JPS58128014A - 薄膜磁気ヘツド素体 - Google Patents
薄膜磁気ヘツド素体Info
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- JPS58128014A JPS58128014A JP998382A JP998382A JPS58128014A JP S58128014 A JPS58128014 A JP S58128014A JP 998382 A JP998382 A JP 998382A JP 998382 A JP998382 A JP 998382A JP S58128014 A JPS58128014 A JP S58128014A
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- polishing
- thin film
- magnetic head
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は薄膜磁気ヘッド索体に係り、特に基板上に強磁
性薄膜、導電性薄膜および絶縁性薄膜よりなる単位磁気
ヘッド群を形成し、さらＫ、この磁気ヘッド群の配列方
向の左右に研摩量を検知する手段をそれぞれ設けてなる
薄膜磁気へラド素体の研摩量を検知する手段の改良に関
するものである。
性薄膜、導電性薄膜および絶縁性薄膜よりなる単位磁気
ヘッド群を形成し、さらＫ、この磁気ヘッド群の配列方
向の左右に研摩量を検知する手段をそれぞれ設けてなる
薄膜磁気へラド素体の研摩量を検知する手段の改良に関
するものである。
第１図はこの種薄膜磁気ヘッド素体の従来例を示す上面
図である。第１図において、１は基板、２，５はそれぞ
れ基板１上に形成した単位磁気ヘッド群のコイルとなる
導電体層、磁気コアとなる磁性体層、４．５はそれぞれ
基板１の左右、すなわち、上記単位磁気ヘッド群の配列
方向の左右に設けた研摩量を検知する検知用マークであ
る。
図である。第１図において、１は基板、２，５はそれぞ
れ基板１上に形成した単位磁気ヘッド群のコイルとなる
導電体層、磁気コアとなる磁性体層、４．５はそれぞれ
基板１の左右、すなわち、上記単位磁気ヘッド群の配列
方向の左右に設けた研摩量を検知する検知用マークであ
る。
検知用！−り４．５は、図示したように、それぞれ直交
する２辺のうちの一辺が磁気ヘッドの空隙深さ方向と平
行で、かつ、互いに対向し、しかも、その辺と直角の対
辺との交点が磁気ヘッド空隙下端を結ぶ線Ａ −Ａ’上
にくるように配置した直角二等辺三角形としである。し
たがって、例えば、Ｂ−Ｂ’線までヘッド研摩がなされ
た場合に、検知用マーク４，５の鴫、鴫の幅を観測する
ことにより、ヘッド研摩の平行度および空隙深さを知る
ことができる。つまり、鴫六４であればＢ −８’線が
Ａ −Ａ’線に平行であることがわかり、そのときの’
、（あるいは鴫）の値から空隙深さを知ることができる
。
する２辺のうちの一辺が磁気ヘッドの空隙深さ方向と平
行で、かつ、互いに対向し、しかも、その辺と直角の対
辺との交点が磁気ヘッド空隙下端を結ぶ線Ａ −Ａ’上
にくるように配置した直角二等辺三角形としである。し
たがって、例えば、Ｂ−Ｂ’線までヘッド研摩がなされ
た場合に、検知用マーク４，５の鴫、鴫の幅を観測する
ことにより、ヘッド研摩の平行度および空隙深さを知る
ことができる。つまり、鴫六４であればＢ −８’線が
Ａ −Ａ’線に平行であることがわかり、そのときの’
、（あるいは鴫）の値から空隙深さを知ることができる
。
しかし、このように構成された従来例では、所望の空隙
深さを得るためＫは、ヘッド研摩とヘッド研摩面におけ
る検知用！−り４，５の幅へ。
深さを得るためＫは、ヘッド研摩とヘッド研摩面におけ
る検知用！−り４，５の幅へ。
鴫の観測を多数回に渡って繰り返して行わなければなら
ず、多大の時間と労力・、が必要になるという欠点があ
る。また、基１／Ｒ１の上端から空隙下端を結ぶ＠Ａ−
Ａ’までの研摩量は通常数百ミクロンであり、検知用マ
ーク４，５は直角二等辺三角形であるから、基板１の幅
方向に同じ長さが必要となり、基板１は、磁気ヘッド群
以外に検知用マーク４，５用の分だけ大きなものとしな
ければならず、磁気ヘッド素体の製造時に集積化をはか
る上に支障をきたすという間勉を生ずる。
ず、多大の時間と労力・、が必要になるという欠点があ
る。また、基１／Ｒ１の上端から空隙下端を結ぶ＠Ａ−
Ａ’までの研摩量は通常数百ミクロンであり、検知用マ
ーク４，５は直角二等辺三角形であるから、基板１の幅
方向に同じ長さが必要となり、基板１は、磁気ヘッド群
以外に検知用マーク４，５用の分だけ大きなものとしな
ければならず、磁気ヘッド素体の製造時に集積化をはか
る上に支障をきたすという間勉を生ずる。
本発明は上記に鑑みてなされたもので、その目的とする
ところは、ヘッド研摩をより効果的に行うことができ、
しかも、ヘッド素体の製造時の集積化に支障をきたさな
いようＫできる薄膜磁気ヘッド素体を提供することＫあ
る。
ところは、ヘッド研摩をより効果的に行うことができ、
しかも、ヘッド素体の製造時の集積化に支障をきたさな
いようＫできる薄膜磁気ヘッド素体を提供することＫあ
る。
本発明の特徴は、基板上の単位磁気ヘッド群の配列方向
の左右にそれぞれ設ける空隙深さを所定値にする研摩を
行うときの研摩量を検知する手段を、長辺または一方の
対角線が研摩方向になるように設けた少なくとも１個の
三角形または四角形の検知用マークと、研摩時にこの検
知用マークの研摩位置を識別するこの検知用マークの左
右Ｋｖ＆けた識別マークと、研摩時に研摩終了位置まで
研摩したことを電気的忙検知するための検知用電極とで
構成した点にある。
の左右にそれぞれ設ける空隙深さを所定値にする研摩を
行うときの研摩量を検知する手段を、長辺または一方の
対角線が研摩方向になるように設けた少なくとも１個の
三角形または四角形の検知用マークと、研摩時にこの検
知用マークの研摩位置を識別するこの検知用マークの左
右Ｋｖ＆けた識別マークと、研摩時に研摩終了位置まで
研摩したことを電気的忙検知するための検知用電極とで
構成した点にある。
以下本発明を第２図ないし第６図に示した実施例な用い
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
第２図は本発明の薄膜磁気ヘッド素体の一実施例を示す
上面図、第３図は第２図のｃ’ −ｃ”線断面図、第４
図は第２図のＤ−Ｄ’線断面図で、第１図と同一部分は
同じ符号で示しである。第２図においては、絶縁性のフ
ェライト、セラミックあるいはガラス材よりなる基板１
上にパーマロイあるいはセンダスト等よりなる導電性磁
性体６を所定形状に形成し、次に、その上に二酸化けい
素（Ｓｉｎ、）あるいはアルミナ＜１ｔｔｏｓ ）等よ
りなる磁気ギャップとなる絶縁体層、コイルとなる導電
体層２、検知用マーク７．８、検知用マーク７．８の研
摩位置を識別する識別マーク７α。
上面図、第３図は第２図のｃ’ −ｃ”線断面図、第４
図は第２図のＤ−Ｄ’線断面図で、第１図と同一部分は
同じ符号で示しである。第２図においては、絶縁性のフ
ェライト、セラミックあるいはガラス材よりなる基板１
上にパーマロイあるいはセンダスト等よりなる導電性磁
性体６を所定形状に形成し、次に、その上に二酸化けい
素（Ｓｉｎ、）あるいはアルミナ＜１ｔｔｏｓ ）等よ
りなる磁気ギャップとなる絶縁体層、コイルとなる導電
体層２、検知用マーク７．８、検知用マーク７．８の研
摩位置を識別する識別マーク７α。
７ｂ、８α、Ｂｂおよび研摩終了を検知する検知用電極
９，１０をアルミニウム（，４ｔ）、銅（Ｃμ）、金（
ＪＩ＆）等の導電材を用いて図示のように形成し、さら
Ｋ、有機あるいは無機材よりなる絶縁体層。
９，１０をアルミニウム（，４ｔ）、銅（Ｃμ）、金（
ＪＩ＆）等の導電材を用いて図示のように形成し、さら
Ｋ、有機あるいは無機材よりなる絶縁体層。
磁気コアとなる上部磁性体層３を所定形状に形成するこ
とＫより薄膜磁気ヘッド素体としである。
とＫより薄膜磁気ヘッド素体としである。
ヘッド研摩は、初期においては、検知用マーク７および
８の幅方向の寸法を観察して、ヘッド配列方向との平行
度を出す。検知用マーク７゜８としては、図示のように
、長辺がヘッド配列方向に対して垂直、すなわち、研摩
方向となりこの辺の対角が９０度の直角二等辺三角形の
ものとし、さらに、角度が９０度となっている頂点を境
にして上側領域は、識別マーク７ｂ、Ｂｂで識別し、下
側領域は、識別マーク７α、８αを用いて識別するよう
にした。
８の幅方向の寸法を観察して、ヘッド配列方向との平行
度を出す。検知用マーク７゜８としては、図示のように
、長辺がヘッド配列方向に対して垂直、すなわち、研摩
方向となりこの辺の対角が９０度の直角二等辺三角形の
ものとし、さらに、角度が９０度となっている頂点を境
にして上側領域は、識別マーク７ｂ、Ｂｂで識別し、下
側領域は、識別マーク７α、８αを用いて識別するよう
にした。
初期の研摩において、ｃ、’ −ｃ’面まで追い込んだ
場合、研摩面より観察すれば、Ｃ−（、’断面は第３図
に示すようＫなる。つまり、検知用マーク７．８の外側
にそれぞれ識別マーク７ｂ、Ｂｂが見えるので、研摩面
は、検知用マーク７．８の上側領域にあることが識別で
きる。し１こかつて、研摩面と所望の空隙深さを得るた
めの最終研摩面Ｅ−Ｅ’との間隔は、検知用マーク７．
８の角度９０度の頂点とＥ−Ｅ’面との距離なｔ、直角
二等辺三角形の高さをＡ（ｔ、Ａの精度は、バタ一二ン
グの精度で決まる。）とすれば、幾何学的関係より検知
用マーク７の位置では（を十＾−４）となり、検知用マ
ーク８の位置では（を十ん−’４）となり、一方、研摩
面のＥ −Ｅ’面と平行な面からのずれが、（（”ａ’
４）で示されることがわかる。
場合、研摩面より観察すれば、Ｃ−（、’断面は第３図
に示すようＫなる。つまり、検知用マーク７．８の外側
にそれぞれ識別マーク７ｂ、Ｂｂが見えるので、研摩面
は、検知用マーク７．８の上側領域にあることが識別で
きる。し１こかつて、研摩面と所望の空隙深さを得るた
めの最終研摩面Ｅ−Ｅ’との間隔は、検知用マーク７．
８の角度９０度の頂点とＥ−Ｅ’面との距離なｔ、直角
二等辺三角形の高さをＡ（ｔ、Ａの精度は、バタ一二ン
グの精度で決まる。）とすれば、幾何学的関係より検知
用マーク７の位置では（を十＾−４）となり、検知用マ
ーク８の位置では（を十ん−’４）となり、一方、研摩
面のＥ −Ｅ’面と平行な面からのずれが、（（”ａ’
４）で示されることがわかる。
これより、平行度を出すためＫは、（ｄｓ−ｄ４）が零
となるように補正すればよいことＫなる。
となるように補正すればよいことＫなる。
初期の研摩において、Ｄ−Ｄ’面まで追い込んだ場合に
おいても、第４図に示すようＫ、識別マーク７α、８α
がそれぞれ検知用マーク７．８の内＠に見えるので、上
記と同様に、研摩面とＥ−Ｅ′面との間隔が、検知マー
ク７の位置で（ｔ”十ｔｔｓ）となり、検知マーク８の
位置で（’４＋’ｓ）となり、研摩面のＥ −Ｅ’面と
平行な面からのずれが、＜＝ｔｓ−ｔｉｅ＞ で示さ
れることがわかる。
おいても、第４図に示すようＫ、識別マーク７α、８α
がそれぞれ検知用マーク７．８の内＠に見えるので、上
記と同様に、研摩面とＥ−Ｅ′面との間隔が、検知マー
ク７の位置で（ｔ”十ｔｔｓ）となり、検知マーク８の
位置で（’４＋’ｓ）となり、研摩面のＥ −Ｅ’面と
平行な面からのずれが、＜＝ｔｓ−ｔｉｅ＞ で示さ
れることがわかる。
次に、初期の研摩で、研摩面のＥ −Ｅ’面に対する平
行度が出た時点からは、検知用マーク７゜８を観察する
ことなく研摩を続行する。これは、通常の研摩では、一
度平行度が出ると、研摩な続行することにより平行度が
ずれることがほとんどないことは分っているからである
。研摩面が所望のＥ −Ｅ’圓に至ると、研摩終了検知
用電極９，１０間の電気ループが断線するから、それま
で研摩を続ければ、所望の空隙深さとなる研摩面Ｅ −
Ｅ’面が得られる。電気ループの断線は、電極９のボン
ディング・パッド９α、接続部９ｂ、下部導通性磁性体
６、電極１０の接続部１０ｂ、ボンディング・パッド１
０αへの導通が、Ｅ−Ｅ’面まで研摩したことにより、
電極９，１０の部分で切れることｋよって起る。
行度が出た時点からは、検知用マーク７゜８を観察する
ことなく研摩を続行する。これは、通常の研摩では、一
度平行度が出ると、研摩な続行することにより平行度が
ずれることがほとんどないことは分っているからである
。研摩面が所望のＥ −Ｅ’圓に至ると、研摩終了検知
用電極９，１０間の電気ループが断線するから、それま
で研摩を続ければ、所望の空隙深さとなる研摩面Ｅ −
Ｅ’面が得られる。電気ループの断線は、電極９のボン
ディング・パッド９α、接続部９ｂ、下部導通性磁性体
６、電極１０の接続部１０ｂ、ボンディング・パッド１
０αへの導通が、Ｅ−Ｅ’面まで研摩したことにより、
電極９，１０の部分で切れることｋよって起る。
上記した構成の薄膜磁気ヘッド素体においては、検知用
マーク７．８と識別！−り７ａ、７ｂ、ｆ３ａ。
マーク７．８と識別！−り７ａ、７ｂ、ｆ３ａ。
８ｂを用いて一度平行度を出せば、ヘッド研摩面におい
て、検知用マーク７．８を観測することなく、所望のＥ
−Ｅ’面まで研摩を行うことができ、研摩面がＥ−Ｅ
’面に達すると、電極９，１０などよりなる電気ループ
の断線が起るから、研摩終了時期を知ることができる。
て、検知用マーク７．８を観測することなく、所望のＥ
−Ｅ’面まで研摩を行うことができ、研摩面がＥ−Ｅ
’面に達すると、電極９，１０などよりなる電気ループ
の断線が起るから、研摩終了時期を知ることができる。
したがって、従来の″ようｋ、ヘッド研摩と検知マーク
幅の観測とを多数回にわたって繰り返す必要がなくなる
。
幅の観測とを多数回にわたって繰り返す必要がなくなる
。
また、検知用マーク７．８は、直角二等辺三角形で、し
かも長辺が研摩方向、すなわち、磁気ヘッドの配列方向
と直角方向になるように設けであるから、第１図と比較
すれば、検知用マーク７．８のヘッド配列方向の幅が１
眉と小さくなり、基板１の検知用マーク７．８を設ける
ために無駄になる幅が小さくなり、ヘッド素体を製造す
るときの集積化に支障をきたすことがなくなる。
かも長辺が研摩方向、すなわち、磁気ヘッドの配列方向
と直角方向になるように設けであるから、第１図と比較
すれば、検知用マーク７．８のヘッド配列方向の幅が１
眉と小さくなり、基板１の検知用マーク７．８を設ける
ために無駄になる幅が小さくなり、ヘッド素体を製造す
るときの集積化に支障をきたすことがなくなる。
第５図は本発明の他の実施例を示す要部上面図である。
第２図においては、ヘッド配列方向の両側の研摩方向に
それぞれ１個の直角二等辺三角形の検知用マーク９，１
０を設けたが、第５図においては、それぞれ複数個（Ｎ
５図では５個）の検知用マーク１１ｔ１２ｅ１５を研摩
方向に連続して設けてあり、それＫともない識別マーク
も、１１４！、 １１Ａ、１２ｇ、１２ｂ、１５ｇ、１
５Ａとそれぞれの検知用マーク１１〜１３毎に設けであ
る。第５図によれば、各検知用マーク１１〜１５の長辺
り長さを第２図の検知用マーク７の１／３と小さくする
ことができ、検知用マークのための必要幅は従来の１／
ｆＸ１１５となり、検知用マークの数をＮ個とすれば、
１／ｆｉ×１／Ｎ と小さくすることができる。
それぞれ１個の直角二等辺三角形の検知用マーク９，１
０を設けたが、第５図においては、それぞれ複数個（Ｎ
５図では５個）の検知用マーク１１ｔ１２ｅ１５を研摩
方向に連続して設けてあり、それＫともない識別マーク
も、１１４！、 １１Ａ、１２ｇ、１２ｂ、１５ｇ、１
５Ａとそれぞれの検知用マーク１１〜１３毎に設けであ
る。第５図によれば、各検知用マーク１１〜１５の長辺
り長さを第２図の検知用マーク７の１／３と小さくする
ことができ、検知用マークのための必要幅は従来の１／
ｆＸ１１５となり、検知用マークの数をＮ個とすれば、
１／ｆｉ×１／Ｎ と小さくすることができる。
また、第６図は本発明のさらに他の実施例を示す要部上
面図で、第６図においては、検知用マークとしていずれ
か一方の対角線が研摩方向となるようにした正方形が用
いてあり、第６図では、このような３個の検知用マーク
１４，１５゜１６が図示のように連続して設けである。
面図で、第６図においては、検知用マークとしていずれ
か一方の対角線が研摩方向となるようにした正方形が用
いてあり、第６図では、このような３個の検知用マーク
１４，１５゜１６が図示のように連続して設けである。
また、それＫともない識別マークも１４α、１４ｂ、１
５α、１５Ａ。
５α、１５Ａ。
１６ｔＬ、 １６４とそれぞれの検知用マーク１４〜１
６毎に設けである。このようにしても、第５図と同様の
効果が得られる。
６毎に設けである。このようにしても、第５図と同様の
効果が得られる。
以上説明したようＫ、本発明によれば、ヘッド研摩をよ
り効果に行うことができ、しかも、ヘッド素体の製造時
の集積化に支障をきたさないようにできるという効果が
ある。
り効果に行うことができ、しかも、ヘッド素体の製造時
の集積化に支障をきたさないようにできるという効果が
ある。
第１図は従来の薄膜磁気ヘッド素体の上面図、第２図は
本発明の薄膜磁気ヘッド素体の−実施例を示す上面図、
第３図は第２図のｃ −ｃ’線断面図、第４図は第２図
のＤ −Ｄ’線断面図、第５図、第６図はそれぞれ本発
明の他の実施例を示す要部上面図である。 １・・・基板 ２・・・導電体層 ３・・・磁性体層 ６・・・導電性磁性体 ７．８・・・検知用マーク ７α、 ７７ 、８α、８ｂ・・・識別マーク９．１０
・・・検知用電極 オ １ 図 第３囚 第４囚 第５因 オｂ口
本発明の薄膜磁気ヘッド素体の−実施例を示す上面図、
第３図は第２図のｃ −ｃ’線断面図、第４図は第２図
のＤ −Ｄ’線断面図、第５図、第６図はそれぞれ本発
明の他の実施例を示す要部上面図である。 １・・・基板 ２・・・導電体層 ３・・・磁性体層 ６・・・導電性磁性体 ７．８・・・検知用マーク ７α、 ７７ 、８α、８ｂ・・・識別マーク９．１０
・・・検知用電極 オ １ 図 第３囚 第４囚 第５因 オｂ口
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｔｉ版板上強磁性薄膜、導電性薄膜および絶縁性薄膜よ
りなる単位磁気ヘッド群を形成し、前記基板上の前記単
位磁気ヘッド群の配列方向の左右に空隙深さを所定値に
する研摩を行うときの研摩量を検知する手段をそれぞれ
設けてなる薄膜磁気ヘッド素体において、前記各研摩量
を検知する手段が、長辺または一方の対角線が研摩方向
になるように設けた少なくとも１個の三角形または四角
形の検知用マークと、研摩時の該検知用マークの研摩位
置を識別する該検知用マークの左右に設けた識別マーク
と、研摩時に研摩終了位置まで研摩したことを電気的に
検知するための検知用電極とより構成しであることを特
徴とする薄膜磁気ヘッド素体。 ２ 三角形または四角形がそれぞれ直角二等辺三角形ま
たは正方形である特許請求の範囲第１項記載の薄ｇｉＨ
１気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP998382A JPS58128014A (ja) | 1982-01-27 | 1982-01-27 | 薄膜磁気ヘツド素体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP998382A JPS58128014A (ja) | 1982-01-27 | 1982-01-27 | 薄膜磁気ヘツド素体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58128014A true JPS58128014A (ja) | 1983-07-30 |
| JPS6248294B2 JPS6248294B2 (ja) | 1987-10-13 |
Family
ID=11735125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP998382A Granted JPS58128014A (ja) | 1982-01-27 | 1982-01-27 | 薄膜磁気ヘツド素体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58128014A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61220113A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Victor Co Of Japan Ltd | 薄膜磁気ヘッド用素体及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JP2011186171A (ja) * | 2010-03-08 | 2011-09-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 導波路型光素子 |
-
1982
- 1982-01-27 JP JP998382A patent/JPS58128014A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61220113A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Victor Co Of Japan Ltd | 薄膜磁気ヘッド用素体及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JP2011186171A (ja) * | 2010-03-08 | 2011-09-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 導波路型光素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6248294B2 (ja) | 1987-10-13 |
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