JPS5810863A - 光子的固体検出器及び、これを用いてなる画像形成タ−ゲツト - Google Patents

光子的固体検出器及び、これを用いてなる画像形成タ−ゲツト

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JPS5810863A
JPS5810863A JP57112430A JP11243082A JPS5810863A JP S5810863 A JPS5810863 A JP S5810863A JP 57112430 A JP57112430 A JP 57112430A JP 11243082 A JP11243082 A JP 11243082A JP S5810863 A JPS5810863 A JP S5810863A
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JP
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transistor
current
gate electrode
substrate
transition section
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JP57112430A
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マルク・アルク
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Thales SA
Original Assignee
Thomson CSF SA
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors
    • H10F39/15Charge-coupled device [CCD] image sensors
    • H10F39/157CCD or CID infrared image sensors
    • H10F39/1575CCD or CID infrared image sensors of the hybrid type

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  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線検出器と電荷転送読み111クシステ
ムとより形成されるアセンブリ、殊に光子的固体検出器
に関する。
このようなアセンブリは入射Ji殊に赤外線の像を形成
するのに用いられる。
本発明は殊に固体検出器すなわちセンサが、光電流ダイ
オードすなわち一ホトダイオードから形成されておシ、
読み112り装置は読み取り信号妙1逐次読み取りレジ
スタに転送されるような今日、周知の電荷転送読み取9
装置(DTC)−イギリスの文献においてはC0D−か
ら形成されているような場合Kかかるものである。信号
はここでは放射線を受ける仁とによってダイオード内に
生起せしめられる自由電荷からなるものである。本発明
は、このようなダイオードの場合を非限定的に述べるも
のである。
一般に1このような装置においては、信号祉電荷すなわ
ちホトダイオードからの電荷を運ぶように調整されてお
)、この電荷が、同符号をもつような電荷転送に用いら
れている。しかしながら、技術的理由によシ、その位置
が反対になったり、電荷が反対の符号をもつようなこと
も起り得る。
この時、信号の読み取りに問題が生じる。本発明は、以
下で説明するようにこの問題を解決することを目的とす
るものである。
本発明は、以下の説明及び添付図面を参照することによ
ってよりよく理解されるであろう。
第1(a、b)図及び第2(’a、b)図は、参5− 黒符号を付さないダイオードとDC供給器龜とを通常の
ごとく示すものでアシ、このダイオードは、酌述したよ
うに入射したフォトンに対応する信号を供給する光電流
ダイオードである。そして電荷転送読み取多装置は、文
字CODでマークされた矩形で表わされてお夛、付加文
字は転送電荷の符号を示している。ここでNq電子、P
は1正孔”を示すものである。第1回の場合には、ホト
ダイオードは図示の通シに接続されており、転送に用い
られるのと同じ符号をもつ電荷からなる信号を供給する
。この電荷は第1(a)図の場合は電子であり、第1(
b)図の場合は正孔である。この第1(1゜b)図と比
較して示されているように、#I2図の配列においては
、これは反転してお9、信号の電荷と転送される電荷は
反対の符号を有している。
転送電荷がいかなる符号−員(電子)又は正(正孔)−
を有しているta含吃、本発8Aが適用されるのは第2
図の状態の時である。このような6 − 状態が起るのは、ホトダイオードと電荷転送読み取り装
置が実際、一般には2つの異なる物質から形成されてい
るためである。たとえば、一般に電荷転送読み取シ装置
はN型チャネルのシリコン基板に形成されており、転送
電荷は電子であり、ホトダイオードは赤外線用の場合イ
ンジウムアンチモナイト基板(Inck )内に形成さ
れている。さらKもう1つの理由としては、主に技術的
な制約により、ホトダイオードの端子(アノードあるい
はカソード)の1つが、電荷転送装置と接続され、もう
1つの端子が電圧源に接続されているために、前者のと
り出しが不可能となることがあるためである。もしも特
別な理由で問題のシリコン基板内でpmチャネルが選択
されているなら第2(a)図あるいは第2(b)図のよ
うな事11av生じ仮−であろう。
提起されている問題を解決するために、第2(a)図及
び第2(b)図で示されている様な2つの事態において
は第3(a、b)図で示されているように電流源を付加
することは周知である。この電流源は図示しないが、電
流の方向は、通常の電流の慣例に従って矢印で示されて
おり、電流の方向は電子の運動方向とは反対である。こ
の電源によって供給される付加電流は18Cで示されて
いる。困雌性を克服するためには、内部の導電性を確保
するキャリアと同符号を有するキャリアが読み取り装置
に注入されるように、この電流rscが、ホトダイオー
ド内に流れる本来の光電流よりも大きくなければならな
い。9かホトダイオードの信号電流であシ、1が集中段
階で電源に供給される全電流であるとき、この場合、読
み取シ亀流はa−sの形の相補的電流であり、この電流
a−sはそれ自体、電流Sと同様の型であることがわか
る。しかしながら、電源は電荷転送読み取り装置の外に
ある。
本発明によれば、集中度を増すために、電流源は電荷転
送読み砲り装置と同一基板上に形成される。第1の変形
例では、電流源は、第4図に示されているように電圧源
為およびグー) G、cに接続されておりN形基板1内
に形成されているP形にドープされた領域によって形成
されている。添字saは、このゲートと電流源との関係
を示すために選択されたものである。
この場合、転送される電荷は正孔すなわち正の電荷であ
ることを記憶されたい。このアセンブリはP形チャネル
を有していると言われ、第3(b)図に示され念状態に
対応している。
基板は電圧v、ubにバイアスされている。
第4図は更にホトダイオードと()CCOでマークされ
ている第1ゲートで示されている電荷転送装置との間に
配置されておシ、通常存在するような遷移要素を示して
いる。この遷移部はMOS)?ンジスタからなり、その
ソースはこの図の右から最遠部にあるP形ドープ領域で
あシ、この領域は、その制御ゲートがゲートGc  で
あるところのホト9− ダイオードに接続されている。又、ドレインは前述した
ように、破線を越えて電荷転送装置に信号電荷を注入す
るまでその下に信号電荷を蓄積するゲート08!である
2つのP領域とグー)G、cKよって飽和状態を維持さ
れたトランジスタが形成されている。このトランジスタ
は電流源と吟価であって、ソース電流は前回の電流Ig
Cと等価である。ホトダイオードは読み取り装置中の転
送電荷と反対符号をもつ電荷を補償するのにこの電流の
一部!Dを要する。
そして電流の一部11 が次式で示される如く残る。
、11=Isc  IID+       (11これ
はその電流の一部が牛の転送に望ましい符号の電荷で形
成されているような第3図の電流の配分についての式で
ある。ホトダイオードから受けとる電fiKよってトラ
ンジスタP # Gsc l Pの出力が変動するのを
避ける丸めに、。前の飽和状態が心像とされる。
一1〇− 電流1i はゲートG1の下で蓄積され、全集中段階で
このゲートの下に集められる。その結果集められた電荷
はゲートGT下でチャネルをつくることKよって読み取
り装置に周期的に転送される。
第5図では蓄積グー) OSt下の電流Ii の電荷を
転送している間の他のゲート下における表面電位−膳の
状態が示されている。
かかる表現においては、集線は他の電極下で効果的に支
配している表面電位を表わしておシ、破線は1電位の井
戸”において電荷が空であったとき、これらの同じ電位
がどのようになるかを示している。さらに斜線を入れた
表面は井戸内の電荷の量を示している。また、簡単にす
るために、異なるゲートはその間で交差することのない
ように示したが、実際は連続する2つのゲートは部分的
に交差していてもよい。異なるゲートから基板を分離す
る絶縁層についても簡単化の九めに図示していない。基
板がPチャネル基板であり、動く電荷が正孔であるとい
う事実を保持する限りにおいて電位6の軸は図において
は上方に向って正となるように配向している。
本発明の装置において用いられる信号の大きさの程度つ
まり、上述のa−−すなわち式(1)による!iを考慮
すれば、ホトダイオード(8すなわちIn)からの信号
が増加すればする程この信号すなわち読み増り装置に注
入される信号はよシ減少する。本発明の装置は、たとえ
ばホトダイオードの過照射によるような過負荷に対して
は自己補償効果を具備している。
式(1)の右辺をキャンセルするのに充分な和項IDが
大きくなると、読み取シ装置に注入される信号はOにな
ることさえあり得る。すなわち、この値の程度かあるい
はそれ以上いかにホトダイオードが照射されても読み取
り信号は、電荷転送装置の出力でチョップ(ahop 
)され、いかなる場合も滑らかとはならない。
電流l虐cが充分に高いときにはxICの存在はホトダ
イオードから電荷転送読み取9装置への信号の伝達条件
を改善することになるということもわかるであろう。実
際に、信号の注入効率はホトダイオードとMol遷移(
MoStransitlon)のインピーダンスの相対
値に依存するということは周知である。低周波において
は、ホトダイオードの所定の抵抗のためにMol遷移の
ト2ンスコンII/ンスに伴って注入効率は増大する。
ここでトランスコンダクタンスは信号の移送に伴う電流
すなわち前記電流!1の増加関数である。さらに#IK
説明したように、信号の大きさをいかに選択するかによ
ってこの注入効率はすべてよシ良くな9、照射レベルす
なわち式(1)中の量!。が低くなる。
充分に照射されなかった場命紘、強く照射された場面よ
りよく移送される。
本発明の他の変形例では、第6図に示されているように
、電流源はグー)GICI  を含んでいるが、13− このグー) Gmc*の役割を次に第7図を参照して説
明しよう。
第6図の具体例においては、グー) ashesはホト
ダイオードに接続されたP領域の右側で基板1上に配置
されて゛おり、それを示す添字は1g4図のゲ−)G、
cと同様にグー) G5Csが電流の発生に寄与するた
めである。しかしながら他の過程でその中に用いられる
こともある。ソース島ではこの図において作動時、端子
間で電位差VIIAN が現われ、第4図のゲートos
cではGIAN(ILANは再レベル化)が現われるこ
とが示されている。かかるア七ンプリは、第7(a−d
)を参照して以下で説明するごとく作動する。
この時、Mo8)ランジスメP 、 G11A)Ja 
Pは、活性時には直線形の作動条件下で作動し、残りの
時間には作動しない。
GaCl下にある電位の井戸は、2回のP拡散で形成さ
れ九トランジスタと電圧VIAHにバイアスさ14− れ九グートG凰ムNとからの電荷で満九されている。
ゲートGIAIIの下にあるチャネルを初期時間(第7
(a)図)になくしたのち、Gacm (第7(b)図
)に付与される電位を下げることによってcscmの下
の電位の井戸の容量社減少する。セしてG、。の下の余
剰電荷がaStO下の井戸に流れ込む電流を生起する口
この電流は前の例と同様に、式(1)に従って、ホトダ
イオードに吸収される電流11分だけ減少し&IBに等
しい、toから離れた時刻1 = 1゜で集中段階、T
I の接続中においてゲ一) ascmの下にある井戸
の容量が最小値をとるとき、第7(c)図に示す状態で
あることがわかる。GmCMの下の井戸は初期の深さに
戻され、1=s−でゲートGIA)lの下のチャネルを
形成することによって再び井戸は満たされる。そして装
置は次のサイクルの準備がなされるQoおよびQo#i
M7図中では、前記電流IIC及びI、のサイクル中に
得られる電荷量を示している。
前記2つの変形例を比較すると、いずれの場合も読み取
シ装−〇基板内に形成され適切にバイヤスされているM
OSによって電流の発生はないが、第1の変形例の場合
は、蓄積ゲートG1に電流が連続的に流れ、チャージは
、この蓄積ゲートから読み取り装置に移送される。逆に
第2の変形例の場合は0社下に蓄積される前にグー) 
08C*下に第1の蓄積が行なわれる。各サイクルにお
いてこの第1の蓄積の結果としておこる移送はこの第1
場合に作動するグー) G、Tに対してなされる。
グー) G、、での電荷の移送は、本発明の範囲内で稙
々の方法において行なわれる。好ましい具体例において
は、時間とともに序々に減少する電圧を電極ammcを
介して適用することによって行なわれる。第8図゛にみ
られるように、該電圧は、読み取シ装置の移送電極6テ
及び再レベル化電極への1サイクルの間に適用されるこ
とも示されている。
この図の具体例において、電極ascsに適用される電
圧ランプは一次元的減少に対応し、その正の勾配は前記
の1正孔”からなる自由電荷に対応する。
第8図の時間的説明図においては、種々の位相の形状を
考慮すべく切断されており、時間間隔を山は一般KT1
 ON、//10もしくはそれ以下である。電流1.c
は前記ランプの勾配に作用することによシ制御される。
読み堆シ装置にGMTで蓄積され、ゲートG!によって
制御される電荷の注入は、既に検討されている集中期間
Ti を決定する周波数において周期的に行なわれる。
各集中化の終りに於いて、1つの記鎌器のみが読み取り
器に同時に注入されたいくつかのダイオード全てからの
信号を次々に読み取るのに有用であるので、こ−の周波
数は一般的には、読み取り装置がそれ自体で情報を空に
する周波数よりも極めて小さい。既述のサイクルにおい
てcst&七amcsからの電荷の移送が行なわれる周
波数に関して、その周波数はG!が制御され17− 1井戸を空にする以酌に数回繰り返され得、oscsφ
容量の方が大きい場合には、osctに作用する周波数
は小さい。周波数間に課せられる関係はない。
第7図の場合には、周波数は等しく選択されておシ、読
み取り装置への移送は時間1.において有効である。
電極GRAIII及びGacmの電位を切換える周波数
は常に等しい。
過負荷に対する自己保護及び注入効率への電流kcの有
利な効果に関する既述の所見はこの変形例においても適
用される。
他方、過照射に続く遅れが考慮される限シにおいて2つ
の変形例間の差異は注目すべきであり、18− 第−の変形例の場合には遅れはその作動点に戻るべきダ
イオードに対する必要時間に基いて観察される。該作動
点はこの過負荷の効果によシ、電流2夏りが電flt、
1.cに等しくなるまで減少される値に至るまで移動さ
れる。この移動はホトダイオードの開回路の作動点に向
けて行われる。第二の変形例においては、ダイオードの
作動点は各サイクルの開始時に再調整されるので、この
ような遅れは存在しない。
前記の装置の変形例において、グー) ascsはゲ−
)Gaffの後に2つのP拡散の間に配置される。
この変形例は第9図に示されている。その作動は第6図
に示されている変形例の操作と同様であるO 電荷転送読み増多装置の物質としては、既述のシリコン
の他に砒化カリウムが使用され得る。
ホトダイオードを形成する物質としては、インジウムア
ンチモナイドの他に、最近使用されている物質の中では
、テルル化カドミウム水銀即ちB7CdTe 、及びテ
ルル化錫鉛即ちPb8nT・が3〜12μの波長を有す
る赤外線に対して用いられる。
本発明による具体例では、テルル化物がPチャネル絖み
増多装置として協働しておシ、インジウムアンチモナイ
ドがNチャネル読み増多装置として協働している。
本発明は製造が容易であシ、必要な付加的累子は電荷転
送読み増多装置の基板中に容易に集積化される。
ストリップに沿っであるいはモザイクの表面に配置され
たホトダイオード列からなるターゲットを構成する赤外
線画像形成における応用例がみられる。
本発明は第3(b)図に対応して、P型チャンネルを有
するN型基板の場合に関して記述されている。
言うまでもなく、N型チャネルを有する第3(a)図に
も同勢に適用され、当業者にとっては公知の会費な変形
が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1a図、第1b図及び第2&回、第2b図は、本発明
のアセンブリに符合するいろいろな状態を示す図、 第3a図、第3b図は、本発明の第2a図及び第2b図
の変形例を示す図、 第4図及び第5図は、夫々本発明の第1の変形例の概要
図とその電位の概要図、 第6図及び@7(a”d)図は本発明の他の変形例を示
す同様の1護 GICe GaC1”’ゲート、lct −ka ”’
電圧源、1・N形基板。 代理人升纏士今  村    元 21−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 <tS  電荷転送読み取シ装置を具備してなシ、信号
    がMO8トランジスタからなる遷移部を介して読み*J
    )装置に注入されると共に、読み取り装置内に含まれる
    転送電荷が信号と反対符号を有してなる光子的固体検出
    器であって、転送電荷と同符号をもつ電荷から形成され
    る電流を発生する手段と、この電流を遷移部に注入する
    手段とよシなり、電流を発生する手段が前記遷移部のト
    ランジスタと並んで適度にバイヤスされて配置された第
    2のMOB)ランジスタによって読み取シ装置と同一の
    基板上に形成されてなることを特徴とする光子的固体検
    出器。 (2)電流発生手段が、遷移部のトランジスタと並んで
    その基板上に配置されていると共に、第1ドープ領琥と
    指称され検出器が接続された基板のP形ドープ領域と、
    この基板内に形成された第2P形ドープ領斌と、これら
    の2つの領域の間に配置されたゲート電極とから形成さ
    れた第2のMO8トランジスタからなっておシ、作動時
    、第2のMOB)ランジスタを飽和状態に維持するため
    の手段が具備されていることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項に記載の光子的検出器。 (3)  電流発生手段が、前記トランジスタと並んで
    その基板上に配置された第2のMOB)ランジスタから
    なシ、爽にこの第2のMOB)9ンジスメは、第1ドー
    グ領域と指称され検出器が接続された基板のP形ドープ
    領斌と、この基板内に形成された第2のP形ドープ領域
    と、これら2つの領域の間に配置された第1φゲート電
    極とから形成されており、更に動作時に直線上の前記の
    第2ト2ンジスタを一つおきにバイヤスして非作動状態
    にする手段が具備されておル、第2ゲート電極は基板に
    電流を供給すべく設けられておシ、かつ動作時に遷移部
    から読み取り装置に向って、連続する8つの転送信号を
    分鴫する時間間隔内で1回以上、遅れることなく絶えず
    変化するランプFC後続するような電圧をゲートに供給
    子るための手段が設けられていることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項に記載の光子的検出器〇 (4) 前記第2ゲート電極が前記2つのP領域間の第
    1ゲート電極の傍に配置されていることを特徴とする特
    許請求の範囲第3項に記載の光子的検出器。 (喝 前記第2ゲート電極が前記第2のP領域について
    第1ゲート電極の他の側に配置されていることを特徴と
    する特許請求の範囲第3項に記載の光子的検出器。 (6)  電圧のう:ン7゛が一次元的に可変であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の光子的検
    出器。 (η 前記検出器が光電流ダイオードから形成されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の光子
    的検出器〇 (8)  特許請求の範WJ第1項乃至#13項のいず
    れかに記載の検出器を少なくとも1つ有してなる画像形
    成ターゲット。
JP57112430A 1981-06-30 1982-06-29 光子的固体検出器及び、これを用いてなる画像形成タ−ゲツト Pending JPS5810863A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8112841 1981-06-30
FR8112841A FR2508709A1 (fr) 1981-06-30 1981-06-30 Detecteur photonique a lecture a transfert de charges a l'etat solide, et cible de prise de vues utilisant un tel detecteur

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JPS5810863A true JPS5810863A (ja) 1983-01-21

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JP57112430A Pending JPS5810863A (ja) 1981-06-30 1982-06-29 光子的固体検出器及び、これを用いてなる画像形成タ−ゲツト

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EP (1) EP0068975B1 (ja)
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EP0068975B1 (fr) 1985-04-24

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