JPS58108496A - 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 - Google Patents
放射性希ガスの分離・回収法及び装置Info
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- JPS58108496A JPS58108496A JP11368581A JP11368581A JPS58108496A JP S58108496 A JPS58108496 A JP S58108496A JP 11368581 A JP11368581 A JP 11368581A JP 11368581 A JP11368581 A JP 11368581A JP S58108496 A JPS58108496 A JP S58108496A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、放射性希ガスの分離・回収法および装置に係
シ、特に、キセノンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱の除
去に好適な放射性希ガスの分離拳回収法および装置に関
する４のである。
シ、特に、キセノンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱の除
去に好適な放射性希ガスの分離拳回収法および装置に関
する４のである。
従来の放射性希ガスの分離・回収法および装置例を第１
図によシ説明する。第１図線、活性炭吸着法と深冷分離
法を直列に組合せた放射性希ガスの分離・回収プロセス
のフローシートである。第１図で、ｌは複数個直列に設
置された常温活性炭吸着塔（以下、常温吸着塔と略）で
、最後尾の常温吸着塔ｌ塔底には、原子炉本体く図示省
略）からの処理ガス（冷却材カバーガス−アルゴン）供
給用の導管２が連結されている。３は２個並列に設置さ
れた脱水塔で、脱水塔３塔底はそれぞれ最酌の常温吸着
塔ｌ塔底と導管４で連結され、かつ、脱水塔３塔頂儒に
は再生ガス供給用の導管５が、塔底側には再生ガス排出
用の導管６が連結されている。７は予冷器で、予冷器７
頂部は脱水塔３とそれぞれ導管８で連結されている。９
は底部に蒸発器１０．頂部に凝縮器■を有する蒸留塔で
、蒸留塔９は予冷ｌｓ７底部と導管器で連結され、蒸発
器ｌＯには凝縮液送出用の導管１３が連結されている。
図によシ説明する。第１図線、活性炭吸着法と深冷分離
法を直列に組合せた放射性希ガスの分離・回収プロセス
のフローシートである。第１図で、ｌは複数個直列に設
置された常温活性炭吸着塔（以下、常温吸着塔と略）で
、最後尾の常温吸着塔ｌ塔底には、原子炉本体く図示省
略）からの処理ガス（冷却材カバーガス−アルゴン）供
給用の導管２が連結されている。３は２個並列に設置さ
れた脱水塔で、脱水塔３塔底はそれぞれ最酌の常温吸着
塔ｌ塔底と導管４で連結され、かつ、脱水塔３塔頂儒に
は再生ガス供給用の導管５が、塔底側には再生ガス排出
用の導管６が連結されている。７は予冷器で、予冷器７
頂部は脱水塔３とそれぞれ導管８で連結されている。９
は底部に蒸発器１０．頂部に凝縮器■を有する蒸留塔で
、蒸留塔９は予冷ｌｓ７底部と導管器で連結され、蒸発
器ｌＯには凝縮液送出用の導管１３が連結されている。
１４は液体窒素トリムで、液体窒素ドラム１４には液体
窒素供給用の導管１５が連結され、また、凝縮器１１に
液体窒素を供給する導管１６と凝縮器１１がも窒素ガス
を供給する導管１７が連結され、更に、液体窒素ドラム
１４と予冷器７が導管１８１連結されている。なお、予
冷器７には窒素ガス排出用の導管１９が連結されている
。蜀は低温活性炭吸着塔（以下、低温吸着塔と略）で、
低温吸着塔加塔底は蒸留塔９塔頂と導管４で連結されて
いる。ｎは浄化ガス加熱器で、浄化ガス加熱器４人口側
は低温吸着塔加塔頂と導管ｎで連結され、また、浄化ガ
ス加熱器ρ出口側には浄化ガス送出用の導管器が連結さ
れている。５は７レオン冷凍機で、冷却水供給用の導管
器、冷却水排出用の導管ｎが常温吸着塔ｌにそれぞれ連
結されている。なお、外部からの熱侵入を防止するため
、予冷器７．蒸留塔９．液体窒素ドラム１４および低温
吸着塔Ｉは保冷検器に収納されている。このように構成
された放射性希ガスの分離・回収プロセスにおいて、原
子炉本体からの処理ガス中に含有されたクリプトン、キ
セノンの放射性希ガスの分離・回収は次のように行われ
る。
窒素供給用の導管１５が連結され、また、凝縮器１１に
液体窒素を供給する導管１６と凝縮器１１がも窒素ガス
を供給する導管１７が連結され、更に、液体窒素ドラム
１４と予冷器７が導管１８１連結されている。なお、予
冷器７には窒素ガス排出用の導管１９が連結されている
。蜀は低温活性炭吸着塔（以下、低温吸着塔と略）で、
低温吸着塔加塔底は蒸留塔９塔頂と導管４で連結されて
いる。ｎは浄化ガス加熱器で、浄化ガス加熱器４人口側
は低温吸着塔加塔頂と導管ｎで連結され、また、浄化ガ
ス加熱器ρ出口側には浄化ガス送出用の導管器が連結さ
れている。５は７レオン冷凍機で、冷却水供給用の導管
器、冷却水排出用の導管ｎが常温吸着塔ｌにそれぞれ連
結されている。なお、外部からの熱侵入を防止するため
、予冷器７．蒸留塔９．液体窒素ドラム１４および低温
吸着塔Ｉは保冷検器に収納されている。このように構成
された放射性希ガスの分離・回収プロセスにおいて、原
子炉本体からの処理ガス中に含有されたクリプトン、キ
セノンの放射性希ガスの分離・回収は次のように行われ
る。
原子炉本体からの処理ガスは導管２を経て常温吸着塔ｌ
に送給される。常温吸着塔ｌでは、処理ガス中のキセノ
ンが吸着・減衰時に崩壊熱を生じ、常温吸着塔ｌの温度
が上昇し活性炭の吸着効果が低下するため、これを防止
するため、フレオン冷凍機５から導管器を経て常温吸着
塔１に冷水を供給し、この崩壊熱を吸熱した冷水を導管
４を経てフレオン冷凍機２に戻すことにより崩壊熱を除
去している。キセノンが分離された処理ガスは導管４を
経て脱水４３に供給され、水分を除去された後に、導管
８を経て予冷！７に送給される。なお、脱水塔３は水分
除去後破過点に達する前に他の吸着塔３と切換えられ、
脱水塔３内の吸湿剤は、導管５を経て脱水塔３に供給さ
れ、導管６よシ排出される再生ガスによシ再生される。
に送給される。常温吸着塔ｌでは、処理ガス中のキセノ
ンが吸着・減衰時に崩壊熱を生じ、常温吸着塔ｌの温度
が上昇し活性炭の吸着効果が低下するため、これを防止
するため、フレオン冷凍機５から導管器を経て常温吸着
塔１に冷水を供給し、この崩壊熱を吸熱した冷水を導管
４を経てフレオン冷凍機２に戻すことにより崩壊熱を除
去している。キセノンが分離された処理ガスは導管４を
経て脱水４３に供給され、水分を除去された後に、導管
８を経て予冷！７に送給される。なお、脱水塔３は水分
除去後破過点に達する前に他の吸着塔３と切換えられ、
脱水塔３内の吸湿剤は、導管５を経て脱水塔３に供給さ
れ、導管６よシ排出される再生ガスによシ再生される。
予冷器７に供給された脱水塔３で脱水された処理ガスは
、液体窒素ドラム１４から導管１８を経て予冷器７に別
に供給された窒素ガスによシ窒素の沸点近くまで冷却さ
れ、導管νを経て蒸留塔９に供給される。蒸留塔９では
、蒸発器１０からの蒸発ガスと共に処理ガスは上昇し、
凝縮器１１で液体窒素ドラム１４から導管１６を経て別
に供給された液体窒素によシ処理ガスの一部が液化され
た下降液と充填層を通して気液接触することによ〕、処
理ガス中の高沸点成分であるクリプトンは液側に移動し
、クリプトンを多く含有した凝縮液は蒸発器ｌＯに滞□
゛留し、導管１３によシ系外へ送出される。一方、クリ
プトンの多くが分離され浄化された処理ガスは、凝縮器
１１を通シ、蒸留塔９塔頂から導管４を経て蒸留塔９が
正常に作動しない場合を考慮して設置された低温吸着塔
加を通シ、導管器を経て浄化ガス加熱１！２２に供給さ
れ、浄化ガス加熱器四で常温に戻された後に導管器よ〕
系外へ送出される。
、液体窒素ドラム１４から導管１８を経て予冷器７に別
に供給された窒素ガスによシ窒素の沸点近くまで冷却さ
れ、導管νを経て蒸留塔９に供給される。蒸留塔９では
、蒸発器１０からの蒸発ガスと共に処理ガスは上昇し、
凝縮器１１で液体窒素ドラム１４から導管１６を経て別
に供給された液体窒素によシ処理ガスの一部が液化され
た下降液と充填層を通して気液接触することによ〕、処
理ガス中の高沸点成分であるクリプトンは液側に移動し
、クリプトンを多く含有した凝縮液は蒸発器ｌＯに滞□
゛留し、導管１３によシ系外へ送出される。一方、クリ
プトンの多くが分離され浄化された処理ガスは、凝縮器
１１を通シ、蒸留塔９塔頂から導管４を経て蒸留塔９が
正常に作動しない場合を考慮して設置された低温吸着塔
加を通シ、導管器を経て浄化ガス加熱１！２２に供給さ
れ、浄化ガス加熱器四で常温に戻された後に導管器よ〕
系外へ送出される。
このように従来の放射性希ガスの分離φ回収法および装
置では、浄化され、かつ、低温となった処理ガスの冷熱
を利用することなく、唯単に浄化ガス加熱器４で常温に
戻され系外へ送出され、一方ζ常温吸着塔１でのキセノ
ンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を除去するのに別にフ
レオン冷凍機３を設置する岬エネルギの無駄が大きいと
いった欠点があった。
置では、浄化され、かつ、低温となった処理ガスの冷熱
を利用することなく、唯単に浄化ガス加熱器４で常温に
戻され系外へ送出され、一方ζ常温吸着塔１でのキセノ
ンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を除去するのに別にフ
レオン冷凍機３を設置する岬エネルギの無駄が大きいと
いった欠点があった。
本発明は、上記欠点の排除を目的としたもので、キセノ
ンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を７レオン冷凍機を用
いることなく、浄化され、かつ、低温となった処理ガス
の冷熱を利用して除去する放射性希ガスの分離・回収法
および装置を提供するものである。
ンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を７レオン冷凍機を用
いることなく、浄化され、かつ、低温となった処理ガス
の冷熱を利用して除去する放射性希ガスの分離・回収法
および装置を提供するものである。
本発明の一実施例を菖２図によシ説明する。第２図で、
第１図と同−機器等は同一符号で示し説明を省略する。
第１図と同−機器等は同一符号で示し説明を省略する。
四は導管器よシ分岐され、かつ、自動弁（資）が途中に
設置された導管で、それぞれの常温吸着塔１に連結され
ている。社は導管器とそれぞれの常温吸着塔ｌを連結す
る導管である。諺は導管４の途中に設置され、かつ、自
動弁（資）の弁開度を調節・制御する温度指示調節針で
ある。
設置された導管で、それぞれの常温吸着塔１に連結され
ている。社は導管器とそれぞれの常温吸着塔ｌを連結す
る導管である。諺は導管４の途中に設置され、かつ、自
動弁（資）の弁開度を調節・制御する温度指示調節針で
ある。
この場合は、常温吸着塔ｌに導管２を経て供給された原
子炉本体からの処理ガス中のキセノンの吸着・減衰時に
生じる崩壊熱は、低温吸着塔加よシ導管ｎ、自動弁加を
介し導管四を経て常温吸着塔ｌに供給される浄化され、
かつ、低温となった処理ガスの冷熱を利用して除去され
る。この場合、浄化され、かつ、低温となった処理ガス
により原子炉本体からの処理ガス中に含有された水分が
氷結し、常温吸着塔ｌの吸着機能の低下を防止するため
、温度指示調節計ｎで原子炉本体からの処理ガス中に含
有された水分が氷結しない程度に、しかも、できるだけ
低温に設定して浄化され、かつ、低温となった処理ガス
の常温吸着塔１への供給量は自動弁刃の弁開度を調節・
制御し、適正量に制御される。その後、キセノンが分離
された処理ガスは、従来例と同様のプロセスでクリプト
ンを分離され、かつ、低温となつた処理ガスの一部はキ
セノンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱の除去に利用され
、残シは浄化ガス加熱器四で常温に戻され、導管３１か
らの崩壊熱除去に利用された処理ガスと共に導管為より
系外へ送出される。
子炉本体からの処理ガス中のキセノンの吸着・減衰時に
生じる崩壊熱は、低温吸着塔加よシ導管ｎ、自動弁加を
介し導管四を経て常温吸着塔ｌに供給される浄化され、
かつ、低温となった処理ガスの冷熱を利用して除去され
る。この場合、浄化され、かつ、低温となった処理ガス
により原子炉本体からの処理ガス中に含有された水分が
氷結し、常温吸着塔ｌの吸着機能の低下を防止するため
、温度指示調節計ｎで原子炉本体からの処理ガス中に含
有された水分が氷結しない程度に、しかも、できるだけ
低温に設定して浄化され、かつ、低温となった処理ガス
の常温吸着塔１への供給量は自動弁刃の弁開度を調節・
制御し、適正量に制御される。その後、キセノンが分離
された処理ガスは、従来例と同様のプロセスでクリプト
ンを分離され、かつ、低温となつた処理ガスの一部はキ
セノンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱の除去に利用され
、残シは浄化ガス加熱器四で常温に戻され、導管３１か
らの崩壊熱除去に利用された処理ガスと共に導管為より
系外へ送出される。
なお、浄化ガス加熱器ｎを熱交換器として用い、常温吸
着塔１と浄化ガス加熱器ｎの間に他の冷媒を設け、浄化
され、かつ、低温となった処理ガスこのように、常温吸
着塔でのキセノンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を浄化
され、かつ、低温となった処理ガスの冷熱を利用して除
去した場合は、７レオン冷凍機の設置が不用となるので
エネルギの無駄が大幅に削減できる。
着塔１と浄化ガス加熱器ｎの間に他の冷媒を設け、浄化
され、かつ、低温となった処理ガスこのように、常温吸
着塔でのキセノンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を浄化
され、かつ、低温となった処理ガスの冷熱を利用して除
去した場合は、７レオン冷凍機の設置が不用となるので
エネルギの無駄が大幅に削減できる。
本発明は、以上説明したように、原子炉本体からの処理
ガス中に含有されたクリプトン、キセノンの放射性希ガ
スの分離・回収するに、特に、キセノンの吸着・減衰時
に生じる崩壊熱を、浄化され、かつ、低温となった処理
ガスの冷熱を別層して除去するようにしたので、フレオ
ン冷凍機が不用となシエネルギの無駄を大幅に削減でき
る効果がある。
ガス中に含有されたクリプトン、キセノンの放射性希ガ
スの分離・回収するに、特に、キセノンの吸着・減衰時
に生じる崩壊熱を、浄化され、かつ、低温となった処理
ガスの冷熱を別層して除去するようにしたので、フレオ
ン冷凍機が不用となシエネルギの無駄を大幅に削減でき
る効果がある。
第１図は、従来の放射性希ガスの分離・回収法および装
置例を説明する放射性希ガスの分離・回収プロセスの７
０−シート、第２図は、本発明の一実施例を説明する放
射性希ガスの分離・回収プロセスのフローシートである
。 １・・・・・・常温吸着塔、２． ４．２３．２４．２
９．３１・・・導管、加・・・・・・低温吸着塔、（資
）・・・・・・自動弁、！・・・・・・温度指示調節計 手続補正書（０引 発明の名称 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 補正をする者 シ、 ｐ、、 ＬＳＩ ０１株式会トド 日、立
製 イ乍 所代 表 名 三−１） 勝 茂 代 理 人 補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄および発明の詳細な説明の
欄補正の内容 別紙のとおり 明細書 発明の名称 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 特許請求の範囲 己の分離・回収法において、前記キセノンの吸着・減衰
時に生じる崩壊熱を、浄化され、かつ、低温となった前
記処理ガスの冷熱を利用して除去することを特徴とする
放射性希ガスの分離・回収法。 ２、活性炭吸着法と深冷分離法とを組合せ、常温」４１
脱水塔、低温吸着塔、浄化ガス加熱器等より構成された
処理ガス中に含有された放射性希ガスの分離・回収装置
において、前記低温−懸と前記浄化ガス加熱器を連結す
る導管から分岐され、かつ、自動弁が途中に設置された
導管を前記常温吸着塔に連結させ、かつ、常温ｉｎｓと
前記脱水塔を連結する導管の途中に自動弁開度の調節・
制御用温度指示調節計を設置したことを特徴とする放射
性希ガスの分離・回収袋Ｗ０ 発明の詳細な説明 本発明は、放射性希ガスの分離会回収法および装置に係
り、特に、キセノンの吸着・減衰時に発生する崩壊熱の
除去に好適な放射性希ガスの分離・回収法および装置に
関するものである。 従来の放射性希ガスの分離・回収法および装置例な第１
図により説明する。第１図は、活性炭吸着法と深冷分離
法を直列に組合せた放射性希ガスの分離・回収プロセス
のフローシートである。第１図で、１は複数個直列、に
設置された常温吸着塔で、最後尾の常温吸着塔１塔底に
は、放射性希ガスを含有する処理ガス供給用の導管２が
連結されている。３は２個並列に設置された脱水塔で、
脱水塔３塔底はそれぞれ最前の常温吸着塔１塔底と導管
４で連結され、かつ、脱水塔３塔頂側には再生ガス供給
用の導管５が、塔底側には再生ガス排出用の導管６が連
結されている。７は予冷器で、予冷器７頂部は脱水塔３
とそれぞれ導管８で連結されている。９は底部に蒸発器
１０．頂部に凝縮器１１を有する蒸留塔で、蒸留塔９は
予冷器７底部と導管１２で連結され、蒸発器ｌＯには凝
縮液送出用の導管１３が連結されている。１４は液体窒
素ドラムで、液体窒素ドラム１４には液体窒素供給用の
導管１５が連結され、また、凝縮器１１に液体窒素を供
給する導管１６と凝縮器１１から窒素ガスを供給する導
管１７が連結され、更に、液体窒素ドラム１４と予冷器
７が導管１Ｂで連結されている。なお、予冷器７には窒
素ガス排出用の導管１９が連結されている。Ｉは低温吸
着塔で、低温吸着塔（９）塔底は蒸留塔９塔頂と導管２
１で連結されている。ｎは浄化ガス加熱器で、浄化ガス
加熱器ｎ入口側は低温吸着塔加塔頂と導管ｎで連結され
、また、浄化ガス加熱器ｎ出口側には浄化ガス送出用の
導管冴が連結されている。５は冷凍機で、冷却水供給用
の導管が、冷却水排出用の導管ｎが常温吸着塔ｌにそれ
ぞれ連結されている。なお、外部からの熱侵入を防止す
るため、予冷器７．蒸留塔９．液体窒素ドラム１４およ
び低温吸着塔加は保冷検器に収納されている。 このように構成された放射性希ガスの分離・回収プロセ
スにおいて、処理ガス中に含有された放射性希ガスの分
離・回収は次のように行われる。 放射性希ガスを含有する処理ガスは導管２を経て常温吸
着塔１に送給される。常温吸着塔１では、処理ガス中の
キセノンが吸着・減衰時に崩壊熱を生じ、常温吸着塔ｌ
の温度が上昇し活性炭の吸着効果が低下するため、これ
を防止するため、冷凍機３から導管器を経て常温吸着塔
１に冷水を供給し、この崩壊熱を吸熱した冷水を導管ｎ
を経て冷凍機すに戻すことにより崩壊熱を除去している
。 キセノンが分離された処理ガスは導管４な経て脱水塔３
に供給され、水分を除去された後に、導管８を舒て予冷
器７に送給される。なお、脱水塔３は水分除去後破過点
に達する前に他の吸着塔３と切換えられ、脱水塔３内の
吸湿剤は、導管５を経て脱水塔３に供給され、導管６よ
り排出される再、− 生ガスにより再生される。予冷器７に供給された脱水塔
３で脱水された処理ガスは、液体窒素ドラム１４から導
管１Ｂを経て予冷器７に別に供給された窒素ガスにより
窒素の沸点近くまで冷却され、導管１２を経て蒸留塔９
に供給される。蒸留塔９では、蒸発器ｌＯからの蒸発ガ
スと共に処理ガスは上昇し、凝縮器１１で液体窒素ドラ
ム１４から導管１６を経て別に供給された液体窒素によ
り処理ガスの一部が液化された下降液と充填層を通して
気液接触することにより、処理ガス中の高沸点成分であ
るクリプトンは源側に移動し、クリプトンを多く含有し
た凝縮液は蒸発器１０に滞留し、導管１３により系外へ
送出される。一方、クリプトンの多くが分離され浄化さ
れた処理ガスは、凝縮器１１を通り、蒸留塔９塔頂から
導管２１を経て低温吸着塔加を通り、導管ｎを経て浄化
ガス加熱器四に供給され、浄化ガス加熱器ｎで常温に戻
された後に導管Ｕより糸外へ送出される。 このように従来の放射性希ガスの分離−回収法および装
置では、浄化され、かつ、低温となった処理ガスの冷熱
を利用することなく、唯単に浄化ガス加熱器ｎで常温に
戻され系外へ送出され、一方、常温吸着塔１でのキセノ
ンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を除去するのに別に冷
凍機δ等の冷却装置を設置する必要があった。 本発明は、上記冷凍機等の冷却装置としない省エネルギ
を目的としたもので、キセノンの吸着φ減衰時に生じる
崩壊熱を冷凍機を用いることなく、浄化され、かつ、低
温となった処理ガスの冷熱を利用して除去する放射性希
ガスの分離・回収法および装置を提供するものである。 本発明の一実施例を第２図により説明する。第２図で、
ＩＪｉ図と同−機器等は同一符号で示し説明を省略する
。器は導管器より分岐され、かつ、自動弁Ｉが途中に設
置された導管で、それぞれの常温吸着塔１に連結されて
いる。３１は導管器とそれぞれの常温吸着塔１な連結す
る導管である。諺は導管４の途中に設置され、かつ、自
動弁菊の弁開度を調節・制御する温度指示調節計である
。 この場合は、常温吸着塔１に導管２を経て供給された処
理ガス中のキセノンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱は、
低温吸着塔加より導管り、自動弁（資）を介し導管器を
経て常温吸着塔１に供給されて浄化され、かつ、低温と
なった処理ガスの冷熱を利用して除去される。この場合
、浄化され、かつ。 低温となった処理ガスによ！処理ガス中に含有された水
分が氷結し、常温吸着塔ｌの吸着機能の低下を防止する
ため、温度指示調節計羽で処理ガス中に含有された水分
が氷結しない程度に、しかも、できるだけ低温に設定し
て浄化され、かつ、低温となった処理ガスの常温吸着塔
ｌへの供給量は自動弁（資）の弁開度を調節・制御し、
適正量に制御される。その後、キセノンが分離された処
理ガスは、従来例と同様のプロセスでクリプトンを分離
され、かつ、低温となった処理ガスの一部はキセノンの
吸着・減衰時に生じる崩壊熱の除去に利用され、残りは
浄化ガス加熱器２で常温に戻され、導管３１からの崩壊
熱除去に利用された処理ガスとともに導管器より系外へ
送出される。 なお、浄化ガス加熱器ｎを熱交換器として用い、常温吸
着塔町と浄化ガス加熱器ｎの間に他の冷媒を設け、浄化
され、かつ、低温となった処理ガスにより冷媒を冷却し
、これによりキセノンの吸着９減衰時に生じる崩壊熱な
除去しても良い。 このように、常温吸着塔でのキセノンの吸着拳減衰時に
生じる崩壊熱を浄化され、かつ、低温となつた処理ガス
の冷熱を利用して除去した場合は、冷凍機の設置が不用
となる。 本発明は、以上説明したように、処理ガス中に含有され
た放射性希ガスの分離・回収をするのに、特に、キセノ
ンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を、、１゜ 浄化され、かつ、低温となった処理ガスの冷熱す）利用
して除去するようにしたので、冷凍機が不用となる効果
がある。 図面の簡単な説明 第１図は、従来の放射性希ガスの分離・回収法および装
置例な説明する放射性希ガスの分離・回収プロセスのフ
ローシート、第２図は、本発明の一実施例な説明する放
射性希ガスの分離・回収プロセスのフローシートである
。 １・・・・・・常温吸着塔、２． ４．２３．２４．２
９．３１・・・導管、加・・・・・・低温吸着塔、（資
）・・・・・・自動弁、諺・・・・・・温度指示調節針 代理人−弁理士 薄 １）利 鳥誘怪°１［件の表示 昭和５６ 年特許願第 １１３６８５ 号発明の名称 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 捕市をする者 ′５１つ）（°（式会ｉす ［］ 立 製 作
所イ・ 表 古 玉 １１ 勝
茂代 理 人 補正の内容 別紙のとおり ／ご＝）１
昭和５７年１０月２１日付提出の手続補正書の補正の
内容の欄を［別紙のとおり（補正の対象の欄に記載した
事項以外は内容に史実なし）］と補正する。
置例を説明する放射性希ガスの分離・回収プロセスの７
０−シート、第２図は、本発明の一実施例を説明する放
射性希ガスの分離・回収プロセスのフローシートである
。 １・・・・・・常温吸着塔、２． ４．２３．２４．２
９．３１・・・導管、加・・・・・・低温吸着塔、（資
）・・・・・・自動弁、！・・・・・・温度指示調節計 手続補正書（０引 発明の名称 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 補正をする者 シ、 ｐ、、 ＬＳＩ ０１株式会トド 日、立
製 イ乍 所代 表 名 三−１） 勝 茂 代 理 人 補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄および発明の詳細な説明の
欄補正の内容 別紙のとおり 明細書 発明の名称 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 特許請求の範囲 己の分離・回収法において、前記キセノンの吸着・減衰
時に生じる崩壊熱を、浄化され、かつ、低温となった前
記処理ガスの冷熱を利用して除去することを特徴とする
放射性希ガスの分離・回収法。 ２、活性炭吸着法と深冷分離法とを組合せ、常温」４１
脱水塔、低温吸着塔、浄化ガス加熱器等より構成された
処理ガス中に含有された放射性希ガスの分離・回収装置
において、前記低温−懸と前記浄化ガス加熱器を連結す
る導管から分岐され、かつ、自動弁が途中に設置された
導管を前記常温吸着塔に連結させ、かつ、常温ｉｎｓと
前記脱水塔を連結する導管の途中に自動弁開度の調節・
制御用温度指示調節計を設置したことを特徴とする放射
性希ガスの分離・回収袋Ｗ０ 発明の詳細な説明 本発明は、放射性希ガスの分離会回収法および装置に係
り、特に、キセノンの吸着・減衰時に発生する崩壊熱の
除去に好適な放射性希ガスの分離・回収法および装置に
関するものである。 従来の放射性希ガスの分離・回収法および装置例な第１
図により説明する。第１図は、活性炭吸着法と深冷分離
法を直列に組合せた放射性希ガスの分離・回収プロセス
のフローシートである。第１図で、１は複数個直列、に
設置された常温吸着塔で、最後尾の常温吸着塔１塔底に
は、放射性希ガスを含有する処理ガス供給用の導管２が
連結されている。３は２個並列に設置された脱水塔で、
脱水塔３塔底はそれぞれ最前の常温吸着塔１塔底と導管
４で連結され、かつ、脱水塔３塔頂側には再生ガス供給
用の導管５が、塔底側には再生ガス排出用の導管６が連
結されている。７は予冷器で、予冷器７頂部は脱水塔３
とそれぞれ導管８で連結されている。９は底部に蒸発器
１０．頂部に凝縮器１１を有する蒸留塔で、蒸留塔９は
予冷器７底部と導管１２で連結され、蒸発器ｌＯには凝
縮液送出用の導管１３が連結されている。１４は液体窒
素ドラムで、液体窒素ドラム１４には液体窒素供給用の
導管１５が連結され、また、凝縮器１１に液体窒素を供
給する導管１６と凝縮器１１から窒素ガスを供給する導
管１７が連結され、更に、液体窒素ドラム１４と予冷器
７が導管１Ｂで連結されている。なお、予冷器７には窒
素ガス排出用の導管１９が連結されている。Ｉは低温吸
着塔で、低温吸着塔（９）塔底は蒸留塔９塔頂と導管２
１で連結されている。ｎは浄化ガス加熱器で、浄化ガス
加熱器ｎ入口側は低温吸着塔加塔頂と導管ｎで連結され
、また、浄化ガス加熱器ｎ出口側には浄化ガス送出用の
導管冴が連結されている。５は冷凍機で、冷却水供給用
の導管が、冷却水排出用の導管ｎが常温吸着塔ｌにそれ
ぞれ連結されている。なお、外部からの熱侵入を防止す
るため、予冷器７．蒸留塔９．液体窒素ドラム１４およ
び低温吸着塔加は保冷検器に収納されている。 このように構成された放射性希ガスの分離・回収プロセ
スにおいて、処理ガス中に含有された放射性希ガスの分
離・回収は次のように行われる。 放射性希ガスを含有する処理ガスは導管２を経て常温吸
着塔１に送給される。常温吸着塔１では、処理ガス中の
キセノンが吸着・減衰時に崩壊熱を生じ、常温吸着塔ｌ
の温度が上昇し活性炭の吸着効果が低下するため、これ
を防止するため、冷凍機３から導管器を経て常温吸着塔
１に冷水を供給し、この崩壊熱を吸熱した冷水を導管ｎ
を経て冷凍機すに戻すことにより崩壊熱を除去している
。 キセノンが分離された処理ガスは導管４な経て脱水塔３
に供給され、水分を除去された後に、導管８を舒て予冷
器７に送給される。なお、脱水塔３は水分除去後破過点
に達する前に他の吸着塔３と切換えられ、脱水塔３内の
吸湿剤は、導管５を経て脱水塔３に供給され、導管６よ
り排出される再、− 生ガスにより再生される。予冷器７に供給された脱水塔
３で脱水された処理ガスは、液体窒素ドラム１４から導
管１Ｂを経て予冷器７に別に供給された窒素ガスにより
窒素の沸点近くまで冷却され、導管１２を経て蒸留塔９
に供給される。蒸留塔９では、蒸発器ｌＯからの蒸発ガ
スと共に処理ガスは上昇し、凝縮器１１で液体窒素ドラ
ム１４から導管１６を経て別に供給された液体窒素によ
り処理ガスの一部が液化された下降液と充填層を通して
気液接触することにより、処理ガス中の高沸点成分であ
るクリプトンは源側に移動し、クリプトンを多く含有し
た凝縮液は蒸発器１０に滞留し、導管１３により系外へ
送出される。一方、クリプトンの多くが分離され浄化さ
れた処理ガスは、凝縮器１１を通り、蒸留塔９塔頂から
導管２１を経て低温吸着塔加を通り、導管ｎを経て浄化
ガス加熱器四に供給され、浄化ガス加熱器ｎで常温に戻
された後に導管Ｕより糸外へ送出される。 このように従来の放射性希ガスの分離−回収法および装
置では、浄化され、かつ、低温となった処理ガスの冷熱
を利用することなく、唯単に浄化ガス加熱器ｎで常温に
戻され系外へ送出され、一方、常温吸着塔１でのキセノ
ンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を除去するのに別に冷
凍機δ等の冷却装置を設置する必要があった。 本発明は、上記冷凍機等の冷却装置としない省エネルギ
を目的としたもので、キセノンの吸着φ減衰時に生じる
崩壊熱を冷凍機を用いることなく、浄化され、かつ、低
温となった処理ガスの冷熱を利用して除去する放射性希
ガスの分離・回収法および装置を提供するものである。 本発明の一実施例を第２図により説明する。第２図で、
ＩＪｉ図と同−機器等は同一符号で示し説明を省略する
。器は導管器より分岐され、かつ、自動弁Ｉが途中に設
置された導管で、それぞれの常温吸着塔１に連結されて
いる。３１は導管器とそれぞれの常温吸着塔１な連結す
る導管である。諺は導管４の途中に設置され、かつ、自
動弁菊の弁開度を調節・制御する温度指示調節計である
。 この場合は、常温吸着塔１に導管２を経て供給された処
理ガス中のキセノンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱は、
低温吸着塔加より導管り、自動弁（資）を介し導管器を
経て常温吸着塔１に供給されて浄化され、かつ、低温と
なった処理ガスの冷熱を利用して除去される。この場合
、浄化され、かつ。 低温となった処理ガスによ！処理ガス中に含有された水
分が氷結し、常温吸着塔ｌの吸着機能の低下を防止する
ため、温度指示調節計羽で処理ガス中に含有された水分
が氷結しない程度に、しかも、できるだけ低温に設定し
て浄化され、かつ、低温となった処理ガスの常温吸着塔
ｌへの供給量は自動弁（資）の弁開度を調節・制御し、
適正量に制御される。その後、キセノンが分離された処
理ガスは、従来例と同様のプロセスでクリプトンを分離
され、かつ、低温となった処理ガスの一部はキセノンの
吸着・減衰時に生じる崩壊熱の除去に利用され、残りは
浄化ガス加熱器２で常温に戻され、導管３１からの崩壊
熱除去に利用された処理ガスとともに導管器より系外へ
送出される。 なお、浄化ガス加熱器ｎを熱交換器として用い、常温吸
着塔町と浄化ガス加熱器ｎの間に他の冷媒を設け、浄化
され、かつ、低温となった処理ガスにより冷媒を冷却し
、これによりキセノンの吸着９減衰時に生じる崩壊熱な
除去しても良い。 このように、常温吸着塔でのキセノンの吸着拳減衰時に
生じる崩壊熱を浄化され、かつ、低温となつた処理ガス
の冷熱を利用して除去した場合は、冷凍機の設置が不用
となる。 本発明は、以上説明したように、処理ガス中に含有され
た放射性希ガスの分離・回収をするのに、特に、キセノ
ンの吸着・減衰時に生じる崩壊熱を、、１゜ 浄化され、かつ、低温となった処理ガスの冷熱す）利用
して除去するようにしたので、冷凍機が不用となる効果
がある。 図面の簡単な説明 第１図は、従来の放射性希ガスの分離・回収法および装
置例な説明する放射性希ガスの分離・回収プロセスのフ
ローシート、第２図は、本発明の一実施例な説明する放
射性希ガスの分離・回収プロセスのフローシートである
。 １・・・・・・常温吸着塔、２． ４．２３．２４．２
９．３１・・・導管、加・・・・・・低温吸着塔、（資
）・・・・・・自動弁、諺・・・・・・温度指示調節針 代理人−弁理士 薄 １）利 鳥誘怪°１［件の表示 昭和５６ 年特許願第 １１３６８５ 号発明の名称 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 捕市をする者 ′５１つ）（°（式会ｉす ［］ 立 製 作
所イ・ 表 古 玉 １１ 勝
茂代 理 人 補正の内容 別紙のとおり ／ご＝）１
昭和５７年１０月２１日付提出の手続補正書の補正の
内容の欄を［別紙のとおり（補正の対象の欄に記載した
事項以外は内容に史実なし）］と補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 活性炭吸着法と深冷分離法とを組合せ、原子炉本体
からの処理ガス中に含有されたクリグトン、キセノンの
放射性希ガスの分離・回収法にする放射性希ガスの分離
・回収法。 性炭吸着塔、脱水塔、低温活性炭吸着塔、浄化ガス加熱
器等よシ構成された原子炉本体からの処理ガス中に含有
されたクリプトン、キセノンの放射性希ガスの分離・回
収装置において、前記低温活性炭吸着塔と前記浄化ガス
加熱器を連結する導管から分岐され、かつ、自動弁が途
中に設置された導管を前記常温活性炭吸着塔に連結させ
、かつ、常温活性炭吸着塔と前記脱水塔を連結する導管
の途中に自動弁開度の調節・制御用温度指示調節針を設
置したことを特徴とする放射性希ガスの分離・回収装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11368581A JPS58108496A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11368581A JPS58108496A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58108496A true JPS58108496A (ja) | 1983-06-28 |
| JPS642239B2 JPS642239B2 (ja) | 1989-01-17 |
Family
ID=14618576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11368581A Granted JPS58108496A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 放射性希ガスの分離・回収法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58108496A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4854211A (en) * | 1986-09-09 | 1989-08-08 | Tanaka International Co., Ltd. | Action mechanism of an upright piano |
| US4860626A (en) * | 1986-09-09 | 1989-08-29 | Hajime Tanaka | Wippen heel mechanism for an upright piano |
| US5022302A (en) * | 1989-02-22 | 1991-06-11 | Vincent Guyon | Damper mechanism for upright piano |
-
1981
- 1981-07-22 JP JP11368581A patent/JPS58108496A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4854211A (en) * | 1986-09-09 | 1989-08-08 | Tanaka International Co., Ltd. | Action mechanism of an upright piano |
| US4860626A (en) * | 1986-09-09 | 1989-08-29 | Hajime Tanaka | Wippen heel mechanism for an upright piano |
| US5022302A (en) * | 1989-02-22 | 1991-06-11 | Vincent Guyon | Damper mechanism for upright piano |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS642239B2 (ja) | 1989-01-17 |
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