JPS5815954A - スルホニルケトン系化合物およびその製造法 - Google Patents
スルホニルケトン系化合物およびその製造法Info
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- JPS5815954A JPS5815954A JP11468981A JP11468981A JPS5815954A JP S5815954 A JPS5815954 A JP S5815954A JP 11468981 A JP11468981 A JP 11468981A JP 11468981 A JP11468981 A JP 11468981A JP S5815954 A JPS5815954 A JP S5815954A
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- compound
- ketone compound
- sulfenyl
- ketone
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式（Ｉ）で示される新規なスルホニルケ
トン系化合物およびその製造法に関するものである ［式中、Ｘは水素原子または塩素原子を、Ｙはアルキル
基またはハロゲン原子を表わす。〕一般式（Ｉ）で示さ
れる本発明化合物は、一般式（ＩＩ）で示される特開昭
５３−１３０６６１号公報に記載のトリアゾリルビニル
ケトン系化合物および一般式（ＩＩＩ）で示される特開
昭５４−４１８７５号公報に記載のトリアゾリルビニル
アルコール系化合物の製造中−携体として重要な化合物
である。 ＼ 〔式中、Ｘは前述のとおりである。〕 〔式中、Ｘは前述のとおりである。〕 一般式（ｎ）および（Ｉ［）で示される化合物は、農園
芸用植物に寄生する種々の有害な菌類に対して高い防除
効果を有する殺菌剤として有用であり、かかる化合物の
製造中間体を提供する本発明の意義はきわめて大きい。
トン系化合物およびその製造法に関するものである ［式中、Ｘは水素原子または塩素原子を、Ｙはアルキル
基またはハロゲン原子を表わす。〕一般式（Ｉ）で示さ
れる本発明化合物は、一般式（ＩＩ）で示される特開昭
５３−１３０６６１号公報に記載のトリアゾリルビニル
ケトン系化合物および一般式（ＩＩＩ）で示される特開
昭５４−４１８７５号公報に記載のトリアゾリルビニル
アルコール系化合物の製造中−携体として重要な化合物
である。 ＼ 〔式中、Ｘは前述のとおりである。〕 〔式中、Ｘは前述のとおりである。〕 一般式（ｎ）および（Ｉ［）で示される化合物は、農園
芸用植物に寄生する種々の有害な菌類に対して高い防除
効果を有する殺菌剤として有用であり、かかる化合物の
製造中間体を提供する本発明の意義はきわめて大きい。
本発明者らは、一般式（ｎ）および（ＩＩＩ）で示され
る殺菌剤として有用な化合物をいかに工業的に有利に製
造するかを鋭意研究の結果、下記反応式で示されるごと
く、本発明化合物（Ｉ）から容易にスルホニルケトンブ
ロマイド系化合物（ＩＶ）およびビストリアゾリルケト
ン系化合物（Ｖ）を経由して前記トリアゾリルビニルケ
トン系化合物（ｎ）が、さらに該化合物を還元すること
によりトリアゾリルビニルアルコール系化合物（Ｉ［［
）が得られることを見出した。
る殺菌剤として有用な化合物をいかに工業的に有利に製
造するかを鋭意研究の結果、下記反応式で示されるごと
く、本発明化合物（Ｉ）から容易にスルホニルケトンブ
ロマイド系化合物（ＩＶ）およびビストリアゾリルケト
ン系化合物（Ｖ）を経由して前記トリアゾリルビニルケ
トン系化合物（ｎ）が、さらに該化合物を還元すること
によりトリアゾリルビニルアルコール系化合物（Ｉ［［
）が得られることを見出した。
また本発明化合物（１）が工業的に入手可能なベンズア
ルデヒド類とビナコロンとの縮合によって得られるベン
ザルビナコロン類（ＶＩ）から下記反応式で示されるご
とく、チオフェノ−μ類（■）の付加によって得られる
スルフェニルケトン系化合物（■）を原料としてきわめ
て高収率で得られることも併せ見出した。
ルデヒド類とビナコロンとの縮合によって得られるベン
ザルビナコロン類（ＶＩ）から下記反応式で示されるご
とく、チオフェノ−μ類（■）の付加によって得られる
スルフェニルケトン系化合物（■）を原料としてきわめ
て高収率で得られることも併せ見出した。
ベンザルビナコロン類（ＶＩ）を出発原料として本発明
化合物（Ｉ）を経由してトリアゾリルビニの方法に比し
て優れたものである。
化合物（Ｉ）を経由してトリアゾリルビニの方法に比し
て優れたものである。
［上記式中、ＸおよびＹは前述のとおりである。］
本発明化合物（Ｉ）は、前記スルフェニルケトン系化合
物（■）を適当な酸化剤と反応させることにより容易に
製造できる。酸化剤としては、スルフィドよりスルホン
への酸化に用いられる酸化剤、たとえば過酸化水素、有
機過酸類、過マンガン酸カリウム、メタ過ヨウ素酸ナト
リウム、硝酸、次亜塩素酸ナトリウム、オゾン、クロム
酸などがあげられるが、過酸化水素、有機過酸類、オゾ
ンなどが一般には好ましい。
物（■）を適当な酸化剤と反応させることにより容易に
製造できる。酸化剤としては、スルフィドよりスルホン
への酸化に用いられる酸化剤、たとえば過酸化水素、有
機過酸類、過マンガン酸カリウム、メタ過ヨウ素酸ナト
リウム、硝酸、次亜塩素酸ナトリウム、オゾン、クロム
酸などがあげられるが、過酸化水素、有機過酸類、オゾ
ンなどが一般には好ましい。
反応に際しては通常、溶媒類の存在下に行なうことが好
ましく、か＼る溶媒類としＳは上記酸化剤に不活性な溶
媒類を単独または混合して用いることができるが、四塩
化炭素、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化
炭化水素類や、アセトン、メチルエチルケトンなどのケ
トン類、酢酸、水などが特に好ましい。反応の温度は一
５０℃〜１００℃の範囲、好ましくは一１０℃〜８０℃
の範囲である。酸化剤の量としては、スルフェニルケト
ン系化合物１モルに対して活性酸素として２モル量必要
であり、たとえば過酸化水素の場合、スルホニルケトン
系化合物１モルに対して２モル必要である。通常、スル
フェニルケトン系化合物は前反応ステップからの未反応
チオフェノ−μを微量含有していることから環境管理上
問題となる臭気を有しており、脱臭を目的として酸化剤
を若干過剰をと使用することが望ましい。
ましく、か＼る溶媒類としＳは上記酸化剤に不活性な溶
媒類を単独または混合して用いることができるが、四塩
化炭素、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化
炭化水素類や、アセトン、メチルエチルケトンなどのケ
トン類、酢酸、水などが特に好ましい。反応の温度は一
５０℃〜１００℃の範囲、好ましくは一１０℃〜８０℃
の範囲である。酸化剤の量としては、スルフェニルケト
ン系化合物１モルに対して活性酸素として２モル量必要
であり、たとえば過酸化水素の場合、スルホニルケトン
系化合物１モルに対して２モル必要である。通常、スル
フェニルケトン系化合物は前反応ステップからの未反応
チオフェノ−μを微量含有していることから環境管理上
問題となる臭気を有しており、脱臭を目的として酸化剤
を若干過剰をと使用することが望ましい。
させたのち炉別することによって達成される。
以下実施例をあげて本発明をさら番こ詳しく説明する。
実施例１
ｌ−（２１４−ジクロロフエニ／１／）−１−ｐ−）ル
エンスルホニ／１／−４．４−ジメチμペンタン−３−
オンの合成 ［工程１］ ２．４−ジクロロベンサルビナコロン５
０９ （０，１９モ／Ｌ／）、ｐ−）ルエンチオー／ｌ
／ ２５ ｆ （０，２モ／ｌ／）、Ｔｒｉｔｏｎ−Ｂ
（水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム） ０．５９
および エタノ−／Ｌ’ ４００ωを４時間加熱還流後、減圧下
に溶媒を留去した。
エンスルホニ／１／−４．４−ジメチμペンタン−３−
オンの合成 ［工程１］ ２．４−ジクロロベンサルビナコロン５
０９ （０，１９モ／Ｌ／）、ｐ−）ルエンチオー／ｌ
／ ２５ ｆ （０，２モ／ｌ／）、Ｔｒｉｔｏｎ−Ｂ
（水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム） ０．５９
および エタノ−／Ｌ’ ４００ωを４時間加熱還流後、減圧下
に溶媒を留去した。
−ｒ−−ｙｌｖ５００ＣＣと氷水３００ ＣＣを加え抽
出分液し、エーテル層を５チ て結晶化した。得られた結晶は１ −（２，４−ジクロロフエニｉＬ／） −１−Ｐ−）ルエンスルＪエニル ４．４−ジメチルペンクン−３− オンであった。収量７０ｆ（収率 ９５％）ｍｐ６５〜６６℃ （工程２］ 工程１で得られた１−（２，４−ジクロロ
フエニ／ｌ／）−１−Ｐ− トルエンスルフェニ／７−４．４− ジメチルペンクン−３−オン２０ ｇ（０，０５２モ／ｌ／）を塩化メチレン５００ ＣＣ
に溶解し、−５℃にてメタクロル過安息香酸２０ ｖ
（０，１２モ／１／）を加え、ついで室温で３時間 攪拌した。反応液を５％亜硫酸水 素ナトリウム水および重曹水で洗 浄後濃縮し、標題化合物２１１ （収率９７ ％ ）を得た。ｎ Ｄｌ−５５６３実施例
２ ｌ−（２，４−ジクロロフェニル）＝】−（４−クロロ
フェニルスルホニル）−４，４−シメチルペンタンー３
−オンの合成 １−（２，４−ジクロロフェニル）−１−（４−クロロ
フェニルスルフェニル）−４゜４−ジメチルペンタン−
３−オン２０９ （０，０５モ／ｌ／ ｍｐ １２２
−１２３℃）を塩化メチレン５００ ＣＨに溶解し、−
５℃にてメタクロル過安息香酸１９ ｆ （０，１１モ
ル）を加えついで室温で３時間攪拌した。実施例１と同
様の後処理により標題化合物２１２（収率９７チ）を得
た。
出分液し、エーテル層を５チ て結晶化した。得られた結晶は１ −（２，４−ジクロロフエニｉＬ／） −１−Ｐ−）ルエンスルＪエニル ４．４−ジメチルペンクン−３− オンであった。収量７０ｆ（収率 ９５％）ｍｐ６５〜６６℃ （工程２］ 工程１で得られた１−（２，４−ジクロロ
フエニ／ｌ／）−１−Ｐ− トルエンスルフェニ／７−４．４− ジメチルペンクン−３−オン２０ ｇ（０，０５２モ／ｌ／）を塩化メチレン５００ ＣＣ
に溶解し、−５℃にてメタクロル過安息香酸２０ ｖ
（０，１２モ／１／）を加え、ついで室温で３時間 攪拌した。反応液を５％亜硫酸水 素ナトリウム水および重曹水で洗 浄後濃縮し、標題化合物２１１ （収率９７ ％ ）を得た。ｎ Ｄｌ−５５６３実施例
２ ｌ−（２，４−ジクロロフェニル）＝】−（４−クロロ
フェニルスルホニル）−４，４−シメチルペンタンー３
−オンの合成 １−（２，４−ジクロロフェニル）−１−（４−クロロ
フェニルスルフェニル）−４゜４−ジメチルペンタン−
３−オン２０９ （０，０５モ／ｌ／ ｍｐ １２２
−１２３℃）を塩化メチレン５００ ＣＨに溶解し、−
５℃にてメタクロル過安息香酸１９ ｆ （０，１１モ
ル）を加えついで室温で３時間攪拌した。実施例１と同
様の後処理により標題化合物２１２（収率９７チ）を得
た。
ｍＰ １８４−１８５℃
実施例３
ｌ−（４−クロロフェニル）−１−ｐ−トルエンスルホ
ニル）−４，４−ジメチルベンクン−３−オンの合成
ニル）−４，４−ジメチルベンクン−３−オンの合成
Claims (2)
- （１）一般式 〔式中、Ｘは水素原子または塩素原子を、Ｙはアルキル
基またはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるスルホニルケトン系化合物。 - （２）一般式 〔式中、Ｘは水素原子または塩素原子を、Ｙはアルキル
基またはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるスルフェニルケトン系化合物を酸化すること
を特徴とする一般式 〔式中、ＸおよびＹは前述のとおりである。〕で示され
るスルホニルケトン系化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11468981A JPS5815954A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | スルホニルケトン系化合物およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11468981A JPS5815954A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | スルホニルケトン系化合物およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5815954A true JPS5815954A (ja) | 1983-01-29 |
Family
ID=14644168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11468981A Pending JPS5815954A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | スルホニルケトン系化合物およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5815954A (ja) |
-
1981
- 1981-07-21 JP JP11468981A patent/JPS5815954A/ja active Pending
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