JPS5815732B2 - シツリヨウブンセキソウチ - Google Patents
シツリヨウブンセキソウチInfo
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- JPS5815732B2 JPS5815732B2 JP49044570A JP4457074A JPS5815732B2 JP S5815732 B2 JPS5815732 B2 JP S5815732B2 JP 49044570 A JP49044570 A JP 49044570A JP 4457074 A JP4457074 A JP 4457074A JP S5815732 B2 JPS5815732 B2 JP S5815732B2
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- JP
- Japan
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- plate
- photographic
- ions
- image
- channel plate
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は写真乾板を用いた質量分析装置の感度を増大せ
しめるための改良に関する。
しめるための改良に関する。
スパーク質量分析計およびイオンマイクロアナライザ等
の固体分析用質量分析計においては写真乾板を用いた質
量分析装置が用いられているが、写真乾板のイオンに対
する感度が低いため、分析感度の点で難点がある。
の固体分析用質量分析計においては写真乾板を用いた質
量分析装置が用いられているが、写真乾板のイオンに対
する感度が低いため、分析感度の点で難点がある。
本発明はこの写真乾板を用いた質量分析計の検出感度を
大幅に改善した装置を提供せんとするものである。
大幅に改善した装置を提供せんとするものである。
以下にイオンマイクロアナライザの場合についテ、従来
技術について述べる。
技術について述べる。
固体試料表面にイオンビームを照射すると、表面はスパ
ッタされると同時にある割合で試料表面からのイオンも
放出する。
ッタされると同時にある割合で試料表面からのイオンも
放出する。
この放出するイオン(二次イオン)を質量分析すれば、
試料表面の成分元素が判明するとともにその濃度を決定
できる可能性を持つ。
試料表面の成分元素が判明するとともにその濃度を決定
できる可能性を持つ。
また、微量不純物あるいは微量の構成元素を検出する際
は、第1図に示すように、二次イオンを検出するのに時
間的な積分効果が期待できる写真乾板を用いたり、前記
二次イオンの検出に二次電子増倍管が利用されてきた。
は、第1図に示すように、二次イオンを検出するのに時
間的な積分効果が期待できる写真乾板を用いたり、前記
二次イオンの検出に二次電子増倍管が利用されてきた。
しかし、さらに検出感度を高めることが、微量元素の検
出およびイオン化効率の低い元素の検出のために必要と
されより感度の高い装置の開発が要望されてきた。
出およびイオン化効率の低い元素の検出のために必要と
されより感度の高い装置の開発が要望されてきた。
第1図は二次イオンの検出に写真乾板を用いた固体表面
分析装置の従来例を示す。
分析装置の従来例を示す。
イオン源1で生成され加速された一次イオン2をレンズ
3で集束したのち、試料5に照射させる。
3で集束したのち、試料5に照射させる。
偏向板4および4′は試料5上の任意の分析点に一次イ
オン2を偏向し、照射させる働きをする。
オン2を偏向し、照射させる働きをする。
一次イオン2の衝撃により試料5から放出した二次イオ
ン6は引き出し電極7で効率よく引き出されたのち静電
レンズ8で集束および一部物点補正を行なわれるスリッ
ト9を通過した二次イオン6はさらに扇形の偏向電場電
極10に印加された電場によりエネルギー分散される。
ン6は引き出し電極7で効率よく引き出されたのち静電
レンズ8で集束および一部物点補正を行なわれるスリッ
ト9を通過した二次イオン6はさらに扇形の偏向電場電
極10に印加された電場によりエネルギー分散される。
このエネルギー分散された各二次イオン6は磁場11で
その質量対電荷比の違いに応じてそれぞれ異なった偏向
を受は各二次イオン6の磁場の入射端面に対して45度
の角度を持つ平面に集束される。
その質量対電荷比の違いに応じてそれぞれ異なった偏向
を受は各二次イオン6の磁場の入射端面に対して45度
の角度を持つ平面に集束される。
そこで各二次イオンが集束したこの面に写真乾板12を
置き、全二次イオン6を同時に写真乾板に記録すること
ができる。
置き、全二次イオン6を同時に写真乾板に記録すること
ができる。
第1図で扇形の偏向電場の前焦点に試料上の物点5をお
き、電場の偏向角φeを31°51′にえらんだ時に電
場から出た二次イオン6は平行ビームとなる。
き、電場の偏向角φeを31°51′にえらんだ時に電
場から出た二次イオン6は平行ビームとなる。
このような物点(試料5上の分析点)電場10および磁
場11の組合せはMattauchおよびHerzog
により1934年に開発された優れた方式で、おもに物
点における二次イオン生成にイオン照射ではなくスパー
ク放電を用いたものが多く、この方式はMat tau
ch−Herzog型と呼ばれている。
場11の組合せはMattauchおよびHerzog
により1934年に開発された優れた方式で、おもに物
点における二次イオン生成にイオン照射ではなくスパー
ク放電を用いたものが多く、この方式はMat tau
ch−Herzog型と呼ばれている。
なおスリット9は電場に入るイオンビームの広がりを規
制するものであり、スリット9′は磁場11に入射する
二次イオンビーム6のエネルギー幅を規制するものであ
る。
制するものであり、スリット9′は磁場11に入射する
二次イオンビーム6のエネルギー幅を規制するものであ
る。
一方、二次イオン6の記録のための写真乾板12のほか
に電気的な検出器13により磁場11の強度を変化(質
量走査)させて質量対電荷比と二次イオン強度との関係
(つまり質量スペクトル)を記録させることもできる。
に電気的な検出器13により磁場11の強度を変化(質
量走査)させて質量対電荷比と二次イオン強度との関係
(つまり質量スペクトル)を記録させることもできる。
スリット9″は検出器13に異なった質量対電荷比のイ
オンが同時に入射しないようにするためのバッフル(ス
リット)であるところで、二次イオン6を検出するため
の写真乾板12としては、通常の351ftG真フイル
ム(ASAloo)および電子線検出用の乾板を使用す
ることができない。
オンが同時に入射しないようにするためのバッフル(ス
リット)であるところで、二次イオン6を検出するため
の写真乾板12としては、通常の351ftG真フイル
ム(ASAloo)および電子線検出用の乾板を使用す
ることができない。
それは、二次イオン6がこれらのフィルムおよび乾板に
侵入する確率が非常に小さく、感度が低いためである。
侵入する確率が非常に小さく、感度が低いためである。
そこでイオン6の検出用乾板12として通常用いられる
のは光露光用の写真乾板の表面のゼラチン膜乳剤を取り
除いてイオンビームが検出用粒子(たとえばAgBr)
に出来る限り確率よく記録できるようにしたものである
。
のは光露光用の写真乾板の表面のゼラチン膜乳剤を取り
除いてイオンビームが検出用粒子(たとえばAgBr)
に出来る限り確率よく記録できるようにしたものである
。
すなわち、イオンは物質に侵入しにくい(はとんど数K
eVのエネルギ゛−であり、これでは侵入の確率が小さ
い)ので、光や電子の検出に比較して検出感度も低いし
検出方法も難しい。
eVのエネルギ゛−であり、これでは侵入の確率が小さ
い)ので、光や電子の検出に比較して検出感度も低いし
検出方法も難しい。
第2図は乾板12で記録した金属合金の分析例を示す。
Ll、L2.L3はイオンビームの露出時間の違い(L
l<L2<La )を示す。
l<L2<La )を示す。
横軸のB+、Mg+、に十、Fe+はそれぞれ金属合金
の成分(硼素、マグネシウム、カリウム、鉄)のイオン
を示す。
の成分(硼素、マグネシウム、カリウム、鉄)のイオン
を示す。
なお、横軸の目盛は質量対電荷比を示す。
一方第3図は第1図の検出器13により記録した第2図
と同一の合金の質量スペクトルである。
と同一の合金の質量スペクトルである。
ここで、横軸の目盛は質量対電荷比を示す。
第2図と第3図の比較で、第2図の写真乾板では積分効
果のために、第2図の微分方式に比して感度は高くなっ
ている。
果のために、第2図の微分方式に比して感度は高くなっ
ている。
しかしこの写真乾板方式を用いても実用上まだ十分な感
度とはいえず、実際の場合にはさらに微量元素の高感度
検出が要望される。
度とはいえず、実際の場合にはさらに微量元素の高感度
検出が要望される。
この期待に応える方法として、(1)一次イオン2の量
を増して二次イオン6の絶対量を増す。
を増して二次イオン6の絶対量を増す。
(2)二次イオン2の種類を活性イオンとする。(3)
一次イオン2のエネルギーを増加させる。
一次イオン2のエネルギーを増加させる。
(4)二次イオンの収集効率を高める。
(5)二次イオンの電場および磁場の透過率を高める。
および(6)写真乾板の感度を増す、などの対策が考え
られ、種々の検討および試作が試みられているが、まだ
必ずしも満足できる結論が得られていない。
られ、種々の検討および試作が試みられているが、まだ
必ずしも満足できる結論が得られていない。
本発明はこのような要望に答えるべくなされたものであ
り、固体試料表面からの二次イlンを質量分析したのち
、得られるイオン像をチャンネルプレートを用いて電子
像に変換・増幅し、この増幅された二次電子像を検出し
て記録することにより、微量元素の二次イオンを高感度
に検出・記録できるようにしたものである。
り、固体試料表面からの二次イlンを質量分析したのち
、得られるイオン像をチャンネルプレートを用いて電子
像に変換・増幅し、この増幅された二次電子像を検出し
て記録することにより、微量元素の二次イオンを高感度
に検出・記録できるようにしたものである。
このように二次イオンを二次電子に変換し増幅すること
により、従来から電子顕微鏡などの写真撮影に利用され
ている通常の乾板および35gのフィルムなどで質量ス
ペクトル検出および記録が可能となる。
により、従来から電子顕微鏡などの写真撮影に利用され
ている通常の乾板および35gのフィルムなどで質量ス
ペクトル検出および記録が可能となる。
すなわち、1個のイオンに対する表面の乳剤を取り除い
た写真乾板での検出感度は、1個の電子に対する通常の
乾板およびフィルムの検出感度に比べ約1/Zooと劣
っている。
た写真乾板での検出感度は、1個の電子に対する通常の
乾板およびフィルムの検出感度に比べ約1/Zooと劣
っている。
本発明はこの点を考慮して、イオン像を電子像に変換し
てから、検出しようとするものである。
てから、検出しようとするものである。
また電子に変換した後増倍すれば通常のチャンネルプレ
ートでは約1000倍という高い増倍率が得られること
も大きな利点である。
ートでは約1000倍という高い増倍率が得られること
も大きな利点である。
そして異なった質量対電荷比のイオンが同一面上に集束
するMa t t auch −He rzog 型
二重収束質量分析器では二次イオンの集束点が面上とな
るのでその位置にチャンネルプレートを置くことにより
複数個のイオンを位置の異なったチャンネルにより同時
に各独立に電子に変換させかつ増倍させることが可能と
なる。
するMa t t auch −He rzog 型
二重収束質量分析器では二次イオンの集束点が面上とな
るのでその位置にチャンネルプレートを置くことにより
複数個のイオンを位置の異なったチャンネルにより同時
に各独立に電子に変換させかつ増倍させることが可能と
なる。
しかるのちに、それらの二次電子をフィルムや蛍光体で
光に変換したのちフィルムに記録あるいは電気的に検出
すれば、従来のイオンを直接写真乾板で記録した場合に
比べて102〜10’倍以上の検出感度が得られる。
光に変換したのちフィルムに記録あるいは電気的に検出
すれば、従来のイオンを直接写真乾板で記録した場合に
比べて102〜10’倍以上の検出感度が得られる。
以下に、本発明の実施例につき詳述する。
第4図は本発明の一実施例を示すもので、従来の装置(
第1図)と比較して磁場11を通過した二次イオン6の
検出器の部分が異なる。
第1図)と比較して磁場11を通過した二次イオン6の
検出器の部分が異なる。
二次イオン6はその質量対電荷比の違い(Mm+>Mn
+>M2+>M1+)により磁場11中で異なった軌道
を描く。
+>M2+>M1+)により磁場11中で異なった軌道
を描く。
磁場11から出た二次イオンはチャンネルプレート14
に入射したのち二次電子に変換される。
に入射したのち二次電子に変換される。
この二次電子はチャンネル中で増倍された後チャンネル
プレート14を出て写真フィルム15に照射され、検出
、記録される。
プレート14を出て写真フィルム15に照射され、検出
、記録される。
第5図はチャンネルプレート14の見取図を示す。
第6図はチャンネルプレート14の一部分の拡大図を示
す。
す。
チャンネルプレートの一個のチャンネルは直径10〜1
5μ、長さ2〜3龍程度の中空のガラス質物質からなっ
ている。
5μ、長さ2〜3龍程度の中空のガラス質物質からなっ
ている。
チャンネルプレートは各チャンネルをたばねて板状に成
、形したものである。
、形したものである。
このチャンネルプレートにはイオンの入射面にリード線
16が付され、これと反対側の面にリード線16′が付
されている。
16が付され、これと反対側の面にリード線16′が付
されている。
リード線16をO電位にし、リード線16′に+IKV
を印加したときにチャンネルプレートの利得は103で
あった。
を印加したときにチャンネルプレートの利得は103で
あった。
この方式を利用することにより、第1図の二次イオン6
を直接写真乾板で検出する従来方式に比較して103の
感度を得ることができた。
を直接写真乾板で検出する従来方式に比較して103の
感度を得ることができた。
そのため従来検出されなかった微量不純物を検出できる
るようになったとともに、従来と同じ検出感度を得るた
めの測定時間は約1/100に短縮することが可能とな
った。
るようになったとともに、従来と同じ検出感度を得るた
めの測定時間は約1/100に短縮することが可能とな
った。
第1図は第4図の写真フィルム15の前に帯電防止用の
ワイヤ21をおいた別の実施例を示す。
ワイヤ21をおいた別の実施例を示す。
この帯電防止用のワイヤ21は写真フィルム15にチャ
ージアップした電荷による電界が入射電子ビームの軌道
に悪影響を与えないように静電遮へいするためのもので
あり、それ自体周知の方法にしたがって動作中は一定電
位(通常は接地電位におかれるが、その役割からして必
ずしも接地電位である必要はなく、一定電位に保たれて
いればよい)に保たれている。
ージアップした電荷による電界が入射電子ビームの軌道
に悪影響を与えないように静電遮へいするためのもので
あり、それ自体周知の方法にしたがって動作中は一定電
位(通常は接地電位におかれるが、その役割からして必
ずしも接地電位である必要はなく、一定電位に保たれて
いればよい)に保たれている。
一例として、ワイヤ21をリード線16′に対して負の
電位に保っておけば、チャネルプレート14から放出し
た二次電子20がリード線16′とワイヤ21間に印加
されたフィルドで加速されたのち写真用フィルム22を
照射することにより記録される。
電位に保っておけば、チャネルプレート14から放出し
た二次電子20がリード線16′とワイヤ21間に印加
されたフィルドで加速されたのち写真用フィルム22を
照射することにより記録される。
このワイヤ21は細い金属線であり、イオンビーム像に
対して平行とならないように斜めや直角方向にのばして
おかれる。
対して平行とならないように斜めや直角方向にのばして
おかれる。
その理由はワイヤ21がイオンビーム像(第2図に示し
たようなスペクトル線)と重なってしまうことを防止す
るためである。
たようなスペクトル線)と重なってしまうことを防止す
るためである。
なお、このワイヤ21のかわりに細い金属線を網状に編
んで用いてもよい。
んで用いてもよい。
そして、この導電線のワイヤまたは網として十分細い素
線のものを用いれば、入射電子ビームを殆どロスなく写
真フィルム上に導くことができる。
線のものを用いれば、入射電子ビームを殆どロスなく写
真フィルム上に導くことができる。
また、この導電性のワイヤまたは網は一定電位に保たれ
ているので、それ自体が電子ビーム軌道に変動を与える
ことはない。
ているので、それ自体が電子ビーム軌道に変動を与える
ことはない。
これはまた、帯電防止用としてフィルム22の表面に導
電性物質(例えばカーボン、ネサ膜など)を蒸着したも
のでもよい。
電性物質(例えばカーボン、ネサ膜など)を蒸着したも
のでもよい。
第8図は二次イオン像を観測するための本発明の別の実
施例を示す。
施例を示す。
磁場11で質量分離された二次イオン6をチャンネルプ
レート14で二次電子に変換しさらに増倍したのちに、
チャンネル中・レート14から放出された二次電子20
を、ガラス19の表面にネサコーチング層18を施した
のちさらにその上に蛍光体17を塗付した面に衝突させ
ると、前記二次電子20は蛍光体17で光に変換される
。
レート14で二次電子に変換しさらに増倍したのちに、
チャンネル中・レート14から放出された二次電子20
を、ガラス19の表面にネサコーチング層18を施した
のちさらにその上に蛍光体17を塗付した面に衝突させ
ると、前記二次電子20は蛍光体17で光に変換される
。
すなわち一次イオン6の位置およびそれらの強度に対応
して蛍光体11の位置に光を放出させる。
して蛍光体11の位置に光を放出させる。
蛍光体11の面でのこれらの光を観測することにより、
二次イオン6の強度および位置を検出することができる
。
二次イオン6の強度および位置を検出することができる
。
従来は、二次イオン6の観測という面から直接二次イオ
ンを蛍光体に照射していたが、イオンによる発光効率が
電子による効率よりも約1/I 00と劣るとともに、
蛍光体もイオンによるスパッタリングで経時劣化を生じ
るなどのためにイオン像の直接観測は有効でなかった。
ンを蛍光体に照射していたが、イオンによる発光効率が
電子による効率よりも約1/I 00と劣るとともに、
蛍光体もイオンによるスパッタリングで経時劣化を生じ
るなどのためにイオン像の直接観測は有効でなかった。
第9図は第8図の蛍光板の後に写真フィルム22をおい
たときの別の実施例を示す。
たときの別の実施例を示す。
二次イオン6が最終的に蛍光体17で光に変換されるた
めに、写真フィルム22は通常の光用のものを用いるこ
とができる。
めに、写真フィルム22は通常の光用のものを用いるこ
とができる。
この方式では質量分析部がガラス19で真空遮断される
ために、写真フィルム22を大気中におくことが可能と
なり、(1)従来の写真乾板挿入による質量分析部の真
空度の低下を防止できる、(2)フィルム22を大気中
に置けるためにフィルム22の移動および移動機構が容
易となる、(3)質量分析部に吸着ガスの焼出し操作を
施すことができるようになり、これにより高真空が達成
でき、バックグラウンドイオンを減少できる、など従来
にみられない大きい利点が得られることが明らかとなっ
た。
ために、写真フィルム22を大気中におくことが可能と
なり、(1)従来の写真乾板挿入による質量分析部の真
空度の低下を防止できる、(2)フィルム22を大気中
に置けるためにフィルム22の移動および移動機構が容
易となる、(3)質量分析部に吸着ガスの焼出し操作を
施すことができるようになり、これにより高真空が達成
でき、バックグラウンドイオンを減少できる、など従来
にみられない大きい利点が得られることが明らかとなっ
た。
第10図は第9図の実施例におけるガラス19と写真用
フィルム22の間に新たにレンズ23をおき、蛍光体1
7の像を拡大してフィルム22に記録するようにした実
施例を示す。
フィルム22の間に新たにレンズ23をおき、蛍光体1
7の像を拡大してフィルム22に記録するようにした実
施例を示す。
この実施例によれば、蛍光体17の上で互いに接近した
イオンビーク像をフィルム22上に拡大して記録するこ
とにより、フィルム上でスペクトル像を肉眼により直視
することができる。
イオンビーク像をフィルム22上に拡大して記録するこ
とにより、フィルム上でスペクトル像を肉眼により直視
することができる。
第11図は本発明のさらに別の実施例を示す。
磁場11で質量分析された二次イオンM n +。
Mm十が異なったチャンネルプレート14および14′
により電子に変換され増幅されたのち二次電子20およ
び20′として放出される。
により電子に変換され増幅されたのち二次電子20およ
び20′として放出される。
二次電子20および20′はチャンネルプレートとワイ
ヤ21にて加速されたのち写真フィルム22に照射され
、記録される。
ヤ21にて加速されたのち写真フィルム22に照射され
、記録される。
チャンネルプレート14および14′にはおのおのリー
ド線24および24’、16および16′により独立に
電圧印加されるため、チャンネルプレートの利得は印加
電圧の違いで異なる。
ド線24および24’、16および16′により独立に
電圧印加されるため、チャンネルプレートの利得は印加
電圧の違いで異なる。
そこでMn+とMm+のイオン強度が大きく異なる場合
は、チャンネルプレートの印加電圧を変えることにより
フィルムに到達する二次電子の強度を調整してやること
が可能である。
は、チャンネルプレートの印加電圧を変えることにより
フィルムに到達する二次電子の強度を調整してやること
が可能である。
つまり、微量強度のイオンの検出のためには印加電圧を
高め、強い強度のイオンの検出のためには印加電圧を低
くすれば、フィルムの露出度をほぼ同じにしたり、露出
時間の選択が容易となる。
高め、強い強度のイオンの検出のためには印加電圧を低
くすれば、フィルムの露出度をほぼ同じにしたり、露出
時間の選択が容易となる。
またこの実施例から、チャンネルプレートを2個以上に
分割したり、写真フィルムの代わりに蛍光体をおき光に
変換後写真フィルムを用いたり、光の強度から電気信号
にかえたりしても同様の効果が期待できる。
分割したり、写真フィルムの代わりに蛍光体をおき光に
変換後写真フィルムを用いたり、光の強度から電気信号
にかえたりしても同様の効果が期待できる。
また、蛍光体を用いるときはその前面に複数個のワイヤ
をそなえ、各ワイヤに独立に電圧が印加できるようにす
れば、チャンネルプレートは1個でもよい。
をそなえ、各ワイヤに独立に電圧が印加できるようにす
れば、チャンネルプレートは1個でもよい。
それはワイヤとチャンネルプレートとの間で二次電子を
加速するさいに、加速電圧の差により蛍光体の発光効果
が異なるからである。
加速するさいに、加速電圧の差により蛍光体の発光効果
が異なるからである。
そのために、弱い強度のイオンに対して高い印加電圧、
強い強度のイオンに対して低い印加電圧をかければ、蛍
光体の上でほぼ同じ光量を得ることが可能となる。
強い強度のイオンに対して低い印加電圧をかければ、蛍
光体の上でほぼ同じ光量を得ることが可能となる。
このようにすれば、前記写真フィルムの場合と同様フィ
ルムの露出度をほぼ同じにしたり、露出時間の選択が容
易となる。
ルムの露出度をほぼ同じにしたり、露出時間の選択が容
易となる。
市販されているチャンネルプレートとしては直径2.5
CIILから10cIrL位までの比較的小さな円板状
のものが多く、第5図のような大型形状のものは特別に
作る必要がある。
CIILから10cIrL位までの比較的小さな円板状
のものが多く、第5図のような大型形状のものは特別に
作る必要がある。
市販の小さなチャンネルプレートを用いて本発明の効果
を得るには第12図に示すように市販の円板状チャンネ
ルプレートを正方形または長方形に切りとり、これを写
真乾板22に沿って一定速度で移動できるようにしてや
れは良い。
を得るには第12図に示すように市販の円板状チャンネ
ルプレートを正方形または長方形に切りとり、これを写
真乾板22に沿って一定速度で移動できるようにしてや
れは良い。
いま写真乾板の長さをyとし、チャンネルプレートの巾
をXとする。
をXとする。
またチャンネルプレートの利得をAとし、写真乾板のイ
オンに対する感光度をBIとし電子に対する感光度をB
Eとすればこの方式での感度の増倍率Gは で与えられる。
オンに対する感光度をBIとし電子に対する感光度をB
Eとすればこの方式での感度の増倍率Gは で与えられる。
一般にBE>Jであり、チャンネルプレートの利得Aと
しては1000以上であるから、例えば写真乾板22の
長さy=30CrrLでチャンネルプレートの巾X二3
cInの場合でも、Gとしては100以上の値が容易に
得られる。
しては1000以上であるから、例えば写真乾板22の
長さy=30CrrLでチャンネルプレートの巾X二3
cInの場合でも、Gとしては100以上の値が容易に
得られる。
第1図は固体試料表面を分析する固体分析装置の従来の
1例を示す図、第2図は第1図の装置で金属合金を分析
したとき写真乾板で得た二次イオンの強度を示す図、第
3図は第1図の装置で金属合金を分析したとき電気的検
知により得られた二次イオンのマススペクトルを示す図
、第4図は本発明の質量分析装置の1実施例、第5図は
本発明に利用するチャンネルプレートの見取図、第6図
はチャンネルプレートの一部の拡大見取図、第7図〜第
12図はそれぞれ本発明の別の実施例を示す主要部の図
である。 図において、1・・・・・・イオン源、2・・・・・・
1次イオン、3・・・・・・静電レンズ、4,4′・・
・・・・偏向板、5・・・・・・試料、6,6′・・・
・・・二次イオン、7・・・・・・二次イオン引き出し
電極、8・・・・・・静電レンズ、9゜9′、9″・・
・・・・スリット、10・・・・・・偏向電場電極、1
1・・・・・・磁場、12・・・・・・写真乾板、13
・・・・・・イオンコレクター、14,14’・・・・
・・チャンネルプレート、15・・・・・・写真フィル
ム、16,16’・・・・・・リード線、17・・・・
・・蛍光体、18・・・・・・ネサコーテング層、19
・・・・・・ガラス板、20,20′・・・・・・二次
電子、21・・・・・・ワイヤー、22・・・・・・写
真フィルム、23・・・・・・光学レンズ、24.24
’・・・・・・リード線。
1例を示す図、第2図は第1図の装置で金属合金を分析
したとき写真乾板で得た二次イオンの強度を示す図、第
3図は第1図の装置で金属合金を分析したとき電気的検
知により得られた二次イオンのマススペクトルを示す図
、第4図は本発明の質量分析装置の1実施例、第5図は
本発明に利用するチャンネルプレートの見取図、第6図
はチャンネルプレートの一部の拡大見取図、第7図〜第
12図はそれぞれ本発明の別の実施例を示す主要部の図
である。 図において、1・・・・・・イオン源、2・・・・・・
1次イオン、3・・・・・・静電レンズ、4,4′・・
・・・・偏向板、5・・・・・・試料、6,6′・・・
・・・二次イオン、7・・・・・・二次イオン引き出し
電極、8・・・・・・静電レンズ、9゜9′、9″・・
・・・・スリット、10・・・・・・偏向電場電極、1
1・・・・・・磁場、12・・・・・・写真乾板、13
・・・・・・イオンコレクター、14,14’・・・・
・・チャンネルプレート、15・・・・・・写真フィル
ム、16,16’・・・・・・リード線、17・・・・
・・蛍光体、18・・・・・・ネサコーテング層、19
・・・・・・ガラス板、20,20′・・・・・・二次
電子、21・・・・・・ワイヤー、22・・・・・・写
真フィルム、23・・・・・・光学レンズ、24.24
’・・・・・・リード線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 試料のイオンを発生し、これをビーム状に放射する
手段と、このイオンビームを磁場により質量分離する手
段と、この質量分離されたイオンビーム像を写真乾板に
記録する手段とを有する装置において、この写真乾板の
前にチャンネルプレートを設置し、もってイオンビーム
像を電子ビーム像に変換したのぢ、この電子ビーム像を
写真乾板に記録することにより検出感度を増大せしめた
ことを特徴とする質量分析装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の装置においてチャンネ
ルプレートと写真乾板との間に細い導電性のワイヤまた
は網を設置し、これを一定電位に保つことにより、写真
乾板の帯電により、チャンネルプレートから写真乾板ま
での電子軌道が曲げられて、像がみだれることを防止し
たことを特徴ととする質量分析装置。 3 特許請求の範囲第1項記載の装置においてガラス表
面に蛍光塗料を塗布してなる蛍光板をチャネルプレート
の後に設置し、チャネルプレートによる電子像をこの蛍
光板でさらに光学像に変換した後にこれを写真撮像する
ことにより、写真乾板を常時大気中で使用することを可
能ならしめたことを特徴とする質量分析装置。 4 特許請求の範囲第1項記載の装置において小さいチ
ャネルプレートを写真乾板に沿って一定速度で移動させ
るよう構成したことを特徴とする質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49044570A JPS5815732B2 (ja) | 1974-04-22 | 1974-04-22 | シツリヨウブンセキソウチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49044570A JPS5815732B2 (ja) | 1974-04-22 | 1974-04-22 | シツリヨウブンセキソウチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50137787A JPS50137787A (ja) | 1975-11-01 |
| JPS5815732B2 true JPS5815732B2 (ja) | 1983-03-28 |
Family
ID=12695150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP49044570A Expired JPS5815732B2 (ja) | 1974-04-22 | 1974-04-22 | シツリヨウブンセキソウチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5815732B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6010035U (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-23 | 株式会社パイロット | 長尺パネル |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8600685A (nl) * | 1986-03-18 | 1987-10-16 | Philips Nv | Apparaat voor energie selectieve afbeelding. |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS472073U (ja) * | 1971-01-26 | 1972-08-23 |
-
1974
- 1974-04-22 JP JP49044570A patent/JPS5815732B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6010035U (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-23 | 株式会社パイロット | 長尺パネル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS50137787A (ja) | 1975-11-01 |
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