JPS58149295A - 流体受け渡し分配装置 - Google Patents
流体受け渡し分配装置Info
- Publication number
- JPS58149295A JPS58149295A JP2476882A JP2476882A JPS58149295A JP S58149295 A JPS58149295 A JP S58149295A JP 2476882 A JP2476882 A JP 2476882A JP 2476882 A JP2476882 A JP 2476882A JP S58149295 A JPS58149295 A JP S58149295A
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- sealing
- rotating body
- fluid
- inert gas
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Links
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- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 claims 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 36
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 24
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Landscapes
- Filling Of Jars Or Cans And Processes For Cleaning And Sealing Jars (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は封緘機、壜詰機等に応用できる流体骨は渡し分
配装置に関するものである。
配装置に関するものである。
第1図は従来例の封緘機の概略構成を示す断面図、第2
図は第1図のA−A断面図、第8図はロータリージヨイ
ントの断面説明図、第4図は切換弁の断面説明図である
。さて図において(至)は固定軸、0υは図示しない駆
動源により回転する回転体で、固定軸(至)に回転可能
に保持されている。(3渇は固定軸(至)に一体に保持
される封緘カムで、カム溝(82α)を有している。
図は第1図のA−A断面図、第8図はロータリージヨイ
ントの断面説明図、第4図は切換弁の断面説明図である
。さて図において(至)は固定軸、0υは図示しない駆
動源により回転する回転体で、固定軸(至)に回転可能
に保持されている。(3渇は固定軸(至)に一体に保持
される封緘カムで、カム溝(82α)を有している。
eυは回転体G旧こ摺動可能に保持されると共に、封緘
カム国のカム溝(82α)に係合して上下動される封緘
プランジャで、第2図の如くプランジャ本体(2匂、封
緘体を絞る゛スロート(ハ)、封緘類(24)、封緘ば
ね(2つ、マグネット(イ)、カムフォロア(27)等
から構成されており、公知の作用で封緘体C2樽は封緘
体供給口(22C)から供給されると共に、マグネット
c!6)に保持されて容器(5)の口頭を封緘する様に
な2ている。(22→はプランジャ本体(2つの下部(
2Z h)に設けられた不活性ガス吹き込み用ノズル穴
で、不活性ガス供給パイプ翰が接続されている。
カム国のカム溝(82α)に係合して上下動される封緘
プランジャで、第2図の如くプランジャ本体(2匂、封
緘体を絞る゛スロート(ハ)、封緘類(24)、封緘ば
ね(2つ、マグネット(イ)、カムフォロア(27)等
から構成されており、公知の作用で封緘体C2樽は封緘
体供給口(22C)から供給されると共に、マグネット
c!6)に保持されて容器(5)の口頭を封緘する様に
な2ている。(22→はプランジャ本体(2つの下部(
2Z h)に設けられた不活性ガス吹き込み用ノズル穴
で、不活性ガス供給パイプ翰が接続されている。
(ハ)は回転体Gυに一体に保持される、伝達レバー、
(34)は固定軸(至)に遊嵌された回転支持板で、伝
達レバーG□□□の上部と係合する切欠き部(84α)
が設けである。0ωは回転支持板(34)に一体に保持
される切換弁で、第4図の如くパルプボディ6υと、同
バルプボディ60に設けられた吸入日輪、吐出日輪と、
バルブボディ6I)に摺動可能に保持されるバルブステ
ム(財)と、同バルブステムに)を上方に付勢するスプ
リングに)と、パツキンに)から構成されている。
(34)は固定軸(至)に遊嵌された回転支持板で、伝
達レバーG□□□の上部と係合する切欠き部(84α)
が設けである。0ωは回転支持板(34)に一体に保持
される切換弁で、第4図の如くパルプボディ6υと、同
バルプボディ60に設けられた吸入日輪、吐出日輪と、
バルブボディ6I)に摺動可能に保持されるバルブステ
ム(財)と、同バルブステムに)を上方に付勢するスプ
リングに)と、パツキンに)から構成されている。
(至)は回転支持板(ロ)に一体に保持されるロータリ
ージヨイントで、固定スピンドル(至)と、同スピンド
ル(至)に設けられる吸入口(4のと、ベアリング(3
1と、前記スピンドル(至)と前記ベアリングC31を
介して回転可能なハウ2ング0′?)と、同ハウジング
07)に設けられる吐出口(43と、カーボンシール(
4Gとスプリング00等から第8図の如く構成されてい
る。
ージヨイントで、固定スピンドル(至)と、同スピンド
ル(至)に設けられる吸入口(4のと、ベアリング(3
1と、前記スピンドル(至)と前記ベアリングC31を
介して回転可能なハウ2ング0′?)と、同ハウジング
07)に設けられる吐出口(43と、カーボンシール(
4Gとスプリング00等から第8図の如く構成されてい
る。
(4荀は一端が図示しない不活性ガス供給源に接続され
、他端がロータリージヨイント(至)の吸入口(4つに
接続される固定パイプ、(4つは一端をロータリージヨ
イント(至)の吐出口(43と、他端を不活性ガスを切
換弁(ハ)に分配するマニホールド(4fDと接続する
パイプ、(4ηはマニホールド■と切換弁Gωを接続す
るパイプ、(4樽は支柱、■はブラケット(4ωを介し
て支柱(4樽に一体に保持されると共に、切換弁oツ内
のバルブステム(財)と係合するカム、(財)は封緘体
整列供給装置である。
、他端がロータリージヨイント(至)の吸入口(4つに
接続される固定パイプ、(4つは一端をロータリージヨ
イント(至)の吐出口(43と、他端を不活性ガスを切
換弁(ハ)に分配するマニホールド(4fDと接続する
パイプ、(4ηはマニホールド■と切換弁Gωを接続す
るパイプ、(4樽は支柱、■はブラケット(4ωを介し
て支柱(4樽に一体に保持されると共に、切換弁oツ内
のバルブステム(財)と係合するカム、(財)は封緘体
整列供給装置である。
さて第1図〜第4図において、液の充填された容器(5
)が回転体01)上に供給されると、封緘プランジャ(
21)は封緘カムGツのカム溝(82α)に係合するカ
ムフォロア罰によって下降される。封緘プランジャCυ
の下降により、プランジャ本体(221の下部(22h
)が容器(5)の口部に被さって第2図に示す状態とな
る〇 一方この状態で図示しない不活性ガス供給源から固定パ
イプ0荀を経て、ロータリージヨイント06)の固定ス
ピンドル(至)に設けられた吸入口(4りに供給された
不活性ガスは、回転ハウジング07)に設けられた吐出
口(43、パイプ(4つを経てマニホールド(46)に
供給される。マニホールド■で分配された不活性ガスは
、パイプ(4ηを経て封緘プランジャQυと同数設置さ
れている切換弁C3Jに供給される。
)が回転体01)上に供給されると、封緘プランジャ(
21)は封緘カムGツのカム溝(82α)に係合するカ
ムフォロア罰によって下降される。封緘プランジャCυ
の下降により、プランジャ本体(221の下部(22h
)が容器(5)の口部に被さって第2図に示す状態とな
る〇 一方この状態で図示しない不活性ガス供給源から固定パ
イプ0荀を経て、ロータリージヨイント06)の固定ス
ピンドル(至)に設けられた吸入口(4りに供給された
不活性ガスは、回転ハウジング07)に設けられた吐出
口(43、パイプ(4つを経てマニホールド(46)に
供給される。マニホールド■で分配された不活性ガスは
、パイプ(4ηを経て封緘プランジャQυと同数設置さ
れている切換弁C3Jに供給される。
この切換弁(至)は、カムの〔の作□用により所定時間
開閉する様に設定されているため、不活性ガスの流量を
調整することにより、所望の不活性ガスを所定時間供給
したり、停止することが出来る。また切換弁3つからパ
イプ(至)、ノズル穴(22α)を経て吹き出した不活
性ガスは、容器(5)のヘッドスペース(5α)内に吹
き込まれ、ヘッドスペース(5α)内の残存空気を不活
性ガスに置換する。
開閉する様に設定されているため、不活性ガスの流量を
調整することにより、所望の不活性ガスを所定時間供給
したり、停止することが出来る。また切換弁3つからパ
イプ(至)、ノズル穴(22α)を経て吹き出した不活
性ガスは、容器(5)のヘッドスペース(5α)内に吹
き込まれ、ヘッドスペース(5α)内の残存空気を不活
性ガスに置換する。
この場合、容器口部にプランジャ本体下部(22b)が
被せられる直後より封緘終了直後まで、不活性ガスを吹
き出す様に設定しておけば、プランジャ本体下部(22
h)の内部が不活性ガスで充満された状態となるため、
空気との置換を効果的に行なわせることが出来る。この
様にして不活性ガスを吹き込みながら、さらに封緘プラ
ンジャCDを下降させると、やがて封緘体(至)が容器
(5)の口部に被さり、次いで封緘体(28)のヒダ部
がスロート(ハ)で絞られて封緘が達成される。
被せられる直後より封緘終了直後まで、不活性ガスを吹
き出す様に設定しておけば、プランジャ本体下部(22
h)の内部が不活性ガスで充満された状態となるため、
空気との置換を効果的に行なわせることが出来る。この
様にして不活性ガスを吹き込みながら、さらに封緘プラ
ンジャCDを下降させると、やがて封緘体(至)が容器
(5)の口部に被さり、次いで封緘体(28)のヒダ部
がスロート(ハ)で絞られて封緘が達成される。
しかしながら前記従来の装置には次のような欠点があっ
た。即ち、打栓機上部にロータリジヨイント(至)を組
込んだ事により、王冠等の封緘体整列供給装置6′f)
が打栓機上部に組込めず、別置にしなければならなかっ
た。しかも組込む場合はロータリジヨイントが非常に大
型になる。また壜種が変わって打栓機を昇降する時、王
冠整列供給装置←乃もこれに合せて上下せねばならなか
ったので、装置が複雑になる欠点があった。
た。即ち、打栓機上部にロータリジヨイント(至)を組
込んだ事により、王冠等の封緘体整列供給装置6′f)
が打栓機上部に組込めず、別置にしなければならなかっ
た。しかも組込む場合はロータリジヨイントが非常に大
型になる。また壜種が変わって打栓機を昇降する時、王
冠整列供給装置←乃もこれに合せて上下せねばならなか
ったので、装置が複雑になる欠点があった。
更にカム鏝、ブラケット(4(至)、支柱(4→等も打
栓機昇降に合せて別に昇降せねばならず、かつマニホー
ルド(4e1切換弁0511回転支持板c34)、伝達
レバー(至)、配管−等多くの部品が打栓プランジャの
立本数分各々必要であり、そしてこれらの部品を打栓機
上部より打栓機下部まで、複雑に組込まなければならな
かった。
栓機昇降に合せて別に昇降せねばならず、かつマニホー
ルド(4e1切換弁0511回転支持板c34)、伝達
レバー(至)、配管−等多くの部品が打栓プランジャの
立本数分各々必要であり、そしてこれらの部品を打栓機
上部より打栓機下部まで、複雑に組込まなければならな
かった。
本発明は前記従来の欠点を解消するために従来されたも
ので、回転体側に同回転体側の複数個所への流体供給穴
を円周上に複数個備えた回転盤を一体に設けると共に、
非回転体側に同回転盤の流体供給穴と対応した円周上の
位置に円弧状の長溝を有し、同回転盤と摺動メカニカル
シールされるプレートを一体に設けることにより、部品
点数が少なくてよく、また打栓機に適用した場合には、
そのどこにでも組込めるので、打栓機上部に封緘体整列
装置を組込むことができ、打栓機構造が簡単になるよう
にした流体受は渡し分配装置を提供せんとするものであ
る。
ので、回転体側に同回転体側の複数個所への流体供給穴
を円周上に複数個備えた回転盤を一体に設けると共に、
非回転体側に同回転盤の流体供給穴と対応した円周上の
位置に円弧状の長溝を有し、同回転盤と摺動メカニカル
シールされるプレートを一体に設けることにより、部品
点数が少なくてよく、また打栓機に適用した場合には、
そのどこにでも組込めるので、打栓機上部に封緘体整列
装置を組込むことができ、打栓機構造が簡単になるよう
にした流体受は渡し分配装置を提供せんとするものであ
る。
以下本発明の実施例を図面について説明する。
なお、本発明の実施例装置において従来の第1図〜第4
図と同一部分は同一の符号を用いて説明することにする
。さて第5図は本発明の実施例を示す装置の縦断面図、
第6図は第5図のB−B断面図、第7図は扇形プレート
(2)の斜視図を示す。先ず第5図において円盤(1)
には封緘プランジャCDの立本数と同数のガス供給穴(
lcL)が円周上等分に設けてあり、この穴(1α)の
上部にエルボ(力が組込まれている。そしてこの円盤(
1)は回転体Gυに固定されている。
図と同一部分は同一の符号を用いて説明することにする
。さて第5図は本発明の実施例を示す装置の縦断面図、
第6図は第5図のB−B断面図、第7図は扇形プレート
(2)の斜視図を示す。先ず第5図において円盤(1)
には封緘プランジャCDの立本数と同数のガス供給穴(
lcL)が円周上等分に設けてあり、この穴(1α)の
上部にエルボ(力が組込まれている。そしてこの円盤(
1)は回転体Gυに固定されている。
扇形プレート(2)はボス(8)と結合しており、(9
)はガスのシールを行なうOリングである。またボス(
8)にはガス供給穴(8)が設けである。(3)はスプ
リングで、ボス(8)を上方に付勢するものである。ま
た(4)はブラケットA1 (4α)はブラケットBで
ある。
)はガスのシールを行なうOリングである。またボス(
8)にはガス供給穴(8)が設けである。(3)はスプ
リングで、ボス(8)を上方に付勢するものである。ま
た(4)はブラケットA1 (4α)はブラケットBで
ある。
一方各エルボ(力から封緘プランジャC!υへ配管(6
)が設けてあり、また回転体ODは固定軸(至)の回り
を回転する。
)が設けてあり、また回転体ODは固定軸(至)の回り
を回転する。
封緘カム0aは固定軸(至)とテーパビンθυで結合さ
れている。また封緘体整列供給装置←→は固定軸(30
)の上部に固定されている。なお、第6図においてa!
19は入口スターホイル、a7)は封緘プランジャ(2
1)の打栓工程において不活性ガスを場内に吹込む工程
の範囲、a6)は出口スターホイルを示す。
れている。また封緘体整列供給装置←→は固定軸(30
)の上部に固定されている。なお、第6図においてa!
19は入口スターホイル、a7)は封緘プランジャ(2
1)の打栓工程において不活性ガスを場内に吹込む工程
の範囲、a6)は出口スターホイルを示す。
また配管(6)は図示の如く、円盤(1)のガス供給穴
(1α)す、不活性ガス吹込位置(必要位置と所要吹込
時間)で決まる工程07)に対応して不活性ガスを供給
する様に、封緘プランジャCυと結んである。
(1α)す、不活性ガス吹込位置(必要位置と所要吹込
時間)で決まる工程07)に対応して不活性ガスを供給
する様に、封緘プランジャCυと結んである。
第7図は扇形プレート(2)の斜視図を示し、このプレ
ート(2)にはガス供給穴(2(?) 、長溝(2α)
が設けてあり、この長溝(2α)に対し、円盤(1)の
ガス供給穴(l→が複数係合するようになっている。
ート(2)にはガス供給穴(2(?) 、長溝(2α)
が設けてあり、この長溝(2α)に対し、円盤(1)の
ガス供給穴(l→が複数係合するようになっている。
次に作用を説明すると、第6図において飲料等の充填さ
れた壜(5)が、入口スターホイルQ51で打栓機に供
給される。打栓機に供給された壜(5)は回転体C31
)上に乗り、封緘プランジャ(21)の真下に供給され
る。
れた壜(5)が、入口スターホイルQ51で打栓機に供
給される。打栓機に供給された壜(5)は回転体C31
)上に乗り、封緘プランジャ(21)の真下に供給され
る。
一方第5図では図示しない封緘体(ハ)は、封緘体供給
装置(財)より封緘プランジャQυに供給される。
装置(財)より封緘プランジャQυに供給される。
さらにこの封緘プランジャ(21)が不活性ガス供給範
囲αDの位置に来ると、扇形プレート(2)の長溝(2
→に位置する円盤(1)のガス供給穴(1α)より不活
性ガスが供給され、壜(5)内に吹込まれる。その後封
緘体(至)が打栓され、壜(5)は出口スターホイルa
Oにより排出される。
囲αDの位置に来ると、扇形プレート(2)の長溝(2
→に位置する円盤(1)のガス供給穴(1α)より不活
性ガスが供給され、壜(5)内に吹込まれる。その後封
緘体(至)が打栓され、壜(5)は出口スターホイルa
Oにより排出される。
また第5図において回転体Gυは図示しない駆動装置で
固定軸(至)の回りに回転する。この時円盤(1)はこ
の回転体Gυに結合されているため、−緒に回転する。
固定軸(至)の回りに回転する。この時円盤(1)はこ
の回転体Gυに結合されているため、−緒に回転する。
一方扇形プレート(2)はボス(8)と結合されており
、ブラケットAの(4)、ブラケットBの(4a)等で
支持され、回転しない。そして扇形プレート(2)の上
面(2b)と、円盤(1)の下面(l h)とが摺動メ
カニカルシール面となる。またスプリング(3)はメカ
ニカルシール面のシール力を作ル。
、ブラケットAの(4)、ブラケットBの(4a)等で
支持され、回転しない。そして扇形プレート(2)の上
面(2b)と、円盤(1)の下面(l h)とが摺動メ
カニカルシール面となる。またスプリング(3)はメカ
ニカルシール面のシール力を作ル。
今図示されておらず、かつ回転していない不活性ガス供
給装置より、配管acttを経て不活”性ガスがボスC
81の供給穴(8α)を通り、扇形プレート(2)の供
給穴(2C)を経て長溝(2α)に供給される。
給装置より、配管acttを経て不活”性ガスがボスC
81の供給穴(8α)を通り、扇形プレート(2)の供
給穴(2C)を経て長溝(2α)に供給される。
そしてこのガスは円盤(1)の下面(1b)と、扇形プ
レート(2)の上面(2b)とでメカニカルシールされ
ている。またこのガスは扇形プレート(2)の長溝(2
a)に位置した円盤(1)の供給穴(lα)より、配管
(6)を経て不活性ガス吹込範囲に位置する封緘プラン
ジャCDに供給される。
レート(2)の上面(2b)とでメカニカルシールされ
ている。またこのガスは扇形プレート(2)の長溝(2
a)に位置した円盤(1)の供給穴(lα)より、配管
(6)を経て不活性ガス吹込範囲に位置する封緘プラン
ジャCDに供給される。
さらに回転体Gυ、そして円盤(I)(エルボ(力も同
時に)が回転し、扇形プレート(2)の長溝(2a)に
係合していた円盤(1)の供給穴(1α)が、長溝(2
a)から外れると不活性ガスの供給が止まる。なお、一
般的には複′数の供給穴(lα)が長溝(2α)に係合
する。
時に)が回転し、扇形プレート(2)の長溝(2a)に
係合していた円盤(1)の供給穴(1α)が、長溝(2
a)から外れると不活性ガスの供給が止まる。なお、一
般的には複′数の供給穴(lα)が長溝(2α)に係合
する。
そして以上の作用が回転と共に順次行なわれ、全ての封
緘プランジャ0υの不活性ガス供給工程が行なわれる。
緘プランジャ0υの不活性ガス供給工程が行なわれる。
以上詳細に説明した如く本発明は構成されているので、
本発明を打栓機に適用した場合には、その中心部にガス
受は渡し装置が組込み可能であり、上部に封緘体整列供
給装置を組込むことができる。。
本発明を打栓機に適用した場合には、その中心部にガス
受は渡し装置が組込み可能であり、上部に封緘体整列供
給装置を組込むことができる。。
従って打栓機と一緒にその装置を昇降させることができ
、また従来のような切換弁等がなくなり、カム、ブラケ
ット支柱等が不要となる。
、また従来のような切換弁等がなくなり、カム、ブラケ
ット支柱等が不要となる。
なお、本発明は前記実施例で説明した単に不活性ガスの
受は渡しのみでなく、一般のガス、液体、洗浄液等の受
は渡しにも応用できる。また単に封緘機(打栓機、キャ
ップ締機等)のみならず、スターホイル装置部或は他の
回転体機一般にも応用可能である。
受は渡しのみでなく、一般のガス、液体、洗浄液等の受
は渡しにも応用できる。また単に封緘機(打栓機、キャ
ップ締機等)のみならず、スターホイル装置部或は他の
回転体機一般にも応用可能である。
第1図は従来の封緘機の1例を示す縦断面図、第2図は
第1図のA−A断面図、第8図及び第4図は第1図にお
ける要部の詳細断面図、第5図は打栓機に適用した本発
明の実施例を示す流体受は渡し分配装置の縦断面図、第
6図は第5図のB〜B断面図、第7図は第5図における
扇形プレートの斜視図である。 図の主要部分の説明 ■・・・円盤(回転盤) la・・・ガス供給穴(流体供給穴) lb・・・下面 2・・・扇形プレート(プレート) 2α・・・長溝 2h・・・上面 2C・・・ガス供給穴 4.4α・・・ブラケット(非回転体側)8・・・ボス
(非回転体側) 5・・・壜 21・・・封緘プランジャ 80・・・固定軸 81・・・回転体 特許 出 願人 三菱重工業株式会社
第1図のA−A断面図、第8図及び第4図は第1図にお
ける要部の詳細断面図、第5図は打栓機に適用した本発
明の実施例を示す流体受は渡し分配装置の縦断面図、第
6図は第5図のB〜B断面図、第7図は第5図における
扇形プレートの斜視図である。 図の主要部分の説明 ■・・・円盤(回転盤) la・・・ガス供給穴(流体供給穴) lb・・・下面 2・・・扇形プレート(プレート) 2α・・・長溝 2h・・・上面 2C・・・ガス供給穴 4.4α・・・ブラケット(非回転体側)8・・・ボス
(非回転体側) 5・・・壜 21・・・封緘プランジャ 80・・・固定軸 81・・・回転体 特許 出 願人 三菱重工業株式会社
Claims (1)
- 回転体側と非回転体側間で流体を受は渡し、この流体を
前記回転体側の複数個所へ分配供給する流体骨は渡し分
配装置において、前記回転体側に前記複数個所への流体
供給穴を円周上に複数個備えた回転盤を一体に設けると
共に、前記非回転体側に前記回転盤の流体供給穴と対応
した円周上の位置に円弧状の長溝を有し、前記回転盤と
摺動メカニカルシールされるプレートを一体に設けたこ
とを特徴とする流体骨は渡し分配装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2476882A JPS58149295A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 流体受け渡し分配装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2476882A JPS58149295A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 流体受け渡し分配装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58149295A true JPS58149295A (ja) | 1983-09-05 |
Family
ID=12147335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2476882A Pending JPS58149295A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 流体受け渡し分配装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58149295A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4716238U (ja) * | 1971-03-17 | 1972-10-25 | ||
| JPS50124782A (ja) * | 1974-03-18 | 1975-10-01 |
-
1982
- 1982-02-18 JP JP2476882A patent/JPS58149295A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4716238U (ja) * | 1971-03-17 | 1972-10-25 | ||
| JPS50124782A (ja) * | 1974-03-18 | 1975-10-01 |
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