとアース(他方
電位供給趨)との間にプログラム用のエンハンスメント
モードのMO8FKTQmtを挿入し、かつ出力端子O
utとアースとの間にもう1つのエンハンスメントモー
ドのMO8F]CTQzzを挿入し、さらに電源投入後
にルベルの所定パルス幅を持つパルス信号を出力するパ
ルス発生回路J0と上記出力端子Outの信号を記憶す
るラッチ回路20とを設け、上記M08FETQE1の
ゲートにはプログラム信号Pを与えるようKするととも
KMO8FETQv*のゲートには上記パルス発生回路
10から出力されるパルス信号を与えるようにしたもの
である。そして上記ラッチ回路20の出力は、たとえば
前記第1図回路内の予備のアドレスデコーダSに与えら
れる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 4 is a rounding circuit diagram explaining the invention in detail. This circuit has a fuse element Ft made of polysilicon between the power supply VD application terminal (one end of the potential supply) and the output terminal Out, and a fuse element Ft made of polysilicon between the output terminal Owl and the ground (the other end of the potential supply end). Insert MO8FKTQmt in enhancement mode for programming and output terminal O
Insert another enhancement mode MO8F CTQzz between ut and ground, and store the pulse generation circuit J0 that outputs a pulse signal with a predetermined pulse width of Lebel after the power is turned on, and the signal of the above output terminal Out. A latch circuit 20 is provided, and the program signal P is applied to the gate of the M08FETQE1, and the pulse signal output from the pulse generation circuit 10 is applied to the gate of the KMO8FETQv*. The output of the latch circuit 20 is applied to, for example, a spare address decoder S in the circuit shown in FIG.

このような回路では、フユーズ素子Fが溶断されていな
い場合にこの7ユーズ素子Fに電流が流れるのは、パル
ス発生回路10からMO!IFETQΣ意にパルス信号
が与えられてこのMO8FETQz*がオンするときで
ある。したがって、従来のように7ユーズ素子FKは常
時電流が流れることはないのでv14まりて溶断さする
ことがなく、信頼性を高くすることができる。tた、フ
ユーズ素子?が溶断されているか否かの情報、すなわち
前記プログラムの情報は、MO8FETQx雪がオンし
ている時の出力端子Outの信号をラッチ回路20が記
憶保持しているため、確実に出力される。なお、MO8
FICT4btは従来と同様、7ユーズ素子Fを溶断す
るためのものであり、f#断時Klレベルとなるプログ
ラム信号Pが与えられる。
In such a circuit, when the fuse element F is not blown, current flows through the seven-use element F from the pulse generating circuit 10 to MO! This is when a pulse signal is given to IFETQΣ and this MO8FETQz* is turned on. Therefore, since current does not constantly flow through the 7-use element FK as in the prior art, v14 does not melt and the reliability can be increased. t, fuse element? The information as to whether the MO8FETQx is fused or not, that is, the information on the program, is reliably output because the latch circuit 20 stores and holds the signal of the output terminal Out when the MO8FETQx is on. In addition, MO8
FICT4bt is used to blow out the 7-use element F, as in the prior art, and is given a program signal P which is at the Kl level when f# is off.

1s5図はこの発明の一実施例の構成を示す回路図であ
り、前記パルス発生回路10は、電源VDとアースとの
間に直列挿入された抵抗11およびコンデンサljと、
これら抵抗11とコンデンサ12との直列接続点の信号
を反転するインバータ11とから構成され、インバータ
rsolfr力はMOllFETQEmのゲートに与え
られる。また、前記ラッチ回路20は、出力端子Out
の信号と上記インバータIJの出力を各入力とする一対
のNORORゲルト2jlMからなるフリップフロップ
2Jと、上記一方のNORゲート2ノの出力をゲート入
力とし出力端子Outとアースとの間に挿入されたエン
ハンスメントモードのM08FETQ罵3とから構成さ
れている。
Figure 1s5 is a circuit diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention, in which the pulse generating circuit 10 includes a resistor 11 and a capacitor lj inserted in series between the power supply VD and the ground;
It is composed of an inverter 11 that inverts a signal at a series connection point between these resistors 11 and a capacitor 12, and the inverter rsolfr force is applied to the gate of MOllFET QEm. Further, the latch circuit 20 has an output terminal Out.
A flip-flop 2J consists of a pair of NOROR gates 2jlM whose inputs are the signal of It consists of M08FETQ3 in enhancement mode.

このような構成において、電源VDを投入し、VDとア
ース間にVDの電位差が与えられると、その直後にイン
バータISからルベルの所定パルス幅のパルス信号が出
力される。そして所定期間、M08FETQE、がオン
する。このとき、7ユーズ素子Fが溶断されていなけれ
ば出力端子Outはルベルになる。したがって、NOR
ゲート2ノの出力は0レベルである0次にMO8FIT
QE、のオン期間が終了しても出力端子Outはフユー
ズ素子Fによってルベルに保たれているため、NORゲ
ー)37の出力は0レベルのまま変化しない。
In such a configuration, when the power supply VD is turned on and a potential difference of VD is applied between VD and the ground, immediately after that, a pulse signal having a predetermined pulse width of Lebel is output from the inverter IS. Then, M08FETQE is turned on for a predetermined period. At this time, if the 7-use element F is not fused, the output terminal Out becomes a level. Therefore, NOR
The output of gate 2 is 0 level MO8FIT
Even after the on-period of QE ends, the output terminal Out is kept at the level by the fuse element F, so the output of the NOR gate 37 remains at 0 level and does not change.

一方、予めM08FETQE1によってフェーズ素子F
が溶断されているとき1M08FK’rQElがオンす
ると、出力端子Outは0レベルに放電され本、このと
き、NORゲート22の出力はインバータ7Jからのル
ベル出力によって0レベルになっているため、NORゲ
ート21の乙 出力はルベル〆なる。tたNORゲート21のルベル出
力によってM08FETQzsがオンし、この後、出力
端子Ot+tはこのMO8FKTQmsによってθレベ
ルに保持される。そしてインバーター3の出力が0レベ
ルに戻ってもNORゲート21の出力はルベルのまま保
持される。
On the other hand, phase element F is set in advance by M08FETQE1.
When 1M08FK'rQEl is turned on while 1M08FK'rQEl is fused, the output terminal Out is discharged to the 0 level. At this time, the output of the NOR gate 22 is at the 0 level due to the level output from the inverter 7J, so the NOR gate The second output of 21 is the end of Lebel. The M08FETQzs is turned on by the level output of the NOR gate 21, and thereafter, the output terminal Ot+t is held at the θ level by the MO8FKTQms. Even if the output of the inverter 3 returns to 0 level, the output of the NOR gate 21 is maintained at the level.

このようにして上記実施例回路では、電源を投入した後
にフユーズ素子Fが溶断されているか否によってルベル
またはθレベルの信号が出力される。
In this way, in the circuit of the above embodiment, a level signal or a θ level signal is output depending on whether or not the fuse element F is blown after the power is turned on.

第6図はこの発明の他の実施例の構成を示す回路図であ
り、上記実施例回路とはラッチ回路20の構成が異なっ
ている。すなわち、ラッチ回路20は、直列接続された
2個のインバータ24.25と、この一方のインバータ
24の入力側と出力端子Outとの間に挿入され伝達ゲ
ートとして用いられるエンハンスメントモードのMO8
FETQz+と、上記インバータ240入力側とインバ
ータ25の出方側との間に挿入され伝達ゲートとして用
いられるエンハンスメントモードのM08FETQEB
と、パルス発生回路IO内のインバータJ3の出方を反
転するもう1つのインバータ26とから構成され、M0
8FETQE4のゲートには前記インバータ13の出力
が、MO8FETQ訃のゲートには上記インバータ26
の出力がそれぞれ与えられる。
FIG. 6 is a circuit diagram showing the configuration of another embodiment of the present invention, which differs from the circuit of the above embodiment in the configuration of the latch circuit 20. That is, the latch circuit 20 includes two inverters 24 and 25 connected in series, and an enhancement mode MO8 inserted between the input side of one of the inverters 24 and the output terminal Out and used as a transmission gate.
FETQz+ and an enhancement mode M08FETQEB inserted between the input side of the inverter 240 and the output side of the inverter 25 and used as a transmission gate.
and another inverter 26 that inverts the output direction of the inverter J3 in the pulse generating circuit IO.
The output of the inverter 13 is applied to the gate of 8FETQE4, and the inverter 26 is applied to the gate of MO8FETQ.
The output of each is given.

このような構成において、パルス発生回路1゜からルベ
ルのパルス信号が出力されている期間ではMO8FET
Qzaがオンし、出力端子Outの信号が7ユーズ素子
腎の状態によってθレベルまたはルベルに設定される。
In such a configuration, during the period when the pulse signal of Lebel is output from the pulse generation circuit 1°, the MO8FET
Qza is turned on, and the signal at the output terminal Out is set to the θ level or level depending on the state of the 7-use element.

このときM08FITQg4もオンするために、出力信
号Outにおける信号はインバータ24.25によって
順次反転され、インバータ25の出力として出力端子O
utと同じレベルの゛信号が得られる0次にパルス信号
の出力期間が終るとすると、MO8FETQE4がオフ
して、インバータ24の入力側は出力端子Outから分
離されるとともに、今度は1tl(JSF”ETQE易
がオンしてインバータ25の出力がこのMO8FETQ
zsを介してインノ(−タ24の入力端に戻されるため
、インノ(−タ25の出力はいtまでの信号と同じレベ
ルの信号に保持される。
At this time, since M08FITQg4 is also turned on, the signals at the output signal Out are sequentially inverted by the inverters 24 and 25, and the output terminal O is output from the inverter 25.
Assuming that the output period of the 0-order pulse signal in which the ゛ signal of the same level as ut is obtained ends, MO8FETQE4 is turned off, the input side of the inverter 24 is separated from the output terminal Out, and this time 1tl (JSF'' ETQE is turned on and the output of inverter 25 is this MO8FETQ.
Since the signal is returned to the input terminal of the inverter 24 via the inverter 25, the output of the inverter 25 is held at the same level as the signal up to t.

したがって、この実施例回路でも、電源VDを投入した
後にフユーズ素子Fの状態に応じてルベルまたはOレベ
ルの信号が出力される。
Therefore, in this embodiment circuit as well, a level signal or an O level signal is output depending on the state of the fuse element F after the power supply VD is turned on.

第7図はこの発明のさらに他の実施例の構成を/T<す
回路図である。この実施例回路は、前記第5図に示す実
施例回路の]くルス発生回路10とラッチ回路20を除
く回路部分、すなわちMO8FETQEteQE!とフ
ユーズ素子Fからなる回路部分の電源VDとアースの関
係を逆にしたものである。この場合、MO8FiTQz
sは出力端子Outと電源VD印加点との間に挿入され
、さらにこのM08FETQE3のゲートにはインバー
タ27を介して前記NORゲート21の出力が与えられ
る。そしてこの場合のNORゲート21の出力信号レベ
ルは、フユーズ素子Fの同じ状態に対して、第5図の実
施例とは反対レベルとなる。
FIG. 7 is a circuit diagram showing the configuration of still another embodiment of the present invention. This embodiment circuit consists of the circuit portion of the embodiment circuit shown in FIG. 5 except for the pulse generation circuit 10 and the latch circuit 20, that is, the MO8FETQEteQE! The relationship between the power supply VD and the ground of the circuit portion consisting of the fuse element F and the fuse element F is reversed. In this case, MO8FiTQz
s is inserted between the output terminal Out and the power supply VD application point, and the output of the NOR gate 21 is applied to the gate of this M08FETQE3 via an inverter 27. The output signal level of the NOR gate 21 in this case is the opposite level to that of the embodiment of FIG. 5 for the same state of the fuse element F.

なお、この発明は上記実施例に限定されるものではなく
、たとえばフユーズ素子FはMOFETQEIを用いて
溶断する場合について説明したが、これはレーザ光線等
のエネルギーSを照射することによって溶断するように
してもよい、そしてこの場合にFiMO8FETQzx
は不要である。さらにフユーズ素子Fの代りKMNO8
、FAMO8等の不揮発性記憶素子を用いてもよく、袂
するに両端間のインピーダンスが不揮発的に変化するよ
うなものであればフユーズ素子Fの代りに使用すること
ができる。
Note that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments; for example, the case where the fuse element F is fused using a MOFET QEI has been described; and in this case FiMO8FETQzx
is not necessary. Furthermore, instead of fuse element F, KMNO8
, FAMO8 or the like may be used, and any element whose impedance between both ends can be changed in a non-volatile manner can be used in place of the fuse element F.

を九ポリシリコンによって作られた7:L−ズ素子を使
用する場合、初期状態では^抵抗状塾にして溶断された
ときと同じ状態にし、その後、レーザアニールして低抵
抗化し*断されていない状態と同じ状態にするようにし
てもよい。
When using a 7:L-Z element made of 9-polysilicon, the initial state is made into a resistive state so that it is in the same state as when it was fused, and then laser annealed to lower the resistance. The state may be the same as the state without it.

さらに前記パルス発生回路J0は、電源VDの立上り力
に条件をす5シたない第8図に示すよりな徊/i2の回
路を使用してもよい。
Further, the pulse generating circuit J0 may be a circuit with a voltage difference/i2 shown in FIG. 8, which does not impose any conditions on the rising power of the power source VD.

発明の詳細 な説明したようにこの発明によれば、不揮発性記憶素子
を用いて二値の出力を得ることのできる信頼性の高い半
導棉集積回路を提供することができる。
As described in detail, according to the present invention, it is possible to provide a highly reliable semiconductor integrated circuit that can obtain a binary output using a nonvolatile memory element.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

鉛1図に予備のメモリセル回路が形成された半導体メモ
リのブロック構成図、@2図(a) 、 (b)は上記
千4体メモリの一部回路の従来の構成を示すu路内、第
8図は上記半導体メモリの他の部分の構成を示す回路図
、第4図はこの発明の詳細な説明するための回路図、第
5図ないし第7図はそれぞれこの発明の各実施例の構成
を示す回路図、第8uFiM4図中のパルス発生回路の
他の例を示す回路図である。 !・・・アドレスバッファ、F・・・正規のアドレスデ
コーダ、3・・・予備のア)°レスデコーダ、4・・・
正規のメ(リセル回路、5・・・予備のメモリセル回路
、6・・・交換制御信号発生部、Qz e Qnm 、
     □Qwl−Qzm・・・エンハンスメン−ト
モ−トノMO8FET* QD I QLD”・・ディ
プレッジlンモードのMO8FET、F、Fl・・・フ
ェーズ素子、10・・・パルス発生回路、20・・・ラ
ッチ回路、11・・・抵抗、12・・・コンデンサ、1
3,24゜25、:16,27・・・インバータ、xx
、xx・・・NOml’−ト、II3・・・フリップ7
關ツブ出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦て( 置             ltI        
       ユゴン 1丁 ^
Figure 1 is a block configuration diagram of a semiconductor memory in which a spare memory cell circuit is formed, and Figures 2 (a) and (b) are the conventional configurations of some of the circuits of the 1,4-body memory described above. FIG. 8 is a circuit diagram showing the configuration of other parts of the semiconductor memory, FIG. 4 is a circuit diagram for explaining the invention in detail, and FIGS. FIG. 8 is a circuit diagram showing the configuration, and is a circuit diagram showing another example of the pulse generation circuit in FIG. 8 uFiM4. ! ...address buffer, F...regular address decoder, 3...spare a)° address decoder, 4...
Regular memory cell circuit, 5... Spare memory cell circuit, 6... Exchange control signal generator, Qz e Qnm,
□Qwl-Qzm...Enhancement mode MO8FET* QDI QLD"...Dipleg mode MO8FET, F, Fl...phase element, 10...pulse generation circuit, 20...latch circuit , 11...Resistor, 12...Capacitor, 1
3,24°25, :16,27...Inverter, xx
, xx...NOml'-to, II3...Flip 7
Takehiko Suzue, Patent Attorney, Applicant's Representative
1 Yugong ^

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)一方電位供給端と出力端との間に挿入さ第1画痛
関のインピーダンスが不揮発的に変化する不揮発性記憶
素子と、上記出力端と他方電位供給端との間に挿入され
るスイッチング素子と、上iピ一方および他方電位供給
端間に所定の電位源が与えられる期間内あるいは、与え
られてから後の用足定期間に上記スイッチング素子をス
イッチする手段と、上記スイッチング素子がスイッチさ
れている期間の上記出力端の信号を記憶する手段とを具
備したことヲ時像とする半導体集積回路。 (2)  前記不揮発性記憶素子がポリシリコンによっ
て4III低されている7エーズ累子である特許請求の
範囲第1項に記載の半導体集積回路。 (8)  Ii!I紀半導体゛集檀回路は正規メモリ回
路および予備メモリ回路を備えた半導体メモリ内に形成
され、正規メモリ回路内に不良メモリが発生した際に不
良メモリを予備メモリ回路内のメモリと交換する場合に
用いられる交換制御信号として前記出力端の信号を記憶
する手段からの信号を用いるようにした特許請求の範囲
第1項に記載の半導体集積回路。
[Scope of Claims] (1) A non-volatile memory element inserted between one potential supply end and the output end, in which the impedance of the first pixel link changes in a non-volatile manner; a switching element inserted between the upper i-pi and the other potential supply terminal, and means for switching the switching element during a period during which a predetermined potential source is applied between one and the other potential supply terminals, or during a period of use after being applied; and means for storing a signal at the output terminal during a period in which the switching element is switched. (2) The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the nonvolatile memory element is a 7A resistor whose thickness is lowered by polysilicon. (8) Ii! The I-era semiconductor integrated circuit is formed in a semiconductor memory that includes a regular memory circuit and a spare memory circuit, and when a defective memory occurs in the regular memory circuit, the defective memory is replaced with the memory in the spare memory circuit. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a signal from means for storing a signal at the output terminal is used as an exchange control signal used for the exchange control signal.
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