JPS58153779A - イオンプレ−テイング装置 - Google Patents
イオンプレ−テイング装置Info
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- JPS58153779A JPS58153779A JP3633382A JP3633382A JPS58153779A JP S58153779 A JPS58153779 A JP S58153779A JP 3633382 A JP3633382 A JP 3633382A JP 3633382 A JP3633382 A JP 3633382A JP S58153779 A JPS58153779 A JP S58153779A
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- JP
- Japan
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- ion plating
- workpiece
- heater
- work
- processing chamber
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- Granted
Links
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 13
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はイオンブレーティング装置に関する。
従来この種装置として真空処理室内に負の高電位が印加
されたワークを設けると共にその側方に該ワーク全加熱
するヒータを設け、該ワークにこれと対向して設けた蒸
発源から蒸発する金属全被膜状に形成する式のものは知
られるが、この場合該ヒータはワークの側方に固定配置
されイオンブレーティング中にも作動される’ｋ 一般
とし、これによればイオンブレーティングの軒了後のワ
ーク取出しのための冷却に長時間會喪して作業能率が向
上しない欠点があつ念。
されたワークを設けると共にその側方に該ワーク全加熱
するヒータを設け、該ワークにこれと対向して設けた蒸
発源から蒸発する金属全被膜状に形成する式のものは知
られるが、この場合該ヒータはワークの側方に固定配置
されイオンブレーティング中にも作動される’ｋ 一般
とし、これによればイオンブレーティングの軒了後のワ
ーク取出しのための冷却に長時間會喪して作業能率が向
上しない欠点があつ念。
本発明はこうした欠点を解消することをその目的とした
もので真空処理室内の負の高電位σ）ワークと、その側
方の該ワーク全加熱するヒータとを備え、該ワークにこ
れと対向して設けた蒸発源から蒸発する金属全被膜状に
形成する式のものに於て、該ヒータを該ｉｃ仝処理室に
形成した凹部内に収容自在に構成したことケ％徴とする
。
もので真空処理室内の負の高電位σ）ワークと、その側
方の該ワーク全加熱するヒータとを備え、該ワークにこ
れと対向して設けた蒸発源から蒸発する金属全被膜状に
形成する式のものに於て、該ヒータを該ｉｃ仝処理室に
形成した凹部内に収容自在に構成したことケ％徴とする
。
本発明装置の１例を図面につき説明するに、第１図に於
て（１）はＸ空排気孔（２）會備えた臭仝処理室、（３
）は該処理室（１）内の上方に設けられたピストンリン
グその他のワーク、（４）は該処理室（１）の下方に該
ワーク（３１に対向させて設けたチタンその他の浴湯を
収容する蒸発源を示し、該ワーク（３）は例えば第５図
示のように導電体からなる車輪状のホルダ（５ａ）に嵌
着され、その複数個を囲枠（５）に回動自在に設けられ
る例えば３本の回転軸（６）に嵌挿する工うにした。該
囲枠（５）は該回転１１］１１１ （６１と共に該処理
室（１）の開閉自在の側壁（７）？介して室外に数出し
自在に構成するものとし、また各回転軸（６）奮互に歯
車（８）によｐ回転連結してその１本が該処理室（１）
内の駆動軸（９）にカップリング（イ）全弁して接続さ
れると一斉に回転されるようにした。（１１） ａｌ）
は該囲枠（５）の上下〃）らワ−り＋３１１に加熱すべ
く設けられた１対のヒータユニットで、各ユニット０漫
α］Ｊは該加熱作業が終了するとｇＩｌｌ壁（２）に形
成した凹部ｏ３Ｏａ内に外部のシリンダα４）Ｑ４１に
エリ引き込１れ、ワーク（３）と蒸発源（４）とを対向
させて円滑にイオンブレーティング作業を行なわせると
共にその終了＆ ＶＣはワーク（３）が冷却管ｏｆ９全
９會偏処理室（１）と対向してその冷気により迅速な冷
却が行なわれる。
て（１）はＸ空排気孔（２）會備えた臭仝処理室、（３
）は該処理室（１）内の上方に設けられたピストンリン
グその他のワーク、（４）は該処理室（１）の下方に該
ワーク（３１に対向させて設けたチタンその他の浴湯を
収容する蒸発源を示し、該ワーク（３）は例えば第５図
示のように導電体からなる車輪状のホルダ（５ａ）に嵌
着され、その複数個を囲枠（５）に回動自在に設けられ
る例えば３本の回転軸（６）に嵌挿する工うにした。該
囲枠（５）は該回転１１］１１１ （６１と共に該処理
室（１）の開閉自在の側壁（７）？介して室外に数出し
自在に構成するものとし、また各回転軸（６）奮互に歯
車（８）によｐ回転連結してその１本が該処理室（１）
内の駆動軸（９）にカップリング（イ）全弁して接続さ
れると一斉に回転されるようにした。（１１） ａｌ）
は該囲枠（５）の上下〃）らワ−り＋３１１に加熱すべ
く設けられた１対のヒータユニットで、各ユニット０漫
α］Ｊは該加熱作業が終了するとｇＩｌｌ壁（２）に形
成した凹部ｏ３Ｏａ内に外部のシリンダα４）Ｑ４１に
エリ引き込１れ、ワーク（３）と蒸発源（４）とを対向
させて円滑にイオンブレーティング作業を行なわせると
共にその終了＆ ＶＣはワーク（３）が冷却管ｏｆ９全
９會偏処理室（１）と対向してその冷気により迅速な冷
却が行なわれる。
尚図示のものでは該蒸発源（４）音読処理室（１）内Ｖ
Ｃ敷設したレール明（ト）上會阜輪ａηにより左右横方
向に移動自在に設け、該処理鯖１）の側壁０２奮介して
内外に挿通した連杆（ト）が線杆αＩＱＩに沿って往復
動するスライド部材−により駆動されるとこれに伴なっ
て該蒸発源（４）が処理室（１）内を移動し、その上刃
のワーク（３）に対して各移動位１ｉ１ｉから例えば金
楓蒸気會ブレーティングし得てこれに比較的均一な分布
の金属膜を形瓜出米るようにした。（ハ）は移動する蒸
発源（４）の真上に位置すべくこれと共に移動する中空
熱陰極式電子銃、＠は処理室（１）からそのｔｉｌｌ壁
（ロ）會シリンダＱ→その他の機器と共に離脱させる台
車、ｔＡは該台車（ハ）會不動に固定するストツノペ（
ハ）は駆動軸（９）の電動機である。
Ｃ敷設したレール明（ト）上會阜輪ａηにより左右横方
向に移動自在に設け、該処理鯖１）の側壁０２奮介して
内外に挿通した連杆（ト）が線杆αＩＱＩに沿って往復
動するスライド部材−により駆動されるとこれに伴なっ
て該蒸発源（４）が処理室（１）内を移動し、その上刃
のワーク（３）に対して各移動位１ｉ１ｉから例えば金
楓蒸気會ブレーティングし得てこれに比較的均一な分布
の金属膜を形瓜出米るようにした。（ハ）は移動する蒸
発源（４）の真上に位置すべくこれと共に移動する中空
熱陰極式電子銃、＠は処理室（１）からそのｔｉｌｌ壁
（ロ）會シリンダＱ→その他の機器と共に離脱させる台
車、ｔＡは該台車（ハ）會不動に固定するストツノペ（
ハ）は駆動軸（９）の電動機である。
その作動全貌間するに、真空処理室（１）の外部に取出
した囲枠（５）から回転軸（６）全取外し、これにワー
ク（３）を嵌着したホルダ（５ａ）全嵌押して再び該囲
枠（５１に取付け、さらにこれらを該処理室（１）の開
閉自在の１ｇｌｌ壁（７）全弁してその内部に収容し、
該回転軸（６）の１本全カップリング（至）に接続する
。
した囲枠（５）から回転軸（６）全取外し、これにワー
ク（３）を嵌着したホルダ（５ａ）全嵌押して再び該囲
枠（５１に取付け、さらにこれらを該処理室（１）の開
閉自在の１ｇｌｌ壁（７）全弁してその内部に収容し、
該回転軸（６）の１本全カップリング（至）に接続する
。
続いて該処理室（１）内會声空排気すると共に１１１１
１壁１：１ （ロ）の四部０（至）内からヒータユニットα１）αの
全突出させて上下から回転軸（６）によＶ回転されたワ
ーク（３）ヲ例えば５００℃に加熱する。この加熱音長
え該ユニット（ロ）α〃が凹部Ｈａ内に退去すると蒸発
源（４）及び中空熱陰極式電子銃（財）に通電され、蒸
発源（４１Ｚ＋−らチタンその他の金属が蒸発してプラ
ズマ放電域を通過しイオン化されその上方の負の高電位
を印加されつつ回転するワーク（３）に耐着即ちイオン
ブレーティングする。このイオンブレーティング中には
ヒータユニット（ロ）συによる加熱が与えられず、ワ
ーク（３）の温度は冷却管（至）を備えた処理室（１）
との対面で次第に低下するが、その低下の度合はワーク
（３１の表面への金属イオンの突入に伴なう発熱により
多少小さくなり、イオンブレーティングの終了時には当
初よりも比較的低い温度状態に存するのでワーク（３）
ｔ−その後取出すまでの冷却時間を短縮することが出来
る。
１壁１：１ （ロ）の四部０（至）内からヒータユニットα１）αの
全突出させて上下から回転軸（６）によＶ回転されたワ
ーク（３）ヲ例えば５００℃に加熱する。この加熱音長
え該ユニット（ロ）α〃が凹部Ｈａ内に退去すると蒸発
源（４）及び中空熱陰極式電子銃（財）に通電され、蒸
発源（４１Ｚ＋−らチタンその他の金属が蒸発してプラ
ズマ放電域を通過しイオン化されその上方の負の高電位
を印加されつつ回転するワーク（３）に耐着即ちイオン
ブレーティングする。このイオンブレーティング中には
ヒータユニット（ロ）συによる加熱が与えられず、ワ
ーク（３）の温度は冷却管（至）を備えた処理室（１）
との対面で次第に低下するが、その低下の度合はワーク
（３１の表面への金属イオンの突入に伴なう発熱により
多少小さくなり、イオンブレーティングの終了時には当
初よりも比較的低い温度状態に存するのでワーク（３）
ｔ−その後取出すまでの冷却時間を短縮することが出来
る。
尚このイオンシレーティング中に蒸発源（４）は処理室
（１）内を移動して該ワーク（３）に対する位置を変化
させ、これよｐ核ワーク（３）に比較的均一な分布状態
で被膜が形成される。
（１）内を移動して該ワーク（３）に対する位置を変化
させ、これよｐ核ワーク（３）に比較的均一な分布状態
で被膜が形成される。
このように本発明によるとＩはワークを加熱するヒータ
を真空処理室に形成した凹部内に収容自在としたのでイ
オンブレーティング処理後の高温のワークを比較的低温
の処理室の側壁に対向させ得て迅速に冷却出来、処理能
率が向上すると共に該ヒータ會凹部に収容することによ
り処理室容積も比較的小容積に構成出来る尋の効果があ
る。
を真空処理室に形成した凹部内に収容自在としたのでイ
オンブレーティング処理後の高温のワークを比較的低温
の処理室の側壁に対向させ得て迅速に冷却出来、処理能
率が向上すると共に該ヒータ會凹部に収容することによ
り処理室容積も比較的小容積に構成出来る尋の効果があ
る。
第１図は本発明装置の１例の裁断正面図、第２図及び第
３図はその拡大した右側面図及びへ〇１１１面図、第４
図は第１図ＩＶ−ＩＶ線拡大裁断平面図、第５図は回転
軸の斜視図である。 （１）・・・真空処理室、 （３）・・・ワーク、（
４）・・・蒸発源、 α〃αυ・・・ヒータ、
（至）備・・・凹部。 特許出願人 日本真空技術株式会社
３図はその拡大した右側面図及びへ〇１１１面図、第４
図は第１図ＩＶ−ＩＶ線拡大裁断平面図、第５図は回転
軸の斜視図である。 （１）・・・真空処理室、 （３）・・・ワーク、（
４）・・・蒸発源、 α〃αυ・・・ヒータ、
（至）備・・・凹部。 特許出願人 日本真空技術株式会社
Claims (1)
- 真空処理室内の負の高電位のワークと、その也１ｊ方の
該ワークを加熱するヒータとを伽え、該ワークにこれと
対向して設けた蒸発源力・ら蒸発する金属全被膜状に形
成する式のものに於て、該ヒータ奮該Ｘ仝処理室に形成
した凹部内に収容自在に構成したことを特徴とするイオ
ンシレーティング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3633382A JPS58153779A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | イオンプレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3633382A JPS58153779A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | イオンプレ−テイング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58153779A true JPS58153779A (ja) | 1983-09-12 |
| JPS6128028B2 JPS6128028B2 (ja) | 1986-06-28 |
Family
ID=12466895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3633382A Granted JPS58153779A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | イオンプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58153779A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3279364A1 (en) * | 2016-08-03 | 2018-02-07 | IHI Hauzer Techno Coating B.V. | Apparatus for coating substrates |
-
1982
- 1982-03-10 JP JP3633382A patent/JPS58153779A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3279364A1 (en) * | 2016-08-03 | 2018-02-07 | IHI Hauzer Techno Coating B.V. | Apparatus for coating substrates |
| US20180037986A1 (en) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | Ihi Hauzer Techno Coating B.V. | Apparatus for coating substrates |
| KR20180015590A (ko) * | 2016-08-03 | 2018-02-13 | 아이에이치아이 하우저 테크노 코팅 비브이 | 기판을 코팅하기 위한 장치 |
| CN107686978A (zh) * | 2016-08-03 | 2018-02-13 | 豪泽尔涂层技术有限公司 | 用于涂敷衬底的设备 |
| US11131019B2 (en) | 2016-08-03 | 2021-09-28 | Ihi Hauzer Techno Coating B.V. | Apparatus for coating substrates |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6128028B2 (ja) | 1986-06-28 |
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