JPS58164797A - 結合強さを改良する銅の電気化学的処理 - Google Patents
結合強さを改良する銅の電気化学的処理Info
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- JPS58164797A JPS58164797A JP3571283A JP3571283A JPS58164797A JP S58164797 A JPS58164797 A JP S58164797A JP 3571283 A JP3571283 A JP 3571283A JP 3571283 A JP3571283 A JP 3571283A JP S58164797 A JPS58164797 A JP S58164797A
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属シート又は金属箔の表面tm虐して、その
基板物質に対する接着能力を高めるだめの改良された方
法及び装置に関する。爽に詳しくは本発明は、鋼のシー
ト又は箔の表面を処理して、樹脂質基板に対する該シー
ト又は箔の接着能力を改良することに関する。
基板物質に対する接着能力を高めるだめの改良された方
法及び装置に関する。爽に詳しくは本発明は、鋼のシー
ト又は箔の表面を処理して、樹脂質基板に対する該シー
ト又は箔の接着能力を改良することに関する。
プリント配線は、ラジオ、テレ−ジョン、電子計算機な
どのような種々の電子機器に広く使用されている。プリ
ント配線の生産に轟っては銅を、その高導電性の故に、
好ましくは箔の形態において使用することがiIましい
0更に銅箔は注意深く製造され、かつ最少量の元素状不
純物を含有する場合には、2点間の電気接続範囲にわた
って導電性が非常に均一である0 プリント配線の製造に当っては、一般的に合成結合させ
、次いで蚊組合せ構造物を酸エツチング錫塩に供して所
望め電気回路に形−するのが普通のや9万である。しか
しながら、金属箔と基板との間の密着性は弱いので、従
来は基板に対する金j1箔の結合の強さを増加させるよ
うに皺蚕属liを処理することに、かなpの努力が傾け
られて来た。
どのような種々の電子機器に広く使用されている。プリ
ント配線の生産に轟っては銅を、その高導電性の故に、
好ましくは箔の形態において使用することがiIましい
0更に銅箔は注意深く製造され、かつ最少量の元素状不
純物を含有する場合には、2点間の電気接続範囲にわた
って導電性が非常に均一である0 プリント配線の製造に当っては、一般的に合成結合させ
、次いで蚊組合せ構造物を酸エツチング錫塩に供して所
望め電気回路に形−するのが普通のや9万である。しか
しながら、金属箔と基板との間の密着性は弱いので、従
来は基板に対する金j1箔の結合の強さを増加させるよ
うに皺蚕属liを処理することに、かなpの努力が傾け
られて来た。
このような努力の結果として、穏々め処理法が開発され
、それらは該金属箔の少くとも一つの表面上に粗面化さ
れた表面を形成する結果となった。
、それらは該金属箔の少くとも一つの表面上に粗面化さ
れた表面を形成する結果となった。
使用される金属箔が銅箔である場合には一般的にこれら
のも理は該処理表面が硬化性のゾ2スチック材料により
コーティングされた場合に、主として機械的結合である
強じんな結合を形成するように、該表面上に樹枝状銅層
を電着させることよp成る。
のも理は該処理表面が硬化性のゾ2スチック材料により
コーティングされた場合に、主として機械的結合である
強じんな結合を形成するように、該表面上に樹枝状銅層
を電着させることよp成る。
結合強さを増進するための従来技術の処理の一つの形式
は複数の電着工程を有する方法を包含する。これらの方
法の一つの工程は一般的に、金属箔嵌面上に主として銅
又は酸化鋼の粒子であるノジュラ−(小節状)粉・状銅
層を電着によp被覆することを包含する8゜該粒子は、
箔の表面積を増加させる不規則なノジエツークツスター
(nodu1arclust@r )の形状になる。該
ノジエツ一層を被覆した後、構造がノジエラーで蝶ない
けれど、その代j)Kjg一層の原子配列に一致する鋼
か、又はニッケル、コバルトもしくはり四ムのようなそ
の他の金属かの少くとも1種のオーバーロッキング(0
マ・rlocking )層を、第二の電着工程に19
被覆して粗面を形成し、一方において骸ノジエラー銅層
の粉末移動特性(1)Offl・r transf@r
oharaot・ristioりを減少させる。仁の
オーバー四ツキング層は表面の突出形状をそのtまに維
持するためのカプセル封じコーティングとして作用する
。これらの処理の代表例がルーズ(:I、+uO・)も
の米国特許第3.293.109号、イエイツ(Yat
es )らの同第3.857.681号、ウオルス゛、
、、キー(Wolski )らの同第6.918.92
6号、□フォルスキーらの米国再発行特許830,18
0号、サーキット フォイル(oirouit yoi
z )及びイエイツ(Yat@s )のそれぞれの英1
14I許第1.211.494号及び1i1に1,54
9.696号の各明細書に示されている。
は複数の電着工程を有する方法を包含する。これらの方
法の一つの工程は一般的に、金属箔嵌面上に主として銅
又は酸化鋼の粒子であるノジュラ−(小節状)粉・状銅
層を電着によp被覆することを包含する8゜該粒子は、
箔の表面積を増加させる不規則なノジエツークツスター
(nodu1arclust@r )の形状になる。該
ノジエツ一層を被覆した後、構造がノジエラーで蝶ない
けれど、その代j)Kjg一層の原子配列に一致する鋼
か、又はニッケル、コバルトもしくはり四ムのようなそ
の他の金属かの少くとも1種のオーバーロッキング(0
マ・rlocking )層を、第二の電着工程に19
被覆して粗面を形成し、一方において骸ノジエラー銅層
の粉末移動特性(1)Offl・r transf@r
oharaot・ristioりを減少させる。仁の
オーバー四ツキング層は表面の突出形状をそのtまに維
持するためのカプセル封じコーティングとして作用する
。これらの処理の代表例がルーズ(:I、+uO・)も
の米国特許第3.293.109号、イエイツ(Yat
es )らの同第3.857.681号、ウオルス゛、
、、キー(Wolski )らの同第6.918.92
6号、□フォルスキーらの米国再発行特許830,18
0号、サーキット フォイル(oirouit yoi
z )及びイエイツ(Yat@s )のそれぞれの英1
14I許第1.211.494号及び1i1に1,54
9.696号の各明細書に示されている。
若干の多段電着工程法においては、カプセル封じ層の形
成工程後にもう一つの電気化学的処理を行う。このよう
な処理の1例において、骸電気的処理は、結合の強さを
更に高めるための処理をされつつある表面上に第三の微
結晶層を電着させるような条件下に、金属イオン含有電
解液を使用することを包含する。更にもう一つの処理形
式においては、処理される金属箔と基板材料との間に金
属障壁を電解的に形成する0この金属障壁は、積層工程
中に基板とその下にある金属箔との間における、すべて
の相互作用を阻止しようとするものである。従来技術の
範囲内において、この金属層を亜鉛、インジウ・ム、ニ
ッケル、スズ、コバルト、黄銅、青銅、共榊出したスズ
及び亜鉛クロム、アルンニウム、カー、者ラム、スズ、
亜鉛又は銅のカドミウム合金、なiびにリン含有ニッケ
ルのよう Iな物質から形成することは公知である
。これらの処理形式の代表例はルーズ(Luc・)らに
対する米1i141許第3.585,010号、4 Z
イッ(rates)らに対する同113,857,6
81号、フォルス中−(Woxski )らに対する同
第3,918.926号、モリサキ(Marisaki
)に対する同第4.049.481号、ハトキン(H
utkin )に対する同N4.861.857号、及
び啼すサキらに対する同第4.082.591号、フォ
ルスキーらに対する米国再発行特許1130.180号
、及び共にフルカワ(Furukawa )に対する英
1ii1%許出願第2,073,778A号及び同第2
.073.779ム号の各明細書に示されるようなもの
である。
成工程後にもう一つの電気化学的処理を行う。このよう
な処理の1例において、骸電気的処理は、結合の強さを
更に高めるための処理をされつつある表面上に第三の微
結晶層を電着させるような条件下に、金属イオン含有電
解液を使用することを包含する。更にもう一つの処理形
式においては、処理される金属箔と基板材料との間に金
属障壁を電解的に形成する0この金属障壁は、積層工程
中に基板とその下にある金属箔との間における、すべて
の相互作用を阻止しようとするものである。従来技術の
範囲内において、この金属層を亜鉛、インジウ・ム、ニ
ッケル、スズ、コバルト、黄銅、青銅、共榊出したスズ
及び亜鉛クロム、アルンニウム、カー、者ラム、スズ、
亜鉛又は銅のカドミウム合金、なiびにリン含有ニッケ
ルのよう Iな物質から形成することは公知である
。これらの処理形式の代表例はルーズ(Luc・)らに
対する米1i141許第3.585,010号、4 Z
イッ(rates)らに対する同113,857,6
81号、フォルス中−(Woxski )らに対する同
第3,918.926号、モリサキ(Marisaki
)に対する同第4.049.481号、ハトキン(H
utkin )に対する同N4.861.857号、及
び啼すサキらに対する同第4.082.591号、フォ
ルスキーらに対する米国再発行特許1130.180号
、及び共にフルカワ(Furukawa )に対する英
1ii1%許出願第2,073,778A号及び同第2
.073.779ム号の各明細書に示されるようなもの
である。
これら従来技術の方法の成るものは種々の工程が、系列
操作の部分としての別個の感層槽においてか、又は各工
程の間に溶液の排出を静って一つの檜においてかの、い
ずれかにおいて行われることを要する。多数の櫂、又は
各工程間における溶液の排出のいずれかを利用しなけれ
ばならないことにより、これらの方法は非能率で、かつ
複雑となる傾向がある。
操作の部分としての別個の感層槽においてか、又は各工
程の間に溶液の排出を静って一つの檜においてかの、い
ずれかにおいて行われることを要する。多数の櫂、又は
各工程間における溶液の排出のいずれかを利用しなけれ
ばならないことにより、これらの方法は非能率で、かつ
複雑となる傾向がある。
若干の従来技術の方法においては種々の電流密度の使用
を提案している。例えば前記ルーズら(109)の特許
明細書において鉱、樹枝状層を析出させるために高電流
密度を使用している0樹枝状層が析出した後においては
カプセル封じ層と被覆するために、よシ低い電流密度を
使用している◇処理表面は高電流密度に一回、低電流密
度に一回供されている0この意味において、これらの従
来技術の処理は単サイクル処理である。
を提案している。例えば前記ルーズら(109)の特許
明細書において鉱、樹枝状層を析出させるために高電流
密度を使用している0樹枝状層が析出した後においては
カプセル封じ層と被覆するために、よシ低い電流密度を
使用している◇処理表面は高電流密度に一回、低電流密
度に一回供されている0この意味において、これらの従
来技術の処理は単サイクル処理である。
第一の電流一度において回転ドラム上に銅箔を電着し、
次いで該銅箔上に、それがなおもドラム上にある間に第
二の電流密度を適用して樹枝状構造を形成させるととK
より、処理された金属箔を形成することも先行技術にお
いて公知である。該ドラム上の金属箔に、なお第三の電
流flJR1:適用することにより、上記のような樹枝
状層上にオーバーロッキング層を形成することができる
とiうこともまた公知である。#処理された金属箔の形
成に対する、この種の解決手段がイエイツ(yatea
)に対する米国特許#I3.574.656号明細書
及びパルジミロデナ(Valdimirovna )ら
に対する米tiA特許11N5,799.847号明細
書及び英ffl特許蕗1.543,301号及び同第1
.54EL 550号各明細書に説明されている〇 これらの多段電着工程処理は樹枝状外WjJを有する箔
を提供することができるけれど、それらは各工程間にm
tmな制御及び$1盛を必要とする欠点を有するのであ
る。各工程を注意深く看視する必要があるのみならず、
各工程にお轄る浴組成、電流密度、浴温などのようなプ
ロセス変数を、それぞれの他工程のそれらと慎重に調整
しなければならない。例えば、もし#!2工@において
浴の状態の変る2工程法tIl用するとすれば第一工程
における浴組成及びその他の変数と第二工程の新規な浴
組成との間に綿密なMlkが必要である。これらの制御
及び調整の必要性のために操作が簡単にならない。たと
え、これらの方法を注意蒙く制御したとしても、それら
の複雑性の故に信頼性の問題が1 屡々生ずる0更にその上、電着工程の多様性の故に、よ
り以上の面積及び装置の必要性と、それらに結びつく余
分の費用とが生ずる・ 銅箔処理に対する全操作を簡単にして、基板に対する該
銅箔の結合性を増進しようとするに当って、単段電着工
程を利用して銅箔上に樹枝状層を形成する数種の方法が
開発された。コンレイ(aonle7 )らに対する米
国籍軒第5.220.897号、デハルト(Do Ha
rt )に対する同第3.227.637号、ダーリン
ガー(Dahringer)らに対する同jI&322
.656号、ウォーターバリー(wat@rbury
)に対する同JI3.328,275号、ルース(Lu
oe )らに対する同第3.454.376号、パイラ
ー(Byl・r)らに対する同第3.518.168号
、カールソンに対する同第3,699,018号及びモ
リサキ(Marisaki )に対する同第4,010
,005号ならびにデュポンに対する英国特許第928
.267号の各明細書が上記方法を例示゛している。し
かしながら、これらの方法は、追−処理、浴のかくはん
ならびに使用゛、、1 される電解浴組成、浴温及び電流密度の正確な制 (
Wを菖々必要とする0例えば前記ダーリングの特許明細
書においては、電解的に形成された層を、銅、によシ尚
皺溶液において低溶解度を有する化合物を形成すること
のできるものとして特徴づけられる溶質を含有するsi
iにょp引続いて処理している0鍍溶質の二りの#が結
合性を改良するに癲りて効果的であることがわかった。
次いで該銅箔上に、それがなおもドラム上にある間に第
二の電流密度を適用して樹枝状構造を形成させるととK
より、処理された金属箔を形成することも先行技術にお
いて公知である。該ドラム上の金属箔に、なお第三の電
流flJR1:適用することにより、上記のような樹枝
状層上にオーバーロッキング層を形成することができる
とiうこともまた公知である。#処理された金属箔の形
成に対する、この種の解決手段がイエイツ(yatea
)に対する米国特許#I3.574.656号明細書
及びパルジミロデナ(Valdimirovna )ら
に対する米tiA特許11N5,799.847号明細
書及び英ffl特許蕗1.543,301号及び同第1
.54EL 550号各明細書に説明されている〇 これらの多段電着工程処理は樹枝状外WjJを有する箔
を提供することができるけれど、それらは各工程間にm
tmな制御及び$1盛を必要とする欠点を有するのであ
る。各工程を注意深く看視する必要があるのみならず、
各工程にお轄る浴組成、電流密度、浴温などのようなプ
ロセス変数を、それぞれの他工程のそれらと慎重に調整
しなければならない。例えば、もし#!2工@において
浴の状態の変る2工程法tIl用するとすれば第一工程
における浴組成及びその他の変数と第二工程の新規な浴
組成との間に綿密なMlkが必要である。これらの制御
及び調整の必要性のために操作が簡単にならない。たと
え、これらの方法を注意蒙く制御したとしても、それら
の複雑性の故に信頼性の問題が1 屡々生ずる0更にその上、電着工程の多様性の故に、よ
り以上の面積及び装置の必要性と、それらに結びつく余
分の費用とが生ずる・ 銅箔処理に対する全操作を簡単にして、基板に対する該
銅箔の結合性を増進しようとするに当って、単段電着工
程を利用して銅箔上に樹枝状層を形成する数種の方法が
開発された。コンレイ(aonle7 )らに対する米
国籍軒第5.220.897号、デハルト(Do Ha
rt )に対する同第3.227.637号、ダーリン
ガー(Dahringer)らに対する同jI&322
.656号、ウォーターバリー(wat@rbury
)に対する同JI3.328,275号、ルース(Lu
oe )らに対する同第3.454.376号、パイラ
ー(Byl・r)らに対する同第3.518.168号
、カールソンに対する同第3,699,018号及びモ
リサキ(Marisaki )に対する同第4,010
,005号ならびにデュポンに対する英国特許第928
.267号の各明細書が上記方法を例示゛している。し
かしながら、これらの方法は、追−処理、浴のかくはん
ならびに使用゛、、1 される電解浴組成、浴温及び電流密度の正確な制 (
Wを菖々必要とする0例えば前記ダーリングの特許明細
書においては、電解的に形成された層を、銅、によシ尚
皺溶液において低溶解度を有する化合物を形成すること
のできるものとして特徴づけられる溶質を含有するsi
iにょp引続いて処理している0鍍溶質の二りの#が結
合性を改良するに癲りて効果的であることがわかった。
第一の群は鋼により硫化物、テルル化物又はセレン化物
を形成することのできる化合物より成る。第二の評は銅
によりクロム酸塩、毫すデデン歳塩、タンダステン酸塩
又はバナジン酸塩を形成する仁とので自る化合物の弱酸
性溶液より成る。
を形成することのできる化合物より成る。第二の評は銅
によりクロム酸塩、毫すデデン歳塩、タンダステン酸塩
又はバナジン酸塩を形成する仁とので自る化合物の弱酸
性溶液より成る。
wtI記パイン−らの特許明細書におりては第−鯛シア
ン化物浴を使用して、清浄な銅シートの表面上に鋼の樹
枝状晶(Dendrit・)を電着させている。しかし
ながら、シアン化物浴Stの使用は毒性及び処理上の問
題の故に望ましくない。
ン化物浴を使用して、清浄な銅シートの表面上に鋼の樹
枝状晶(Dendrit・)を電着させている。しかし
ながら、シアン化物浴Stの使用は毒性及び処理上の問
題の故に望ましくない。
基板に対する銅の結合性を改良するためのもう一つの解
決方法は銅の表面にカドオウム又は亜鉛のいずれかのコ
ーティングを直流電気的に施こすことである。この解決
方法はリセンチア(Licenti亀)に対するドイツ
特許公告!11.060,075号明細書に立証されて
いる@銅箔の結合性を改良するための、なおもう一つの
解決方法においては、典駁的に社アルミニウムのような
キャリア物質上に使用するための改良された銅めっき法
を採用する。該方法はキャリア表面の予備処理と、銅及
び硝酸イオン又はフッ素イオンを含有し、単電流密度(
singl@current density)におい
て操作することのてきる酸性めっき浴を使用する銅箔の
電着とよシ成る。この方法はベルダン(Berjan
)らに対する米国特許! 4.169.018号明細書
によp例示されている。
決方法は銅の表面にカドオウム又は亜鉛のいずれかのコ
ーティングを直流電気的に施こすことである。この解決
方法はリセンチア(Licenti亀)に対するドイツ
特許公告!11.060,075号明細書に立証されて
いる@銅箔の結合性を改良するための、なおもう一つの
解決方法においては、典駁的に社アルミニウムのような
キャリア物質上に使用するための改良された銅めっき法
を採用する。該方法はキャリア表面の予備処理と、銅及
び硝酸イオン又はフッ素イオンを含有し、単電流密度(
singl@current density)におい
て操作することのてきる酸性めっき浴を使用する銅箔の
電着とよシ成る。この方法はベルダン(Berjan
)らに対する米国特許! 4.169.018号明細書
によp例示されている。
電着に対して異なった形式の電流波形を使用することも
また先行技術において公知である。
また先行技術において公知である。
1978年米国マグp−ヒルブック社発行のエレクトロ
ゾレイティング(lleotroplating )、
160〜166ページにおいて田−ウエンハイム(Lo
v@nh・im )により、めつ龜電流の数種の形態が
開示されている0一つの形態は周期逆流(p@riod
ia reverse )として知らnている。この場
合、前もって足めた間隔において直流の方向を変えて、
サイクルの一部に対して電着が行われ、もう一方の部分
に対して脱めっきが行われる0電着に較べてより多くの
脱めっきが行われるはど、サイクルの犠牲が益々大きく
なるというべきである。この方式を価値あらしめるため
には、該第における析出−又は若干のその他の変数の特
性を着干改嵐することによって、逆サイクルにより生ず
る全般的効率のロスを補償しなければならない。
ゾレイティング(lleotroplating )、
160〜166ページにおいて田−ウエンハイム(Lo
v@nh・im )により、めつ龜電流の数種の形態が
開示されている0一つの形態は周期逆流(p@riod
ia reverse )として知らnている。この場
合、前もって足めた間隔において直流の方向を変えて、
サイクルの一部に対して電着が行われ、もう一方の部分
に対して脱めっきが行われる0電着に較べてより多くの
脱めっきが行われるはど、サイクルの犠牲が益々大きく
なるというべきである。この方式を価値あらしめるため
には、該第における析出−又は若干のその他の変数の特
性を着干改嵐することによって、逆サイクルにより生ず
る全般的効率のロスを補償しなければならない。
銅めつきのための周期逆電流法の利用に包含される種々
の考慮についての検討がJ、マン(Mann )により
、「トランスアクション オデ ジインスティチェート
オデ メタルフイニシング(Tranaotion
of the工n5titut@of MetalFi
nishing ) J第56巻、1978年、70〜
74ページにおける論文「a性鋼電解液を使用す\す る電気めっきにおける周期逆電流法(P@riodi。
の考慮についての検討がJ、マン(Mann )により
、「トランスアクション オデ ジインスティチェート
オデ メタルフイニシング(Tranaotion
of the工n5titut@of MetalFi
nishing ) J第56巻、1978年、70〜
74ページにおける論文「a性鋼電解液を使用す\す る電気めっきにおける周期逆電流法(P@riodi。
R・マ・r−・0urrent Pro…−1’m’
11eatroplating1・□°: Usingムeta oopper ml・otrol
yt@# ) Jに見出すことができる0 もう一つの形態はパルス電流めっきとして知られている
。パルス電流めっきにおいては電流を成る時間中断する
。これらの時間中に一般的に電流91Kがゼーになる。
11eatroplating1・□°: Usingムeta oopper ml・otrol
yt@# ) Jに見出すことができる0 もう一つの形態はパルス電流めっきとして知られている
。パルス電流めっきにおいては電流を成る時間中断する
。これらの時間中に一般的に電流91Kがゼーになる。
パルス電流による解決手段を使用して銅を電着すること
が先行技術において公知である。スキッンダー) (8
kilanlat )に対すルトイyl’主主義共和F
ijA%l’HII 134,785号明細書、イック
ニージャパックス リナーチ(工noue−JaplL
X R・−march )社に対する英国特許第1.5
29,187号明細書、及び「ゾレイテイング(Pla
ting ) J 1969年8A号、909〜913
ページにおけるV、A、ラム(Lamb )による論文
「iイクロ秒範囲における電流パルスによる電気めつ@
(11・otroplating with 0ur
r@ntPulses in m1crosecona
Rang・)」に鋼の電着に1゜ 対するパルス電竺による解決手Rを説明している@金属
の電気めっきにおけるパルス電流の使用は、主としてめ
っき−において利用できるアンペア数が比較的に低いと
いう理由から未だ全く工業的に 1成功していない
0この欠点を克服するために提案された一つの方法はム
C電線源からの電流の流れを周期DOパルスに変えてぜ
−ファンペア数を増大させる電子切換法を使用すること
である@めつきの析出速度を増加させることができるよ
うに、慣用のDO供給電源を回路に組み入れることもで
きる◎このような回路がスリパン(8ulliマan)
に対する米1iIq#許第3,959.088号明細書
に説明されている。
が先行技術において公知である。スキッンダー) (8
kilanlat )に対すルトイyl’主主義共和F
ijA%l’HII 134,785号明細書、イック
ニージャパックス リナーチ(工noue−JaplL
X R・−march )社に対する英国特許第1.5
29,187号明細書、及び「ゾレイテイング(Pla
ting ) J 1969年8A号、909〜913
ページにおけるV、A、ラム(Lamb )による論文
「iイクロ秒範囲における電流パルスによる電気めつ@
(11・otroplating with 0ur
r@ntPulses in m1crosecona
Rang・)」に鋼の電着に1゜ 対するパルス電竺による解決手Rを説明している@金属
の電気めっきにおけるパルス電流の使用は、主としてめ
っき−において利用できるアンペア数が比較的に低いと
いう理由から未だ全く工業的に 1成功していない
0この欠点を克服するために提案された一つの方法はム
C電線源からの電流の流れを周期DOパルスに変えてぜ
−ファンペア数を増大させる電子切換法を使用すること
である@めつきの析出速度を増加させることができるよ
うに、慣用のDO供給電源を回路に組み入れることもで
きる◎このような回路がスリパン(8ulliマan)
に対する米1iIq#許第3,959.088号明細書
に説明されている。
pa−々ット(8ohmiat )らに対するドイツ民
主主義共和国特許j1112.145号明細書に金属箔
上に樹枝状構造を形成するパルスめっき技術の変形がm
明されている@この変形は金属箔を電解浴に通し、次い
で鍍金肩部を、比較的に低い基底(ba−・)電流密度
上に重ねられた比較的に高い電流密度の複数の電流パル
スに供することよシ成る。該重ねられた高電流密度パル
スはかく糺された層の成長を生じさせ、これは鍍金属部
上にノゾエラー成長構造を発達させる0上記シエ建ツト
らは金属箔t−2〜10パルスに供することを提案して
いる。各パルスに対し金属11tO,1〜10秒の範囲
の時間にわたり高電流密度に供するのでるる0シエ建ツ
トらの方法の欠点の一つは比較的に長いノジエ9−11
1造又は樹枝状構造を生成することである◎ごれらの比
較的に長ill枝状構造は積層工程中に破壊されて基板
の樹脂に封入されて来ることがある0この後者の問題は
先行技術において機械蓋汚染として知られている。シ&
建ットらの方法により生成される比較的に長い樹枝状構
造もまたエツチング可能性及び耐摩耗性に関して負の影
響を有する◇シエ建ットらの方法により生成される樹枝
状構造は基板材料内に雛く伸びて、長いエツチング時間
と、エツチング寸法安定性を低下させる強いアンダーカ
ットをもたらす。
主主義共和国特許j1112.145号明細書に金属箔
上に樹枝状構造を形成するパルスめっき技術の変形がm
明されている@この変形は金属箔を電解浴に通し、次い
で鍍金肩部を、比較的に低い基底(ba−・)電流密度
上に重ねられた比較的に高い電流密度の複数の電流パル
スに供することよシ成る。該重ねられた高電流密度パル
スはかく糺された層の成長を生じさせ、これは鍍金属部
上にノゾエラー成長構造を発達させる0上記シエ建ツト
らは金属箔t−2〜10パルスに供することを提案して
いる。各パルスに対し金属11tO,1〜10秒の範囲
の時間にわたり高電流密度に供するのでるる0シエ建ツ
トらの方法の欠点の一つは比較的に長いノジエ9−11
1造又は樹枝状構造を生成することである◎ごれらの比
較的に長ill枝状構造は積層工程中に破壊されて基板
の樹脂に封入されて来ることがある0この後者の問題は
先行技術において機械蓋汚染として知られている。シ&
建ットらの方法により生成される比較的に長い樹枝状構
造もまたエツチング可能性及び耐摩耗性に関して負の影
響を有する◇シエ建ットらの方法により生成される樹枝
状構造は基板材料内に雛く伸びて、長いエツチング時間
と、エツチング寸法安定性を低下させる強いアンダーカ
ットをもたらす。
本明細書に記−する発明は金属を処理して、その基板、
%に非金属基板に対する接着能力ttM化する丸めの単
工楊の′IIE気化学的方法及びそのW&置を包含する
。本発明方法により逃埋された金属は金J!IK表面上
に、より良好に411成された樹枝状晶を形成する結果
として優れた耐応力性及び耐摩耗性、ならびK例えば耐
機械的汚染性と改良された剥−強さと粉末移@ (po
wder tranf・r>qtt性とを示す。更に本
明細書に記載の方法は従来技術の実際よりも、より一層
迅速により好都合に、かつより少いエネルイー消費量に
より達成することができる。
%に非金属基板に対する接着能力ttM化する丸めの単
工楊の′IIE気化学的方法及びそのW&置を包含する
。本発明方法により逃埋された金属は金J!IK表面上
に、より良好に411成された樹枝状晶を形成する結果
として優れた耐応力性及び耐摩耗性、ならびK例えば耐
機械的汚染性と改良された剥−強さと粉末移@ (po
wder tranf・r>qtt性とを示す。更に本
明細書に記載の方法は従来技術の実際よりも、より一層
迅速により好都合に、かつより少いエネルイー消費量に
より達成することができる。
本1ljljlIalFK紀−の発明によれば、鋼シー
ト又はl11w11に!A理して、該シート又は箔な非
金属基板に!4−に結合させる接着性の、ノジュール化
された又は樹枝状の置市構造を生成するための電気化学
、IN″″・ 的方法及び装置は、多サイクル変動電流を使用し、単−
作において樹枝状表面構造な形成すると同時に該構造を
その下にある鋼シーF又は鋼箔に結合させる。該変動電
流は、好ましくは一方向にの入流れ、しかも規則的に反
復するパルスと、それぞれがゼロよりも大きなtt舊す
る第−及び第二の屯流密度を持つS極部分とを肩する。
ト又はl11w11に!A理して、該シート又は箔な非
金属基板に!4−に結合させる接着性の、ノジュール化
された又は樹枝状の置市構造を生成するための電気化学
、IN″″・ 的方法及び装置は、多サイクル変動電流を使用し、単−
作において樹枝状表面構造な形成すると同時に該構造を
その下にある鋼シーF又は鋼箔に結合させる。該変動電
流は、好ましくは一方向にの入流れ、しかも規則的に反
復するパルスと、それぞれがゼロよりも大きなtt舊す
る第−及び第二の屯流密度を持つS極部分とを肩する。
更に詳しくは、tIIc酸鋼−tit酸溶液より成る電
解浴がIE″A化学1に保持されている。核種は陽極と
111極と′48I:vする。該陰極は鋼シート又は鋼
箔より成り、その上に樹枝状晶が析出されている。電流
は定電流源と関数発生器(function gene
rator )又は定電圧源と関数発生器のいずれかに
より槽を横切って通される。通す電流は方形i形、三角
波形、正弦波形などのような好適な波形を有することが
好ましい。通された電流が、銅シート又は鋼箔に析出し
、かつ結合すべき鋼粒子のクラスター(oluater
) ’11生ずる。これらの鋼粒子のクラスターは樹
枝状晶誉形成する。一般的にそれら樹枝、、、、。
解浴がIE″A化学1に保持されている。核種は陽極と
111極と′48I:vする。該陰極は鋼シート又は鋼
箔より成り、その上に樹枝状晶が析出されている。電流
は定電流源と関数発生器(function gene
rator )又は定電圧源と関数発生器のいずれかに
より槽を横切って通される。通す電流は方形i形、三角
波形、正弦波形などのような好適な波形を有することが
好ましい。通された電流が、銅シート又は鋼箔に析出し
、かつ結合すべき鋼粒子のクラスター(oluater
) ’11生ずる。これらの鋼粒子のクラスターは樹
枝状晶誉形成する。一般的にそれら樹枝、、、、。
状晶は非常に好ましい比較的に倣細な構造を有する。こ
の比較−“二″・)、微細な樹枝状構造は最初の電流パ
ルス中における多数の核生成部位の開始と、も I
う一つの゛鴫流パルスが存在する各回における樹枝状構
造の核再生成との結果であると思われる。更に、咳粛枝
状!iil造を比較酌量時間にわたり限界−rItv!
j度以上の4一度に供しないことKより、望ましくない
柱状構造が回避される。本発明によう綱シート及び鋼箔
を処理し喪後、該シート又は箔な非金属基板に積層して
1例えばプリント配麿用槓層物に形成することができる
。
の比較−“二″・)、微細な樹枝状構造は最初の電流パ
ルス中における多数の核生成部位の開始と、も I
う一つの゛鴫流パルスが存在する各回における樹枝状構
造の核再生成との結果であると思われる。更に、咳粛枝
状!iil造を比較酌量時間にわたり限界−rItv!
j度以上の4一度に供しないことKより、望ましくない
柱状構造が回避される。本発明によう綱シート及び鋼箔
を処理し喪後、該シート又は箔な非金属基板に積層して
1例えばプリント配麿用槓層物に形成することができる
。
本発明のより一層効果的で、かつ簡単な方法及び装置1
kie用することにより、大きな、すなわち従来技術の
処理により典型的に生産されたものよりも大きな剥11
11IJlさな有する積層物な形成することができるこ
と・がわかった。剥離強さとは消と非金属基板との閏の
結合の強さな表わすために慣用的に使用される用−であ
る。
kie用することにより、大きな、すなわち従来技術の
処理により典型的に生産されたものよりも大きな剥11
11IJlさな有する積層物な形成することができるこ
と・がわかった。剥離強さとは消と非金属基板との閏の
結合の強さな表わすために慣用的に使用される用−であ
る。
したがって本発明の目的は、金属シート又は金JI4箔
を処理する丸めの改良され喪方法及び装置を提供するこ
とである。
を処理する丸めの改良され喪方法及び装置を提供するこ
とである。
本発明のもう一つの目的は、非金属基板に接着するシー
ト又は箔の能力を強化し喪上記の改良された方法及び装
置′を提供することである。
ト又は箔の能力を強化し喪上記の改良された方法及び装
置′を提供することである。
本発明のなおもう一つの目的はシート又は箔を、より迅
速に、より便宜に、かつより少いエネルイー消gRt以
って処理する上記改良された方法及びm*t−提供する
ことである。
速に、より便宜に、かつより少いエネルイー消gRt以
って処理する上記改良された方法及びm*t−提供する
ことである。
本発明の更にもう一つの目的は、単段゛−気化学工橿な
使用して樹枝状tmを形成し、それを金属シート又は金
属箔に結合させる上記改良された方法及び装置ft−提
供することである。
使用して樹枝状tmを形成し、それを金属シート又は金
属箔に結合させる上記改良された方法及び装置ft−提
供することである。
本発明の更にもう一つの目的は、金属シート又は金ai
i上に比較的に微細な樹枝状構造を形成し、それKより
該シート及び箔に対し改良された剥−彌さ、耐摩耗性及
び耐機械的汚染性を与える上記改良された方法及び装置
を提供することである。
i上に比較的に微細な樹枝状構造を形成し、それKより
該シート及び箔に対し改良された剥−彌さ、耐摩耗性及
び耐機械的汚染性を与える上記改良された方法及び装置
を提供することである。
本゛発明のこれらの、及びその他の目的を下記の記載及
び図面により明らかにする。
び図面により明らかにする。
本発明により金属シート又は金属箔を電解的に処理して
基板、特に非金属基板に対する接着能力を高めるための
方法及び装置が提供される。本発明の方法及び装置は多
種の金属又は合金に応用することができるけれど、鋼又
は調合金製のシート又は箔の処理に対して臀に有用であ
る。本発明の方法及び装置の使用により、轡にプリント
配線用に好適な尚剥Ill!IIさを有する積層物を完
成することができる。
基板、特に非金属基板に対する接着能力を高めるための
方法及び装置が提供される。本発明の方法及び装置は多
種の金属又は合金に応用することができるけれど、鋼又
は調合金製のシート又は箔の処理に対して臀に有用であ
る。本発明の方法及び装置の使用により、轡にプリント
配線用に好適な尚剥Ill!IIさを有する積層物を完
成することができる。
第1図において、本発明の装置は、陽極12.1Ili
極14及び電解浴溶液18t−有する電解槽10を包含
する。陽極12及び陰極14は、所望の波形を有する゛
電流を通す丸めに系ISK接続されている。
極14及び電解浴溶液18t−有する電解槽10を包含
する。陽極12及び陰極14は、所望の波形を有する゛
電流を通す丸めに系ISK接続されている。
陰極14は、上面に鋼粒子の樹枝状晶を析出させるべき
シート又は箔から成る。該シート又は箔は非常に薄く、
かつ好ましくはプリント配線級の鋼より成る。該シート
又は箔は図示省略の機械的ドラA (meahania
aldrum ) )C対し尚業界に周知の方法におい
て保持させることができ、かつ当業界に公知である図示
省略の任意の慣用のけん引機構(pulling m@
ahaniam )に□;より溶液を通してけ□ ん引することができる。練機、、械的ドラムは咳溶液、
、1・□、 を通しての該シート又は箔のけん引を助ける。該シート
又は箔は該機械的ドラムから電気的に絶縁し、しかも該
ドラムに結合させないことが好ましい。tx+IA械的
ドラム及びけん引機構の代りに、該シート又は箔をアル
iニウム、鋼、鉄、ニッケル又はその他の任意の好適な
導電性金属のストリップのような一時的の支持体に取り
つけて1図示省略の任意の適当な慣用手段により溶液1
6に浸漬することができる。最後に、樹枝状層が析出し
た後、該シート又は箔を該支持体から取り除く。シート
又は箔の両面の処理が望ましい場合には該シート又は箔
自体を支持体やドラムなどのような支持構造物なしに浴
溶液に浸漬することができる。
シート又は箔から成る。該シート又は箔は非常に薄く、
かつ好ましくはプリント配線級の鋼より成る。該シート
又は箔は図示省略の機械的ドラA (meahania
aldrum ) )C対し尚業界に周知の方法におい
て保持させることができ、かつ当業界に公知である図示
省略の任意の慣用のけん引機構(pulling m@
ahaniam )に□;より溶液を通してけ□ ん引することができる。練機、、械的ドラムは咳溶液、
、1・□、 を通しての該シート又は箔のけん引を助ける。該シート
又は箔は該機械的ドラムから電気的に絶縁し、しかも該
ドラムに結合させないことが好ましい。tx+IA械的
ドラム及びけん引機構の代りに、該シート又は箔をアル
iニウム、鋼、鉄、ニッケル又はその他の任意の好適な
導電性金属のストリップのような一時的の支持体に取り
つけて1図示省略の任意の適当な慣用手段により溶液1
6に浸漬することができる。最後に、樹枝状層が析出し
た後、該シート又は箔を該支持体から取り除く。シート
又は箔の両面の処理が望ましい場合には該シート又は箔
自体を支持体やドラムなどのような支持構造物なしに浴
溶液に浸漬することができる。
任意の好適な導電性金属′4I:11I極12に使用す
ることができる。好ましくは陽1m12は鉛もしくは白
金のいずれか、又はそれらの合金から成る。陽極12は
陰極1′番から適尚な距離だけ離す。
ることができる。好ましくは陽1m12は鉛もしくは白
金のいずれか、又はそれらの合金から成る。陽極12は
陰極1′番から適尚な距離だけ離す。
電解浴溶液1′6は@を含有する溶液より成る。
好ましい実施態”様においては硫酸鋼−硫酸溶液を使用
する。該門蝋は実質的に室温か又はわずかに高められた
温度痴のいずれかに保つことが好まし 1い・実質的
に室温に保九れる場合には誼溶液は好ま軸しくは約10
11/iから室温における飽和濃度である約60.11
/−11までの、Ii鐵鋼の形層における銅濃度t−有
する。鋼一度約10I/J以下においては本角明方法V
遍切に行うためには電流密度が低過ぎる。飽和点以上に
おいては硫酸鋼が沈殿し、@がそれ以上溶液中に入るこ
とが実質上不可能になる。好ましい実施一様においては
、室温における溶液16中のl1l一度は約1511/
Jj〜約40I/ぷの範囲にある。
する。該門蝋は実質的に室温か又はわずかに高められた
温度痴のいずれかに保つことが好まし 1い・実質的
に室温に保九れる場合には誼溶液は好ま軸しくは約10
11/iから室温における飽和濃度である約60.11
/−11までの、Ii鐵鋼の形層における銅濃度t−有
する。鋼一度約10I/J以下においては本角明方法V
遍切に行うためには電流密度が低過ぎる。飽和点以上に
おいては硫酸鋼が沈殿し、@がそれ以上溶液中に入るこ
とが実質上不可能になる。好ましい実施一様においては
、室温における溶液16中のl1l一度は約1511/
Jj〜約40I/ぷの範囲にある。
溶液16中の硫酸は、tII4が硫酸鋼として沈殿する
ような一度までの一度を有することができる。
ような一度までの一度を有することができる。
好ましい実施態様においては硫酸の濃度は、実質上室温
における溶液に対して約1011/J〜約10(Hl、
、’Jである。
における溶液に対して約1011/J〜約10(Hl、
、’Jである。
鋼及び硫酸の濃度は浴溶液の温度に関係することを1g
l1lIすべきである。所望により、電解槽10は咳浴
溶液の温度を所望の水準に保つために、当業界に公知の
ように、図示省略の任意の周知の慣用手段を備えること
ができる。溶液16が室温以外の温度に保九れている場
合には上記に論じ木調及びtitIIIの一度を調整す
ることができる。高められた温度においては、溶解度の
限界が温度と共に増加するにつれて鋼一度を比較的に高
くすることができる。
l1lIすべきである。所望により、電解槽10は咳浴
溶液の温度を所望の水準に保つために、当業界に公知の
ように、図示省略の任意の周知の慣用手段を備えること
ができる。溶液16が室温以外の温度に保九れている場
合には上記に論じ木調及びtitIIIの一度を調整す
ることができる。高められた温度においては、溶解度の
限界が温度と共に増加するにつれて鋼一度を比較的に高
くすることができる。
g流供給系15は好ましくは定eL−a電流源18と関
数発生器20と!包含する。関数発生器20は電解JI
Gに通される電流に所望の波形を与える。電解41Gに
通す電流は、それぞれがゼロよりも大きな大きさの、第
−及び第二の電流密度を持った陰極性部分を有する、し
かも一方向にの入流れる、中断されない、多サイクルの
変動電流であることが好ましい。第2〜4図に示すよう
に、適用電流は非ゼロの基底陰極性電流であり、この場
合第二の電流密度もま九基底電流密度である。
数発生器20と!包含する。関数発生器20は電解JI
Gに通される電流に所望の波形を与える。電解41Gに
通す電流は、それぞれがゼロよりも大きな大きさの、第
−及び第二の電流密度を持った陰極性部分を有する、し
かも一方向にの入流れる、中断されない、多サイクルの
変動電流であることが好ましい。第2〜4図に示すよう
に、適用電流は非ゼロの基底陰極性電流であり、この場
合第二の電流密度もま九基底電流密度である。
第2図に示す方形波形、第3図に示す三角波形。
及びfs4図に示す正弦波形のような任意の好適な波形
を、それがゼロよりも大きな大きさの画一及び第二の電
流密度を持つ九砿極性部分を有する限り使用することが
できる。定電流源1B及び関数発生器20は、それぞれ
当業界に公知の任意の慣用の足′Ittlt源及び関数
発生器から成ることができる。
を、それがゼロよりも大きな大きさの画一及び第二の電
流密度を持つ九砿極性部分を有する限り使用することが
できる。定電流源1B及び関数発生器20は、それぞれ
当業界に公知の任意の慣用の足′Ittlt源及び関数
発生器から成ることができる。
@屏槽let’横切って通される電流は、該電流の各サ
イクル中Km−期閣t1に対する第一の大きさと、S二
期関1.に対する第二の大きさとを有する電流密度の陰
極性部分を有することが好ましい。この通される電流は
、好ましくは一方向にのλ流れ、そのため線域気化学的
処理中には電着の入が行われる。
イクル中Km−期閣t1に対する第一の大きさと、S二
期関1.に対する第二の大きさとを有する電流密度の陰
極性部分を有することが好ましい。この通される電流は
、好ましくは一方向にのλ流れ、そのため線域気化学的
処理中には電着の入が行われる。
所望の樹枝状層を生成するKl!する電流密度は浴溶液
16の一度及び操作温度による。電流密度の第一の大き
さは限界電流密度の大きさ以上であるべきであり、−万
において電流密度の第二の大きさは好ましくは限界電流
密度の大t!iさ以下である。咳限界電流密度は、この
場合は鋼イオンである排出し得る金属種が金属箔又は金
属シートの表面において実質上消耗しつくされる最大電
流密度として定義することができる。lll液温度が上
昇す・、′・I゛ れば1本発明方法に採用される電流密度は、それにした
がって上げねばならない。もし銅濃度が低下し、又はg
llll一度が増加すれば、必要な電流密度は低下す令
。
16の一度及び操作温度による。電流密度の第一の大き
さは限界電流密度の大きさ以上であるべきであり、−万
において電流密度の第二の大きさは好ましくは限界電流
密度の大t!iさ以下である。咳限界電流密度は、この
場合は鋼イオンである排出し得る金属種が金属箔又は金
属シートの表面において実質上消耗しつくされる最大電
流密度として定義することができる。lll液温度が上
昇す・、′・I゛ れば1本発明方法に採用される電流密度は、それにした
がって上げねばならない。もし銅濃度が低下し、又はg
llll一度が増加すれば、必要な電流密度は低下す令
。
上記に論じた鋼及び硫酸の濃度t−有する、実質上層温
における浴溶液に対して電流は約55〜約55011A
/am”の大きさの第一の電流密度と約5〜約5QM
/dの大きさの第二の電流密度を持りm極性部分を有す
る。好ましい実施態様においては該電流は約150〜約
3 Q Q mh 7cm”の第一の電流密度と約10
〜約4 OfllAΔがの第二の電流密度とを持つ。第
一の電流密度において、溶液からの鋼粒子が陰極表面上
に析出し【樹枝状層を形成する。第二の電流密度におい
て、該樹枝状晶が鋼箔又は鋼シートの表面に接着される
。本発明方法の実施において、電流の多数のサイクル中
に樹枝状晶が鋼シート又は鋼箔の表面上に析出され、次
いで咳鋼シー鼾又は鋼箔上に接着される。
における浴溶液に対して電流は約55〜約55011A
/am”の大きさの第一の電流密度と約5〜約5QM
/dの大きさの第二の電流密度を持りm極性部分を有す
る。好ましい実施態様においては該電流は約150〜約
3 Q Q mh 7cm”の第一の電流密度と約10
〜約4 OfllAΔがの第二の電流密度とを持つ。第
一の電流密度において、溶液からの鋼粒子が陰極表面上
に析出し【樹枝状層を形成する。第二の電流密度におい
て、該樹枝状晶が鋼箔又は鋼シートの表面に接着される
。本発明方法の実施において、電流の多数のサイクル中
に樹枝状晶が鋼シート又は鋼箔の表面上に析出され、次
いで咳鋼シー鼾又は鋼箔上に接着される。
基板に積層すさき鋼シート又は鋼箔の表面上に・:)
w41;E子の樹枝状層、11を析出させることにより
、該表□・1 面が更に容易に基板に接着し得るようになる。このこと
は、樹枝状層を形成する粒子が、高度に不規則な、こぶ
状突起により特徴づけられ、該突起が旙出餞lj横を増
加させ【、それにより接着性を改良するの入ならず、*
*の機械的性質11−強化するからである。
゛ 一流は所望の周波数において、かつ所望の、析出時間と
して知られる時間にわたって鴫解櫂10に通すことが好
ましい。電流の周波dKより、−シート又は鋼箔が所定
時間にわ九って供されるパルス赦が定まる。この場合も
また周波数及び析出時間の両方とも溶液16における−
及び硫酸の濃度ならびK11液16の温度に関係すると
とに注目すべきである。使用する電流の周波数は樹枝状
晶の形成及び結合の両方に対して十分であるべきである
が、適用される電流が実質的に直線状のDC電流となる
ように高くすべきでない。実質的に3i1温における前
記t11酸鋼−−酸溶液に対しては、周波数は約1〜約
10t000ag、好ましくは約4〜約1000Hff
i、蛾も好ましくは約12〜約30.0HI!である。
、該表□・1 面が更に容易に基板に接着し得るようになる。このこと
は、樹枝状層を形成する粒子が、高度に不規則な、こぶ
状突起により特徴づけられ、該突起が旙出餞lj横を増
加させ【、それにより接着性を改良するの入ならず、*
*の機械的性質11−強化するからである。
゛ 一流は所望の周波数において、かつ所望の、析出時間と
して知られる時間にわたって鴫解櫂10に通すことが好
ましい。電流の周波dKより、−シート又は鋼箔が所定
時間にわ九って供されるパルス赦が定まる。この場合も
また周波数及び析出時間の両方とも溶液16における−
及び硫酸の濃度ならびK11液16の温度に関係すると
とに注目すべきである。使用する電流の周波数は樹枝状
晶の形成及び結合の両方に対して十分であるべきである
が、適用される電流が実質的に直線状のDC電流となる
ように高くすべきでない。実質的に3i1温における前
記t11酸鋼−−酸溶液に対しては、周波数は約1〜約
10t000ag、好ましくは約4〜約1000Hff
i、蛾も好ましくは約12〜約30.0HI!である。
析出時間は溶液の一度及び温度KIIl係すると同様に
一流密度の大きさに関係する。電流密度が低下すればす
るほど、所望の樹枝状構造を形成するのに十分な@を箔
又はシート上に析出するのに、より多くの時間を要する
。該析出時間は、不十分な鋼が析出する析出時間よりも
長く、シかし過量の鋼が析出し、かつこわれ易い長い樹
枝状晶が生成する析出時間よりも短かくすべきである。
一流密度の大きさに関係する。電流密度が低下すればす
るほど、所望の樹枝状構造を形成するのに十分な@を箔
又はシート上に析出するのに、より多くの時間を要する
。該析出時間は、不十分な鋼が析出する析出時間よりも
長く、シかし過量の鋼が析出し、かつこわれ易い長い樹
枝状晶が生成する析出時間よりも短かくすべきである。
実質上冨温における前記溶液濃度、及び前記範囲の電流
一度に対して、析出時間は約2〜約60秒、好ましくは
約5〜約60秒でおるべきである。
一度に対して、析出時間は約2〜約60秒、好ましくは
約5〜約60秒でおるべきである。
本発明を実施するに当って、該シート又は箔を比較的短
時間にわたって第一の大きさの電流そ度に供することが
望ましい。箔が第一の、又はより^い電流密度に供され
る時間11は約0.125秒以下、好ましくは約0.1
秒以下であるべきである。
時間にわたって第一の大きさの電流そ度に供することが
望ましい。箔が第一の、又はより^い電流密度に供され
る時間11は約0.125秒以下、好ましくは約0.1
秒以下であるべきである。
優れた耐摩耗性及び耐応力性、剥離強さ、及び紛禾移I
Ibt!#性を有する処理された金属箔な製造する丸め
には第一の電流密度における時間11及び電流の周波数
に対して1界性が存在すると思われる。
Ibt!#性を有する処理された金属箔な製造する丸め
には第一の電流密度における時間11及び電流の周波数
に対して1界性が存在すると思われる。
最も好ましい実施′!IIA様において、萬−の電流密
度における時間tlは約0.04秒以下であるべきであ
る。該シート又は箔が供されるサイ゛クル又はパルスの
畝は10パルス以上、例えば11パルス又はそれ以上で
あるべきである。好ましくは該シート又は箔は少くとも
25パルスに供する。この方法により樹枝状構造を形成
することによって望ましくない柱状構造を回避すること
ができ、しかも微細構造を生成させることができる。こ
の解決方法を採用することにより、より多くの核生成部
分が蛾初に生ずること、及び7ぐルスが存在する度に樹
枝状晶が再核生成することが考えられる。
度における時間tlは約0.04秒以下であるべきであ
る。該シート又は箔が供されるサイ゛クル又はパルスの
畝は10パルス以上、例えば11パルス又はそれ以上で
あるべきである。好ましくは該シート又は箔は少くとも
25パルスに供する。この方法により樹枝状構造を形成
することによって望ましくない柱状構造を回避すること
ができ、しかも微細構造を生成させることができる。こ
の解決方法を採用することにより、より多くの核生成部
分が蛾初に生ずること、及び7ぐルスが存在する度に樹
枝状晶が再核生成することが考えられる。
第1図の電流供給系統150代りに電圧制御系統を使用
して金属箔表面上に多種の樹枝状晶を好適に析出させる
ことができる。好適な電圧制御系統26を第5図に示す
。電圧制御系統25は定電圧源28及び@l!L発生器
30誉包含する。関数発□)□ 生!1)30は所望の波形を有する電圧を供給するため
に使用する。使用される一琵波形は、規則的な反復パル
スと所望の周波数と、ゼロよりも大きい第一の大きさの
第一の電流密度及び該第−の大きさよりも小さいけれど
ぜ口よりも大きな第二〇大ささの第二の電流饗度を有す
る陰極性部分とを持、・つ波形の電fL′4I:発生す
ることができるべきである。
して金属箔表面上に多種の樹枝状晶を好適に析出させる
ことができる。好適な電圧制御系統26を第5図に示す
。電圧制御系統25は定電圧源28及び@l!L発生器
30誉包含する。関数発□)□ 生!1)30は所望の波形を有する電圧を供給するため
に使用する。使用される一琵波形は、規則的な反復パル
スと所望の周波数と、ゼロよりも大きい第一の大きさの
第一の電流密度及び該第−の大きさよりも小さいけれど
ぜ口よりも大きな第二〇大ささの第二の電流饗度を有す
る陰極性部分とを持、・つ波形の電fL′4I:発生す
ることができるべきである。
さきに論じたよりな膳様で電圧及び電流を電′S橿10
’に供給する。を解櫂10’はさきに記載したもののよ
うに#極12、陰極14及び浴溶液16を一有する。
’に供給する。を解櫂10’はさきに記載したもののよ
うに#極12、陰極14及び浴溶液16を一有する。
1ts槽1 G’に加えられる電圧は方形波形、三角波
形、正弦波形などのような任意の好適な波形を有するこ
とができる。定電圧源28及び関数発生器30は当業界
に公知のもののような任意の慣用の定電圧源及び関数発
生器より成ることができる。
形、正弦波形などのような任意の好適な波形を有するこ
とができる。定電圧源28及び関数発生器30は当業界
に公知のもののような任意の慣用の定電圧源及び関数発
生器より成ることができる。
電圧制御系統25は電流供給系統15と実質的に同様な
結果を得木。
結果を得木。
金属シート又は金属箔を、基板に対するその接着能力を
強化するために処理する方法は、陽極及1 び鋼含有Its浴婢液を有する電解槽に、処理すべき金
属シート又’a”$ 144を入れることを包含する。
強化するために処理する方法は、陽極及1 び鋼含有Its浴婢液を有する電解槽に、処理すべき金
属シート又’a”$ 144を入れることを包含する。
該シート又は箔は一解槽用陰極を構成する。ゼロ
1よりも大きな大きさと規則的に反復するパルスによる
波形とをそなえた第−及び第二の一流密度なMし、陰極
性部分を持つ非中断の多サイクル変−m流を、111!
IIs槽を横切って、好ましくは一方向にの入通す。該
変# ′IIE fiは浴溶液からの鋼t−シート又は
鋼箔の少くとも一つの表面上に析出させるのに十分な時
間にわたって通す。該析出した鋼は該シート又は箔の表
面上に!IIImK#i!f合し九多樵の樹枝状晶の形
m1kvt、ている。好ましくは咳樹枝状晶は一端にお
いて比較的に大きな、こぶ状突起な有する。電着処理が
完了し九後、該処理された鋼シート又は鋼箔1に取り出
して、適当□な液体、例えば水で洗浄する。
1よりも大きな大きさと規則的に反復するパルスによる
波形とをそなえた第−及び第二の一流密度なMし、陰極
性部分を持つ非中断の多サイクル変−m流を、111!
IIs槽を横切って、好ましくは一方向にの入通す。該
変# ′IIE fiは浴溶液からの鋼t−シート又は
鋼箔の少くとも一つの表面上に析出させるのに十分な時
間にわたって通す。該析出した鋼は該シート又は箔の表
面上に!IIImK#i!f合し九多樵の樹枝状晶の形
m1kvt、ている。好ましくは咳樹枝状晶は一端にお
いて比較的に大きな、こぶ状突起な有する。電着処理が
完了し九後、該処理された鋼シート又は鋼箔1に取り出
して、適当□な液体、例えば水で洗浄する。
処理されたシート又は箔は、加圧及び加熱処理のような
任意の周知結合方法を使用して基板に積層することがで
きる。箔又はシートを結合すべき基板は、該積層に予期
される用途及びこのような積層物□が使用されるであろ
う使用条件によって変わる。プリント配縁形成用の積層
物に適合する、時に適切な基板は工Iキシ禰脂含浸ファ
イバーグラス支持体、′エポキシ含浸紙、フェノールi
mm含浸紙などt包含する。該基板はまた、ポリテトラ
フルオロエチレン含浸ファイバーグラス、フルメロカー
ざン含浸ファイバーグラス、マイラー(Mylar )
々どのような、九わ入性及び非たわみ性の両方の支持体
より成ることもできる。その他のたわ入性基板としては
、記号カゾーン([aptOn)のもとに知られるデュ
ポン社製のもののようなポリイミドな包含する。
任意の周知結合方法を使用して基板に積層することがで
きる。箔又はシートを結合すべき基板は、該積層に予期
される用途及びこのような積層物□が使用されるであろ
う使用条件によって変わる。プリント配縁形成用の積層
物に適合する、時に適切な基板は工Iキシ禰脂含浸ファ
イバーグラス支持体、′エポキシ含浸紙、フェノールi
mm含浸紙などt包含する。該基板はまた、ポリテトラ
フルオロエチレン含浸ファイバーグラス、フルメロカー
ざン含浸ファイバーグラス、マイラー(Mylar )
々どのような、九わ入性及び非たわみ性の両方の支持体
より成ることもできる。その他のたわ入性基板としては
、記号カゾーン([aptOn)のもとに知られるデュ
ポン社製のもののようなポリイミドな包含する。
加圧及び加熱処理を使用して該処理されたシート又はf
IAを基板に結合させると、゛線圧力及び熱により基板
物質又は基板コーティングが、樹枝状晶により形成され
た空間に流入し、それにより結合の強さが改良される。
IAを基板に結合させると、゛線圧力及び熱により基板
物質又は基板コーティングが、樹枝状晶により形成され
た空間に流入し、それにより結合の強さが改良される。
□
所望により亜鉛、黄銅、ニッケル又は任意のその他の適
当な物質の層を樹枝状晶上に形成して、mを成る種の基
板材料に結合させることに゛関連する問題を排除するこ
とができる。この層を樹枝状層に被覆するためには、任
意の周知の慣用の装置及び方法を使用することができる
。
当な物質の層を樹枝状晶上に形成して、mを成る種の基
板材料に結合させることに゛関連する問題を排除するこ
とができる。この層を樹枝状層に被覆するためには、任
意の周知の慣用の装置及び方法を使用することができる
。
本発明が更に十分に埋−され得るように下記の実施例を
説明のために示す。
説明のために示す。
実施例I
硫酸鋼としての#20#/−#及び硫酸4511/−1
1を含有する’4 s# #液t−調製し丸。2オンス
/平方フートの那工されたC110001111m’に
’銅極として使用し友。電解槽には陰極から約1インチ
−して白*陽極を設は九。#I2−に示すような方形波
形を有し、かつ周波iIt102oHgI(ヘルツ)を
イする変mIt流を電解槽を横切って通した。威変−電
流は、4.9 X 10−’秒の第一の期間にわたる第
一の電流密度200 ff1A / am”と′第一の
期間に等しい第二の期間にわたる25 mA / ty
m”の第二の゛−電流密度を持つ陽極性部分を有した。
1を含有する’4 s# #液t−調製し丸。2オンス
/平方フートの那工されたC110001111m’に
’銅極として使用し友。電解槽には陰極から約1インチ
−して白*陽極を設は九。#I2−に示すような方形波
形を有し、かつ周波iIt102oHgI(ヘルツ)を
イする変mIt流を電解槽を横切って通した。威変−電
流は、4.9 X 10−’秒の第一の期間にわたる第
一の電流密度200 ff1A / am”と′第一の
期間に等しい第二の期間にわたる25 mA / ty
m”の第二の゛−電流密度を持つ陽極性部分を有した。
析出時間は20秒であった。処理後に電解槽からIII
箔を取り出して洗浄した。
箔を取り出して洗浄した。
+。
次いで通常に容−され九手願にしたがい鍍鋼箔11
を、エポキシ樹脂により含浸されたファイバーブ、′:
: ラスに対し、加熱及び加圧下に積層させて規格□゛□パ
、。
: ラスに対し、加熱及び加圧下に積層させて規格□゛□パ
、。
PR−4の剛性のシリンドr!I!、纏積層物な形成し
え。
え。
連絡及び包装協会電子回路標準試験法(InstiCu
t・for 工nteroonn@oting an(
l PaOklLging ]1110trOni0C
1rcuit Te5t、・u@5hda)2.4.8
K ヨッテ、こend層吻0剥IIIIIj1さt−
一定し、12〜13ボンド/インチに等しいことがわか
った。
t・for 工nteroonn@oting an(
l PaOklLging ]1110trOni0C
1rcuit Te5t、・u@5hda)2.4.8
K ヨッテ、こend層吻0剥IIIIIj1さt−
一定し、12〜13ボンド/インチに等しいことがわか
った。
夷厖例厘
変1lbl流が4 Hgの周波aを有し九点を除いて前
記実施例Iに開示した処理と同一の処理な行つ九。剥離
強さの値8〜10ボンド/インチが得られた。
記実施例Iに開示した処理と同一の処理な行つ九。剥離
強さの値8〜10ボンド/インチが得られた。
実施例I
前記実施例Iに開示の処理と同一の処理を1周波数10
20 Hg及び41(zにおいて析出時間10秒間にわ
たって行った。それぞれ8ボンド/インチ及び6ボンド
/インチの剥離強さが得られた。
20 Hg及び41(zにおいて析出時間10秒間にわ
たって行った。それぞれ8ボンド/インチ及び6ボンド
/インチの剥離強さが得られた。
実施例■
前記実施例Iの方形波形に対し、′s6図及び第4図に
示されるもやのような三角波形及び正弦波形を置き換え
た。、1.、轡?の操作は前記実施例Iの操作と同一で
あった。これらの波形に対して剥離強 1さは一般
的に前記実施例!及びIにおいて得られ九ものよりも低
かった。
示されるもやのような三角波形及び正弦波形を置き換え
た。、1.、轡?の操作は前記実施例Iの操作と同一で
あった。これらの波形に対して剥離強 1さは一般
的に前記実施例!及びIにおいて得られ九ものよりも低
かった。
したがって上記実適例のすべてが、例えばプリン)I!
l!−用K11層し九場合に良好な剥−漠さを舊する綱
シート又は鯛mt’*供する。基板に対する威シート又
は盾の績看性を改良する九めに、好ましくは規則的に反
復するパルスをそなえた波形を有し、かつ一方向にの入
流れる、中断されない多サイクルの変動電流により操作
される単工根の電層法を使用して、11$1シート又は
鋼箔上に一枝状層を被覆するのである。本発明方法は樹
枝状晶の形成と箔表面への該樹枝状晶の結合とが実質的
に同時に行われることを可能にする。まえ本発明方法は
、従来技術において一般的に使用される電流密度よりも
低い電流密度の使用をも可能とする。
l!−用K11層し九場合に良好な剥−漠さを舊する綱
シート又は鯛mt’*供する。基板に対する威シート又
は盾の績看性を改良する九めに、好ましくは規則的に反
復するパルスをそなえた波形を有し、かつ一方向にの入
流れる、中断されない多サイクルの変動電流により操作
される単工根の電層法を使用して、11$1シート又は
鋼箔上に一枝状層を被覆するのである。本発明方法は樹
枝状晶の形成と箔表面への該樹枝状晶の結合とが実質的
に同時に行われることを可能にする。まえ本発明方法は
、従来技術において一般的に使用される電流密度よりも
低い電流密度の使用をも可能とする。
実施例V
本発1jliKより処理され九鋼箔により示される。
電流周波数と粉末移動特性との間の臨界的関係を立証す
る丸めに、下記のように多数の処理され九m4箔の試料
を14製した。硫酸鋼として端20 Te句及びVt酸
45.9/Jlt−含有する電解浴溶液tg製しえ。陰
極として2オンス/平方フートの加工C11000鋼消
の切取り試片を使用した。ll1cps桶には陰極から
約1インチ−して白金陽極を設けた。第2図に示すもの
のような波形な有す今変動一流をll[槽を横切って通
した。咳変動電流は200mA/cfの第一の電流密度
と25fflA/It”の第二の1lEtI1.vR度
とを有した。該第−及び第二のIIIE流VB度を同一
時間にわたって適用し九。該電流は15秒間の析出時間
にわ九って0.25,1.4.16.64.256及び
1024HIIの各周波数において供給した。各処理後
に該w4箔の切取り試片1に電解槽から取り出し、水洗
し、乾燥し、次いで秤量した。
る丸めに、下記のように多数の処理され九m4箔の試料
を14製した。硫酸鋼として端20 Te句及びVt酸
45.9/Jlt−含有する電解浴溶液tg製しえ。陰
極として2オンス/平方フートの加工C11000鋼消
の切取り試片を使用した。ll1cps桶には陰極から
約1インチ−して白金陽極を設けた。第2図に示すもの
のような波形な有す今変動一流をll[槽を横切って通
した。咳変動電流は200mA/cfの第一の電流密度
と25fflA/It”の第二の1lEtI1.vR度
とを有した。該第−及び第二のIIIE流VB度を同一
時間にわたって適用し九。該電流は15秒間の析出時間
にわ九って0.25,1.4.16.64.256及び
1024HIIの各周波数において供給した。各処理後
に該w4箔の切取り試片1に電解槽から取り出し、水洗
し、乾燥し、次いで秤量した。
スフツチマジック(8aotch Magia )透明
テープの1片を各処理@箔の切取り試片上に押しつけ、
次いで手で剥がし丸。金属の移転が行われたか否かを見
る丸めに各テープの目視検査を行つ九。その後に各処理
鋼箔切取り試片を秤量した。もし重量変化が負であった
な、ら、それは樹枝状処理物の一部が銅箔から引き出さ
れたことを意味する。もしmt変化が正であったなら、
それは接着剤がテ−ゾから引き出されたことを意味する
。
テープの1片を各処理@箔の切取り試片上に押しつけ、
次いで手で剥がし丸。金属の移転が行われたか否かを見
る丸めに各テープの目視検査を行つ九。その後に各処理
鋼箔切取り試片を秤量した。もし重量変化が負であった
な、ら、それは樹枝状処理物の一部が銅箔から引き出さ
れたことを意味する。もしmt変化が正であったなら、
それは接着剤がテ−ゾから引き出されたことを意味する
。
このsic*の結果を第6図に示す。この場合、ム1に
変化′4tIIC流周波欽に対し【作図しである。この
図面から4〜1024 HHの範囲の周波数において良
好な緒来が得られること、及び12〜600H51の臨
界的4囲の′一流周波数において予想外に優れた結果が
得られたことがわかる。
変化′4tIIC流周波欽に対し【作図しである。この
図面から4〜1024 HHの範囲の周波数において良
好な緒来が得られること、及び12〜600H51の臨
界的4囲の′一流周波数において予想外に優れた結果が
得られたことがわかる。
咳シート又は箔は本発明方法に供するに先立って、歯業
界に公知の任意の好適な清116環に供することができ
る。例えばシート又は箔を任意の形式のIt解洸浄操作
、すなわち陰極的又は陽極的洗浄、及び/又は硫m戚洗
い溶液中への浸漬に供することができる。
界に公知の任意の好適な清116環に供することができ
る。例えばシート又は箔を任意の形式のIt解洸浄操作
、すなわち陰極的又は陽極的洗浄、及び/又は硫m戚洗
い溶液中への浸漬に供することができる。
本発明を、鋼シート又は鋼箔上における端樹枝状晶の形
成について記載して来、たけれど、本発明はニッケル、
亜鉛又はクロムの、ようなその他の金:l 鵬についても利用することが−C@る。
成について記載して来、たけれど、本発明はニッケル、
亜鉛又はクロムの、ようなその他の金:l 鵬についても利用することが−C@る。
浴溶液16は実質的に室温か、′又はわずかに高、めら
れ九温度かの、いずれかに保つことが好ましいけれど、
本発明方法は浴溶液盲6の#!一温度付近1例えば約−
80℃の温度においても有功である。典型的には本Si
明方法は約15〜約50℃の範囲の温度における浴溶液
により行われる。
れ九温度かの、いずれかに保つことが好ましいけれど、
本発明方法は浴溶液盲6の#!一温度付近1例えば約−
80℃の温度においても有功である。典型的には本Si
明方法は約15〜約50℃の範囲の温度における浴溶液
により行われる。
上起谷夷通例は、第一の期間に対する第一の電ft蕾度
と第二の期間に対する第二の電流蛋度とを有し、この場
合該二つの期間が等しいものである陰極性部分を持つ波
形について例証するけれど、悔方の期間よりも長い一方
の期間を有する波形を使用することもできる。
と第二の期間に対する第二の電流蛋度とを有し、この場
合該二つの期間が等しいものである陰極性部分を持つ波
形について例証するけれど、悔方の期間よりも長い一方
の期間を有する波形を使用することもできる。
一方向にの入流れる非中断の多サイクル変動電流が好ま
しく使用されるけれど、中断される電流又は周期逆流電
流のいずれかのような、その他の電流を使用することも
できる。
しく使用されるけれど、中断される電流又は周期逆流電
流のいずれかのような、その他の電流を使用することも
できる。
本発#it’時定の硫酸銅−硫酸電解浴溶液について記
載して来たけれど、本発明方法はその他の形式のwLp
s浴溶液を!用して実施することができる。
載して来たけれど、本発明方法はその他の形式のwLp
s浴溶液を!用して実施することができる。
□
本発明の鯛シー艷又はw4箔処場力場方法定の実IIA
列について説明し“て来たけれど、所望の表面処理は変
−電流密度、周波数及び波形の広範囲の組付せにより得
ることができ、本発明は本明gJlに特定され九ものに
繊定されるべきではない。
列について説明し“て来たけれど、所望の表面処理は変
−電流密度、周波数及び波形の広範囲の組付せにより得
ることができ、本発明は本明gJlに特定され九ものに
繊定されるべきではない。
本発明によりS−の結合強さを改良する丸めの鯛の電気
化学的処城法が提供され、a処J!IiI法は前記に記
−し丸目的1手段、及び利点を十分に満足させるもので
あることが明らかである。本発明をその時定の’14M
IIA様の組合せについて記−して来たけれど、多くの
代用、改良及び変更が、これまでの記−により歯業者に
明らかであることがわかる。し九がって、すべてのこの
ような代用、改良。
化学的処城法が提供され、a処J!IiI法は前記に記
−し丸目的1手段、及び利点を十分に満足させるもので
あることが明らかである。本発明をその時定の’14M
IIA様の組合せについて記−して来たけれど、多くの
代用、改良及び変更が、これまでの記−により歯業者に
明らかであることがわかる。し九がって、すべてのこの
ような代用、改良。
及び変更は本発明の特許請求の範囲の要旨及び広禰の範
囲内KINすることを強調する。
囲内KINすることを強調する。
第1図は本発明の装置の概略図である。
112図は本発明に使用することのできる電流の波形を
示す。 第3図は本発明に使用することのできる、もう一つの電
流波形を示す。 第4図は本発明に使用することのできる、もう一つの電
流波形を示す。 第5図は本発明の装置のもう一つの実施11様を示すg
lt略図である。 ts6図は本発明により処理したm痛の粉末移励脣性を
周波数の関数として示すグラフ図である。 代場人 桟材 皓 外4名 FIG、 3 綺闇 FIG、 4 時開 F−IG、 5
示す。 第3図は本発明に使用することのできる、もう一つの電
流波形を示す。 第4図は本発明に使用することのできる、もう一つの電
流波形を示す。 第5図は本発明の装置のもう一つの実施11様を示すg
lt略図である。 ts6図は本発明により処理したm痛の粉末移励脣性を
周波数の関数として示すグラフ図である。 代場人 桟材 皓 外4名 FIG、 3 綺闇 FIG、 4 時開 F−IG、 5
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (l) 金属箔≦14)の、基INK対する接着能力
を高め今ための感層方鉄におかて、 ある一度の金属を含有する電解浴1m1m11(1@)
、!、111m(12)とを有する電解11(10)を
M!貧し; 前記箔(14,)を陰極として前記涛1llEK浸漬し
;所望の肩波数と、反復パルスを伴った所望の波形とを
有する非ゼーの基底陰極性電流t#&供し、各前記パル
スは第一の期間にわたる第一の電S*度を有する菖−の
部分と、第二の期間にわたる第二の電流!度を有する基
底部分とよp成9、しかも前記第一の電流密度は前記暮
二の亀ms度よシも実質的に大龜(;かり 前記IE解槽(10)K前記電流を通じ、かつ前記11
1(14)を多数の前記電流パルスに供して各tJ記パ
ルスの前記第一の電流密度を約0.1枦以下の時間にわ
たってji用し、 これにより前記浴液からの金属を、改良された剥離強さ
、改良された耐摩耗性及び耐応力性、ならびに改良され
た粉末移動特性、を有する微細な樹枝状めっきとして前
記箔上に析出させる、ことを特徴とする前記方法0 (2) 前記箔(14)t、多数の前記電流パルスに
供して各前記パルスの第一の!流密度を約0.04秒以
下の時間にわたって適用する、 ことを5更に%像とする、前記電流を通す工、@を有す
る特許請求の範WA81項記載の方法0(3)前記箔(
14)を10以上の電流パルスに供することを更に特徴
とする特許請求の範S第1項記載の、方法0 (4)前目箔(14)を少くとも25の電流パルスに供
することを更に特徴とする特許請求の範囲篇1項記載の
方法0 (5)約10〜約60117t の1IlIILにお
ける銅と約10〜約10011/Lの濃度における硫酸
とを含有する浴溶液(16)を提供し、 前記浴溶液(16)を実質的KmllK保ち、それによ
p1前記溶[(16)から前記箔(14)上に析出する
前記金属が前記鋼から成る、ことを更に特徴とする、前
記電解槽【供給する工程を有する特許請求の範8J11
項記載の方法。 (6) 限界電流密度よルも大きな前記第一の電流密
度と、限界電a1!度よ〕も小さな前記第二の電流密度
とを有する前記電流を通すことを更に特徴とする前記電
流を通す前記工St有する特許請求の範囲第1JJ記載
の方法@ (7) 約150〜約500 mA/−の範囲にある
前記第一の電流密度と、約10〜約40 w4/ml’
の範囲にある前記第二の電流密度とを有する前記電流を
通す、 ことを更に特徴とする、前記電流を通す前記工程を有す
る特許請求の範囲第1項記載の方法0(8) 約4〜
約1000 mW、^範囲にある前記周波数を有する前
記電流を通す□、:二 ことを更に特徴とする、前記電流を通す工程を有する特
許請求の範囲111項記載の方法0(9) 金属箔(
14)を、基板に対するその接着能力を高めるために処
理する装置において、ある凝度の金属を含有する電解浴
溶液(16)を収容するための手段(10): 前記#I液に浸漬される陽極(12)及び陰極(14)
: 前記金属箔から成る前記陰極(14):所望の周波数と
、反復パルスを包含する所望の波形とを有し、各前記パ
ルスは第一の期間にわたる帛−の電流密度を有する第一
の部分と、第二の期間にわたる第二の電流密度を有する
基底部分とより成p、前記第一の電流密度は前記第二の
電流密度よりも実質的に大きく、しかも前記第一の期間
は約0.1秒以下である、非ゼロの基底陰極性電流を供
給するための手段;及び 前記電流tmt記陰極(14)及び陽極(12)に通し
て前記箔を10以上の前記パルスに供するようにし、
□ それにより前記溶液(16)からの金属を、改良された
剥離強さ、改良された耐摩耗性及び耐応力性、ならびに
改良された粉末移動特性を有する微細な樹枝状めつきと
して前記部上に析出させる手段、 を特徴とする前記装置〇
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US35505382A | 1982-03-05 | 1982-03-05 | |
| US355053 | 1982-03-05 | ||
| US460630 | 1983-01-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58164797A true JPS58164797A (ja) | 1983-09-29 |
| JPS6411118B2 JPS6411118B2 (ja) | 1989-02-23 |
Family
ID=23396044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3571283A Granted JPS58164797A (ja) | 1982-03-05 | 1983-03-04 | 結合強さを改良する銅の電気化学的処理 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58164797A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6317597A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | 古河サーキットフォイル株式会社 | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 |
| JP2006336079A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 銅ストライクめっき方法 |
| WO2008108341A1 (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-12 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | 表面粗化銅板の製造方法及び装置、並びに表面粗化銅板 |
| JP2011162860A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 表面粗化銅箔とその製造方法及び銅張積層板 |
| JP2023504254A (ja) * | 2019-11-27 | 2023-02-02 | ワイエムティー カンパニー リミテッド | 回路基板のスルーホールの充填方法及びこれを用いた回路基板 |
-
1983
- 1983-03-04 JP JP3571283A patent/JPS58164797A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6317597A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | 古河サーキットフォイル株式会社 | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 |
| JP2006336079A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 銅ストライクめっき方法 |
| WO2008108341A1 (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-12 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | 表面粗化銅板の製造方法及び装置、並びに表面粗化銅板 |
| JP5323677B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2013-10-23 | 古河電気工業株式会社 | 表面粗化銅板の製造方法及び装置、並びに表面粗化銅板 |
| JP2011162860A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 表面粗化銅箔とその製造方法及び銅張積層板 |
| JP2023504254A (ja) * | 2019-11-27 | 2023-02-02 | ワイエムティー カンパニー リミテッド | 回路基板のスルーホールの充填方法及びこれを用いた回路基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6411118B2 (ja) | 1989-02-23 |
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