JPS58169144A - 光重合性エレメント - Google Patents
光重合性エレメントInfo
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- JPS58169144A JPS58169144A JP4161183A JP4161183A JPS58169144A JP S58169144 A JPS58169144 A JP S58169144A JP 4161183 A JP4161183 A JP 4161183A JP 4161183 A JP4161183 A JP 4161183A JP S58169144 A JPS58169144 A JP S58169144A
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- JP
- Japan
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- element according
- photopolymerizable
- compound
- carbon atoms
- negative
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/161—Coating processes; Apparatus therefor using a previously coated surface, e.g. by stamping or by transfer lamination
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合性レジストフィルム、そしてより特定的
には改善された離形（レリース）性を得ることのできる
そのようなフィルムに関する。
には改善された離形（レリース）性を得ることのできる
そのようなフィルムに関する。
米国特許＠３，４６９，９８２号明細書は光重合性層を
一時的支持体フイルムと一時的カバーフィルムとの間に
サンドイツチ化せしめたネガとして働く光重合性フィル
ムレシス）？開示している。
一時的支持体フイルムと一時的カバーフィルムとの間に
サンドイツチ化せしめたネガとして働く光重合性フィル
ムレシス）？開示している。
このフィルムは印刷回路の製造において広範囲での使用
を獲得しており、その場合にはカバーフィルムを除去し
、光重合性層を熱および圧力によって永久的に変性させ
るべき基質の表面例えば鋼に積層させ、この層を活性線
放射Ｋｇ／ｌ様露光させ、フィルム支持体を除去し、層
の未露光部分管溶媒洗去により除去（現像）シ、そして
得られた銅表面の裸の部分管例えばエツチングま九は金
属の沈着によシ永久的に変性せしめる。
を獲得しており、その場合にはカバーフィルムを除去し
、光重合性層を熱および圧力によって永久的に変性させ
るべき基質の表面例えば鋼に積層させ、この層を活性線
放射Ｋｇ／ｌ様露光させ、フィルム支持体を除去し、層
の未露光部分管溶媒洗去により除去（現像）シ、そして
得られた銅表面の裸の部分管例えばエツチングま九は金
属の沈着によシ永久的に変性せしめる。
この先行技術特許は支持体フィルム上への光重合性組成
物の溶液コーティング、それに続く乾燥および得られた
乾燥層の表面例えば鋼被榎印刷回路板への積Ｎ４を行な
ってホトレジスト法を実施することを開示している。し
かしながら工業的実施においては保存および出荷の間、
支持体に接着保持されなくてはならない乾燥光重合性Ｎ
４Ｆｉ常に支持体フィルムをカバーシートとの間のサン
ドイッチとして供給される。これはホトレジスト製造者
がこのサンドイッチエレメントをそれ自体を巻きあげそ
して使用者例えば印刷回路製造者にコンパクトで取扱い
容易なロールとして供給することを可能ならしめる。こ
ツカバーフィルムはそのカバーフィルムが支持体フィル
ムの裏ｆｉｌｌ Ｋ従来技術光重合性層を押しつけそし
て層を接着させることなしに使用者がロールを巻き戻す
ことを可能ならしめる。従ってフィルムは光重合性１に
損傷を与えることなく巻き戻すことができる。使用Ｋｆ
ｉつてはこのカバーフィルムを剥離させそして取シ捨て
、次いでホトレジストヲ前記のように処理する。
物の溶液コーティング、それに続く乾燥および得られた
乾燥層の表面例えば鋼被榎印刷回路板への積Ｎ４を行な
ってホトレジスト法を実施することを開示している。し
かしながら工業的実施においては保存および出荷の間、
支持体に接着保持されなくてはならない乾燥光重合性Ｎ
４Ｆｉ常に支持体フィルムをカバーシートとの間のサン
ドイッチとして供給される。これはホトレジスト製造者
がこのサンドイッチエレメントをそれ自体を巻きあげそ
して使用者例えば印刷回路製造者にコンパクトで取扱い
容易なロールとして供給することを可能ならしめる。こ
ツカバーフィルムはそのカバーフィルムが支持体フィル
ムの裏ｆｉｌｌ Ｋ従来技術光重合性層を押しつけそし
て層を接着させることなしに使用者がロールを巻き戻す
ことを可能ならしめる。従ってフィルムは光重合性１に
損傷を与えることなく巻き戻すことができる。使用Ｋｆ
ｉつてはこのカバーフィルムを剥離させそして取シ捨て
、次いでホトレジストヲ前記のように処理する。
一時的支持体フィルムと一時的カノシーフイルムとの関
にサンドインチ化されたこのタイプの光重合性フィルム
は、はんだマスク適用に有用であるように処方すること
ができるが、この場合には光重合性フィルムを印刷回路
板上の一部分に適用して少くとも２３０℃の温度まで加
熱され九溶融はんだを板上のノミラド部分圧局限させ、
そして錫かけ操作および成分のはんだ処理の間に導体の
間にブリッジ形成することを防止する。このはんだマス
クはまた裸の銅導体の腐食を阻止または最小ならしめそ
して隣接回路からのある成分の絶縁のための誘電体とし
ても機能する。はんだマスクは最終回路板上に残留しす
なわちはんだマスクは印刷回路板に対する永久コーティ
ングなのであるからそれは容易な回路検査を可能ならし
めるためには通常透明である。
にサンドインチ化されたこのタイプの光重合性フィルム
は、はんだマスク適用に有用であるように処方すること
ができるが、この場合には光重合性フィルムを印刷回路
板上の一部分に適用して少くとも２３０℃の温度まで加
熱され九溶融はんだを板上のノミラド部分圧局限させ、
そして錫かけ操作および成分のはんだ処理の間に導体の
間にブリッジ形成することを防止する。このはんだマス
クはまた裸の銅導体の腐食を阻止または最小ならしめそ
して隣接回路からのある成分の絶縁のための誘電体とし
ても機能する。はんだマスクは最終回路板上に残留しす
なわちはんだマスクは印刷回路板に対する永久コーティ
ングなのであるからそれは容易な回路検査を可能ならし
めるためには通常透明である。
光重合性層の使用の前にカバーシー）１−除去して光重
合性層を基！（これは回路を含有していてもまたはして
いなくてもよい）Ｋ適用させることが必要である。
合性層を基！（これは回路を含有していてもまたはして
いなくてもよい）Ｋ適用させることが必要である。
本発明は一層容易々カバーシートの除去管可能ならしめ
るネガとして働く光感受性組成物中への添加剤の導入に
関する。
るネガとして働く光感受性組成物中への添加剤の導入に
関する。
光感受性項中の添加剤の使用は従来技術において既知で
ある。本発明に有用な添１加剤は、陽画ホトレジストの
オキシド半導体表面への接着性改善のための米国特許第
へ８２４９０８号明細書中で既知である。
ある。本発明に有用な添１加剤は、陽画ホトレジストの
オキシド半導体表面への接着性改善のための米国特許第
へ８２４９０８号明細書中で既知である。
本発明は、印刷回路の製造Ｋｆｉ用なネガとして働く光
重合性組成物のｌ１ｌｌ を有する支持体とカバーシー
トとを包含しそして前記組成物がａ）常圧で１００℃以
上の沸点？：有する少くとも１８１の付加重合性エチレ
ン性不飽和化合物、ｂ）スペクトルの紫外部ないじ可視
部の活性線放射により活性化されうる有機遊離ラジカル
生成性付加重合開始剤、および Ｃ）高分子１ｋｌ！機重合体結合剤 を包含している溶媒現像性のネガとして働く放射感受性
光重合性エレメントに関するものであシ、而してその改
良点はこの組成物を力、＜−シートから容易に離脱可能
ならしめる目的のために式Ａ−ＢＣ式中、Ａは６〜２４
個の炭素原子を含有する置換または非置換のアルキルま
たはアルケニルであシ、そしてＢはＮ％−〇、Ｓま九は
それらの組合せから選ばれた２個または３個の複素原子
を含有する５〜６鳳子の芳香族性またＬ非芳香族性複素
環基（場合によシロ炭素原子の融合芳香環を含有してい
る）、または−一アミノカルボン酸のアルカリ金属塩ま
たはβ、β′−アｉノジカルボン酸のビスアルカリ金属
基である〕の雛形作用化合物または混合物を７５Ｆより
大きくない値に剥離力を低下させるに充分な有効量で前
記のネガとして働く光重合性組成物中に存在せしめるに
ある。
重合性組成物のｌ１ｌｌ を有する支持体とカバーシー
トとを包含しそして前記組成物がａ）常圧で１００℃以
上の沸点？：有する少くとも１８１の付加重合性エチレ
ン性不飽和化合物、ｂ）スペクトルの紫外部ないじ可視
部の活性線放射により活性化されうる有機遊離ラジカル
生成性付加重合開始剤、および Ｃ）高分子１ｋｌ！機重合体結合剤 を包含している溶媒現像性のネガとして働く放射感受性
光重合性エレメントに関するものであシ、而してその改
良点はこの組成物を力、＜−シートから容易に離脱可能
ならしめる目的のために式Ａ−ＢＣ式中、Ａは６〜２４
個の炭素原子を含有する置換または非置換のアルキルま
たはアルケニルであシ、そしてＢはＮ％−〇、Ｓま九は
それらの組合せから選ばれた２個または３個の複素原子
を含有する５〜６鳳子の芳香族性またＬ非芳香族性複素
環基（場合によシロ炭素原子の融合芳香環を含有してい
る）、または−一アミノカルボン酸のアルカリ金属塩ま
たはβ、β′−アｉノジカルボン酸のビスアルカリ金属
基である〕の雛形作用化合物または混合物を７５Ｆより
大きくない値に剥離力を低下させるに充分な有効量で前
記のネガとして働く光重合性組成物中に存在せしめるに
ある。
ネガとして働く溶媒現像可能な放射感受性組成物中への
添加剤の導入は例えば保存時に放射感受性組成物管保饅
する力、＜−シートの除去を助ける。この添加剤は式Ａ
−Ｂ（式中Ａ−Ｂは前記′ｉＥ義の通りである）のもの
である。
添加剤の導入は例えば保存時に放射感受性組成物管保饅
する力、＜−シートの除去を助ける。この添加剤は式Ａ
−Ｂ（式中Ａ−Ｂは前記′ｉＥ義の通りである）のもの
である。
Ａ−Ｂ群の狭義の群は次の通シである。すなわちＡは６
〜２４個の炭素原子を含有する直鎖状アルキルまたは直
鎖状アルケニルであり、そしてＢは１−ヒドロキシエチ
ル−２−イミタ゛シリニル、ナ） ＩＪウムプロビオン
ー２−イルアミノまたはビス−（ナトリウムプロピオン
−２−イル）−イミノである。
〜２４個の炭素原子を含有する直鎖状アルキルまたは直
鎖状アルケニルであり、そしてＢは１−ヒドロキシエチ
ル−２−イミタ゛シリニル、ナ） ＩＪウムプロビオン
ー２−イルアミノまたはビス−（ナトリウムプロピオン
−２−イル）−イミノである。
好ましいＡ−Ｂ成分はＡが６〜１８個の炭素原子を含有
しそしてＢが１−ヒドロキシエチル−２−イミダゾリニ
ルであるものである。適当な化合物の例はＡがカプリル
、オレイル、トール油脂肪酸から導かれたアルキル、ま
たＬココナツ油脂肪酸から導かｎたアルキルであり、そ
してＢが１−ヒドロキシエチル−２−イミダゾリニルで
あるものである。その他のＢ成分に対する化合物の例は
Ａがココナツ油脂肪酸から導かれたアルキルであシそし
てＢがナトリウムプロピオン−２−イルアミノであるも
の、そしてＡが獣脂（ｔａｌｌｏｗ）から尋かれたアル
キルでありそしてＢがビス−（ナトリウムプロピオ／−
２−イル）−イミノであるものである。
しそしてＢが１−ヒドロキシエチル−２−イミダゾリニ
ルであるものである。適当な化合物の例はＡがカプリル
、オレイル、トール油脂肪酸から導かれたアルキル、ま
たＬココナツ油脂肪酸から導かｎたアルキルであり、そ
してＢが１−ヒドロキシエチル−２−イミダゾリニルで
あるものである。その他のＢ成分に対する化合物の例は
Ａがココナツ油脂肪酸から導かれたアルキルであシそし
てＢがナトリウムプロピオン−２−イルアミノであるも
の、そしてＡが獣脂（ｔａｌｌｏｗ）から尋かれたアル
キルでありそしてＢがビス−（ナトリウムプロピオ／−
２−イル）−イミノであるものである。
本発明の範囲内のその他の化合物は以下のものである。
４−ピラゾリル、
１−（２−ヒドロキシエチル）−２−（６−メチルドデ
シル）−イミダシリン、 １．２．４−トリアゾリル−３， ４−オキサシリル、 １．５．４−チアジアゾリル−２， ３−ベンゾトリアゾリル、 −ｅ ２−ヒフシニル、 ２−クロロベンゾキサゾリル−４、 アデニン。
シル）−イミダシリン、 １．２．４−トリアゾリル−３， ４−オキサシリル、 １．５．４−チアジアゾリル−２， ３−ベンゾトリアゾリル、 −ｅ ２−ヒフシニル、 ２−クロロベンゾキサゾリル−４、 アデニン。
前記離形作用化合物は７５ｆよシ大ではなくそして好ま
しくは２５ｆよシ犬ではない剥離力を与えるような有効
竜で存在する。［剥離力（ｐｅｅｌｆｏｒｃｏ ）Ｊは
試験法として以下に記載の方法によって測定される。こ
の化合物または化合物の混合物は一般にネガとして働く
光重合性組成物の全重量基準で１〜１０重量％量で存在
せしめられる。より好ましい範囲Ｆｉ１〜５重看％、そ
してより奸ましくは２〜４亀１１Ｘである。
しくは２５ｆよシ犬ではない剥離力を与えるような有効
竜で存在する。［剥離力（ｐｅｅｌｆｏｒｃｏ ）Ｊは
試験法として以下に記載の方法によって測定される。こ
の化合物または化合物の混合物は一般にネガとして働く
光重合性組成物の全重量基準で１〜１０重量％量で存在
せしめられる。より好ましい範囲Ｆｉ１〜５重看％、そ
してより奸ましくは２〜４亀１１Ｘである。
前記光感受性組成物杖その成分が相互に相容性でなくて
はならずそしてそれら祉乾燥層に形成されうるものでな
くてはならないということによってのみ駆足される。離
形作用添加剤を除く好ましい光感受性組成物はここに参
照として包含されている米国特許第４．２７＆７５２号
明細書に開示されている。この特許明細書は（ａ）４種
まで好ましくは２ｆ１１または５１１１のエチレン性不
飽和化合物２０〜６５重量％の、（１）ｌその少くと４
１糧の結合剤が少くとも６５重量％のアクリロニトリル
を含有しているような５種まで、好ましくは２ｓ高分子
Ｉ有機重合体結合剤２０〜５５重量％、および（ｃｌス
ペクトルの紫外〜可視慣域の活性線放射により活性化可
能な有機遊離ラジカル生成性付加重合開始剤または開始
剤系α４〜１α０重量にを包含し、そして芳香族部分ま
たは共役ビニル成分に共有結合的に結合した少くとも５
重量％のハロゲン（例えば臭素、塩素）を含有している
好適な光重合性組成物を開示している。すべての電蓄％
は組成物の全型ｌｋＫ基くものである。共有結合ハロゲ
ンはその組成物がはんだ適用に使用される場合には望ま
しい。
はならずそしてそれら祉乾燥層に形成されうるものでな
くてはならないということによってのみ駆足される。離
形作用添加剤を除く好ましい光感受性組成物はここに参
照として包含されている米国特許第４．２７＆７５２号
明細書に開示されている。この特許明細書は（ａ）４種
まで好ましくは２ｆ１１または５１１１のエチレン性不
飽和化合物２０〜６５重量％の、（１）ｌその少くと４
１糧の結合剤が少くとも６５重量％のアクリロニトリル
を含有しているような５種まで、好ましくは２ｓ高分子
Ｉ有機重合体結合剤２０〜５５重量％、および（ｃｌス
ペクトルの紫外〜可視慣域の活性線放射により活性化可
能な有機遊離ラジカル生成性付加重合開始剤または開始
剤系α４〜１α０重量にを包含し、そして芳香族部分ま
たは共役ビニル成分に共有結合的に結合した少くとも５
重量％のハロゲン（例えば臭素、塩素）を含有している
好適な光重合性組成物を開示している。すべての電蓄％
は組成物の全型ｌｋＫ基くものである。共有結合ハロゲ
ンはその組成物がはんだ適用に使用される場合には望ま
しい。
何故ならハロゲンが前記成分の一つに共有結合的に結合
していない場合に生ずるようなブリスターの形成または
分解なしにこの層ははんだに１えることがで色る。有効
な成分はハロゲンがエチレン性不飽和化合物（ａ）、重
合体結合剤（ｂｌおよび開始剤（ｃｌの少くとも一つの
芳香族部分にかまたは例えば単駿体形態にあるかまたＬ
重合体としての少くとも１楕の共役ビニル成分例えば２
−クロロブタジェン−１，３に共有結合的に結合してい
るものである。従って有効な化合物扛アリールハライド
および共役ビニルハライドである。化合物例えばビニリ
デンクロリド共重合体例えばビニリデンクロリド／アク
リロニトリル共重合体は祉んだ連用Ｋｔ′ｉ、望ましく
ない。その理由はそれらが加熱すると塩化水素を失なう
飽和化合物だからである。はんだマスク中でのそのよう
な化合物の存在は、はんだマスクのブリスター形成また
は分解の結果となる。しかしながらそのような化合物は
はんだマスクとしての利用が必須ではない印刷回路製造
における使用に対しては有用である。
していない場合に生ずるようなブリスターの形成または
分解なしにこの層ははんだに１えることがで色る。有効
な成分はハロゲンがエチレン性不飽和化合物（ａ）、重
合体結合剤（ｂｌおよび開始剤（ｃｌの少くとも一つの
芳香族部分にかまたは例えば単駿体形態にあるかまたＬ
重合体としての少くとも１楕の共役ビニル成分例えば２
−クロロブタジェン−１，３に共有結合的に結合してい
るものである。従って有効な化合物扛アリールハライド
および共役ビニルハライドである。化合物例えばビニリ
デンクロリド共重合体例えばビニリデンクロリド／アク
リロニトリル共重合体は祉んだ連用Ｋｔ′ｉ、望ましく
ない。その理由はそれらが加熱すると塩化水素を失なう
飽和化合物だからである。はんだマスク中でのそのよう
な化合物の存在は、はんだマスクのブリスター形成また
は分解の結果となる。しかしながらそのような化合物は
はんだマスクとしての利用が必須ではない印刷回路製造
における使用に対しては有用である。
ハロゲンは１１］配の成分の１ｆｉ！ＪｌｓＺ株または
３ａｔたはそのいずｎかの組合せに共有結合させて組成
物中に存在させることができる。その多くは米１ｉｉ１
％許第４．２７ａ７５２号明細書（７）実ｊ１ｍｌ’ｌ
ｌＫ示されている。特に好ましい組成物においてはエチ
レン性不飽和化合物の１０〜５０重量％がハロゲン化さ
れている。組成物中に存在するハロゲンの低い方のレベ
ルにおいては％１０重量Ｘまでの５ｂ２ｏ３を存在させ
てはんだマスク適用における難燃性を更に上昇させるこ
とができる。
３ａｔたはそのいずｎかの組合せに共有結合させて組成
物中に存在させることができる。その多くは米１ｉｉ１
％許第４．２７ａ７５２号明細書（７）実ｊ１ｍｌ’ｌ
ｌＫ示されている。特に好ましい組成物においてはエチ
レン性不飽和化合物の１０〜５０重量％がハロゲン化さ
れている。組成物中に存在するハロゲンの低い方のレベ
ルにおいては％１０重量Ｘまでの５ｂ２ｏ３を存在させ
てはんだマスク適用における難燃性を更に上昇させるこ
とができる。
１０重ｔＸ以上の暖では光重合性エレメントの望ましい
性質例えば接着性、表面平滑性その他が悪化し始める。
性質例えば接着性、表面平滑性その他が悪化し始める。
組成物中のハロゲン量が増大するＫつれて、 ５ｂ７ｏ
５量を減少させるかまたは完全圧除外させることができ
る。
５量を減少させるかまたは完全圧除外させることができ
る。
好ましい放射感受性エレメントは光重合性層に活性線放
射を伝達する薄い可撓性重合体フィルム支持体をそれに
低度ないし中等度の接着性をもって接着させた約０．０
００３インチＣ，０，０００８ｃＩＬ）〜約０，０１イ
ンチ（Ｑ、０２５ｃＩＬ）庫さｔｍｆる光重合性１４を
包含している。この光重合性層 。
射を伝達する薄い可撓性重合体フィルム支持体をそれに
低度ないし中等度の接着性をもって接着させた約０．０
００３インチＣ，０，０００８ｃＩＬ）〜約０，０１イ
ンチ（Ｑ、０２５ｃＩＬ）庫さｔｍｆる光重合性１４を
包含している。この光重合性層 。
の他方の側には、支持体と層との間の接着性よシも弱い
接着性をもってそれに保−カバーシートｔ−接着させる
ことができる。
接着性をもってそれに保−カバーシートｔ−接着させる
ことができる。
基質への放射感受性物質の適用に先立って除去場れる適
当なカバーシートＬ高度重合体例えばポリアミド、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ビニル重合体、およびセル
ロースエステルよシなシそして０．０００２５インチ（
α０００ＭＣｌ＋） 〜α００８インチ（０，０２α）
またはそれ以上の厚さ′ｔ−有しうる広範囲なｓ類のフ
ィルムから選ぶことができる。好ましいカバーシートは
約α０１インチ（０，００２５０Ｒ）厚さのポリエチレ
ンである。カバーシートおよびそれらの組成物り従来技
術で周知である。
当なカバーシートＬ高度重合体例えばポリアミド、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ビニル重合体、およびセル
ロースエステルよシなシそして０．０００２５インチ（
α０００ＭＣｌ＋） 〜α００８インチ（０，０２α）
またはそれ以上の厚さ′ｔ−有しうる広範囲なｓ類のフ
ィルムから選ぶことができる。好ましいカバーシートは
約α０１インチ（０，００２５０Ｒ）厚さのポリエチレ
ンである。カバーシートおよびそれらの組成物り従来技
術で周知である。
適当な支持体シートは前記高度重合体フィルムの同一群
から選ぶことができ、そしてこれ轢岡−の幅の厚さ範囲
を有しうる。剥離性支持体の除去の前に露光を実施する
場合には、勿論それ拡それに関連する活性線放射の実質
的割合を適過させなくてはならない。露光の前に剥離性
支持体管除去する場合圧は、そのような限定は適用され
ない。Ｉ？ＩＫ適当な支持体は約０．００１インチ（α
００２５α）ｊｌさを有する透明ポリエチレンテレフタ
レートフィルムである。前記支持体およびカバーシート
は光重合性層に良好な保Ｓｔ与える。
から選ぶことができ、そしてこれ轢岡−の幅の厚さ範囲
を有しうる。剥離性支持体の除去の前に露光を実施する
場合には、勿論それ拡それに関連する活性線放射の実質
的割合を適過させなくてはならない。露光の前に剥離性
支持体管除去する場合圧は、そのような限定は適用され
ない。Ｉ？ＩＫ適当な支持体は約０．００１インチ（α
００２５α）ｊｌさを有する透明ポリエチレンテレフタ
レートフィルムである。前記支持体およびカバーシート
は光重合性層に良好な保Ｓｔ与える。
可撓性光重合性層は単量体成分、重合体結合剤成分、光
重合開始剤およびその他の以下に記載の添加剤から製造
される、はんだマスク適用のためにこの組成物が使用さ
れる場合には、少くとも最小量のノ・ロゲンを存在させ
なくてはならないこと、そして結合剤は好ましくはアク
リロニ） ＩＪルを含有していて光への露出および溶融
はんだへの露出後でさえも層に可撓性を与えることが好
ましい。望ましいアクリロニトリル範囲は５〜１５Ｎで
ある。
重合開始剤およびその他の以下に記載の添加剤から製造
される、はんだマスク適用のためにこの組成物が使用さ
れる場合には、少くとも最小量のノ・ロゲンを存在させ
なくてはならないこと、そして結合剤は好ましくはアク
リロニ） ＩＪルを含有していて光への露出および溶融
はんだへの露出後でさえも層に可撓性を与えることが好
ましい。望ましいアクリロニトリル範囲は５〜１５Ｎで
ある。
単独単量体としてかまたは他との組合せで使用すること
のできる常圧でｉｏｏ’ｃ以上の沸点を有する適桶な単
量体としては次のものをあげることができる。トリブロ
モフェノキシエチルメタクリレート、１．５−ヘンタン
ジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、１．４−ブタンジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ヘキザメチレングリ
コールジアクリレート、１．３−プロパンジオールジア
クリレート、デカメチレングリコールジアクリレート、
デカメチレングリコールジメタクリレート、１．４−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、２．２−ジメチ
ロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グ
リセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）フロ／Ｉ
！ンジアクリレート、Ｒンタエリスリトールテトラアク
リレート、２．２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）フロ
パンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、ポリオキシエチル−２，２−ジ（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）フロパンジメタクリレート、ビスフェノ
ールＡのジ（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル）エーテル、ビスフェノールＡのジー（２−メタ
クリルオキシエチル）エーテル、ビスフェノールＡのジ
（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エー
テル、ビスフェノールＡのジ（２−アクリルオキシエチ
ル）エーテル、テトラクロロビスフェノールＡのジ（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテ
ル、テトラクロロビスフェノールＡのジ（２−メタクリ
ルオキシエチル）エーテル、テトラブロモビスフェノー
ルＡのジ（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロ
ピル）エーテル、テトラブロモビスフェノールＡのジ（
２−メタクリルオキシエチル）エーテル、１．４−ブタ
ンジオールのジ（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキ
シプロピル）エーテル、ジフェノール酸のり（３−メタ
クリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキシプ
ロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ブチレングリコール
ジメタクリレート、１．５−プロノぞンジオールジメタ
クリレート、１，２．４−ブタントリオールトリメタク
リレート、２．２．４− ）ジメチル−１，５−ベンタ
ンジオールジメタクリレート、はンタエリスリトールト
リメタクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジ
メタクリレート、はンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
１ｅ５−’ンタンジオールジメタクリレート、ジアリル
７マレート、１．４−ベンゼンジオールジメタクリレー
ト、１．４−ジイソプロペニルベンゼンおよび１．５．
５− ）ジイソプロはニルベンゼン。
のできる常圧でｉｏｏ’ｃ以上の沸点を有する適桶な単
量体としては次のものをあげることができる。トリブロ
モフェノキシエチルメタクリレート、１．５−ヘンタン
ジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、１．４−ブタンジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ヘキザメチレングリ
コールジアクリレート、１．３−プロパンジオールジア
クリレート、デカメチレングリコールジアクリレート、
デカメチレングリコールジメタクリレート、１．４−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、２．２−ジメチ
ロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グ
リセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）フロ／Ｉ
！ンジアクリレート、Ｒンタエリスリトールテトラアク
リレート、２．２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）フロ
パンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、ポリオキシエチル−２，２−ジ（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）フロパンジメタクリレート、ビスフェノ
ールＡのジ（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル）エーテル、ビスフェノールＡのジー（２−メタ
クリルオキシエチル）エーテル、ビスフェノールＡのジ
（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エー
テル、ビスフェノールＡのジ（２−アクリルオキシエチ
ル）エーテル、テトラクロロビスフェノールＡのジ（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテ
ル、テトラクロロビスフェノールＡのジ（２−メタクリ
ルオキシエチル）エーテル、テトラブロモビスフェノー
ルＡのジ（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロ
ピル）エーテル、テトラブロモビスフェノールＡのジ（
２−メタクリルオキシエチル）エーテル、１．４−ブタ
ンジオールのジ（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキ
シプロピル）エーテル、ジフェノール酸のり（３−メタ
クリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキシプ
ロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ブチレングリコール
ジメタクリレート、１．５−プロノぞンジオールジメタ
クリレート、１，２．４−ブタントリオールトリメタク
リレート、２．２．４− ）ジメチル−１，５−ベンタ
ンジオールジメタクリレート、はンタエリスリトールト
リメタクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジ
メタクリレート、はンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
１ｅ５−’ンタンジオールジメタクリレート、ジアリル
７マレート、１．４−ベンゼンジオールジメタクリレー
ト、１．４−ジイソプロペニルベンゼンおよび１．５．
５− ）ジイソプロはニルベンゼン。
光重合性層中においては少くとも３００の分子ｔ１ｒｙ
する次のエチレン性不飽和化合物の少くとも１種もまた
有用である。このタイプの好ましい単量体は２〜１５個
の炭素原子を含有するアルキレングリコールまたは１〜
１０個のエーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコ
ールから製造されたアルキレンまたはポリアルキレング
リコールジアクリレートおよび米国特許第２，９２７，
０２２号明細書に開示のもの例えば特に末端結合として
存在する場合の複数個の付加重合性エチレン性結合を有
するもの、そして％にそのような結合の少くとも１個そ
して好ましく祉はとんどが炭素に対するおよびヘテロ原
子例えば窒素、Ｉ１票および硫黄に対する炭素二重結合
を含む二重結合炭素と共役しているものである。エチレ
ン性不飽和基％にビニリデン基がエステルまたはアミド
構造に共役している物質が優れている。
する次のエチレン性不飽和化合物の少くとも１種もまた
有用である。このタイプの好ましい単量体は２〜１５個
の炭素原子を含有するアルキレングリコールまたは１〜
１０個のエーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコ
ールから製造されたアルキレンまたはポリアルキレング
リコールジアクリレートおよび米国特許第２，９２７，
０２２号明細書に開示のもの例えば特に末端結合として
存在する場合の複数個の付加重合性エチレン性結合を有
するもの、そして％にそのような結合の少くとも１個そ
して好ましく祉はとんどが炭素に対するおよびヘテロ原
子例えば窒素、Ｉ１票および硫黄に対する炭素二重結合
を含む二重結合炭素と共役しているものである。エチレ
ン性不飽和基％にビニリデン基がエステルまたはアミド
構造に共役している物質が優れている。
単一結合剤としてかまたは他との組合せで使用すること
のできる適当な結合剤としては次のものがあけられる。
のできる適当な結合剤としては次のものがあけられる。
ポリアクリレートおよびα−アルキルポリアクリレート
エステル例えばポリメチルメタクリレートおよびポリエ
チルメタクリレート、ポリビニルエステル例えばポリビ
ニルアセテート、ポリビニルアセテート／アクリレート
、ポリビニルアセテート／メタクリレートおよび水解さ
れたポリビニルアセテ−１、エチレン／ビニルアセテー
ト共重合体、ポリスチレン重合体および例えばマレイン
酸無水物およびエステルとの共重合体飽和および不飽和
ポリウレタン、合成ゴム例えばブタジェン／アクリロニ
トリル、アクリロニトリル／ブタジェン／スチレンおよ
び／またはブロモスチレン、メチルメタクリレート／ア
クリロニトリル／ブタジェン／スチレン共重合体、２−
クロロブタジェン−１，５重合体、およびスチレン／ブ
タジェン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン
ブロック共重合体、ポリブロモスチレン、約４、ＯＵＯ
〜１，０００，０００の平均分子量管有するポリグリコ
ールのポリエチレンオキシド、エポキシド例えばアクリ
レートまたはメタクリレート基を含有するエポキシド、
コポリエステル例見ば（ 式ＨＯ（ＯＨ２）、ＯＨＣ式中ｎは２〜１０の整数であ
る・）′のポリメチレングリコールと（１１ヘキサヒド
ロテレフタル酸、セバシン酸およびテレフタル酸、（２
）テレフタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸、（５
１テレフタル醗およびセバシン酸、（４）テレフタル酸
およびイソフタル酸の反応生成物から製造されたもの、
および前記グリコールと１）テレフタル酸、イソフタル
酸およびセバシン酸、および：１）テレフタル酸、イソ
フタル酸、セバシン酸およびアジピン酸から製造された
コポリエステル混合物、ナイロンまたはポリアミド例え
ばＮ−メトキシメチルポリヘキサメチレンアジ／Ｊ ｉ
ド、セルロースエステル例見ばセルロースアセテート、
セルロースアセテートサクシネート、およびセルロース
アセテートブチレート、セルロースエーテル例、ｔ ｉ
ｆメチルセルロース、エチルセルロースおよびベンジル
セルロース、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
例えばポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリホルムアルデヒド。
エステル例えばポリメチルメタクリレートおよびポリエ
チルメタクリレート、ポリビニルエステル例えばポリビ
ニルアセテート、ポリビニルアセテート／アクリレート
、ポリビニルアセテート／メタクリレートおよび水解さ
れたポリビニルアセテ−１、エチレン／ビニルアセテー
ト共重合体、ポリスチレン重合体および例えばマレイン
酸無水物およびエステルとの共重合体飽和および不飽和
ポリウレタン、合成ゴム例えばブタジェン／アクリロニ
トリル、アクリロニトリル／ブタジェン／スチレンおよ
び／またはブロモスチレン、メチルメタクリレート／ア
クリロニトリル／ブタジェン／スチレン共重合体、２−
クロロブタジェン−１，５重合体、およびスチレン／ブ
タジェン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン
ブロック共重合体、ポリブロモスチレン、約４、ＯＵＯ
〜１，０００，０００の平均分子量管有するポリグリコ
ールのポリエチレンオキシド、エポキシド例えばアクリ
レートまたはメタクリレート基を含有するエポキシド、
コポリエステル例見ば（ 式ＨＯ（ＯＨ２）、ＯＨＣ式中ｎは２〜１０の整数であ
る・）′のポリメチレングリコールと（１１ヘキサヒド
ロテレフタル酸、セバシン酸およびテレフタル酸、（２
）テレフタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸、（５
１テレフタル醗およびセバシン酸、（４）テレフタル酸
およびイソフタル酸の反応生成物から製造されたもの、
および前記グリコールと１）テレフタル酸、イソフタル
酸およびセバシン酸、および：１）テレフタル酸、イソ
フタル酸、セバシン酸およびアジピン酸から製造された
コポリエステル混合物、ナイロンまたはポリアミド例え
ばＮ−メトキシメチルポリヘキサメチレンアジ／Ｊ ｉ
ド、セルロースエステル例見ばセルロースアセテート、
セルロースアセテートサクシネート、およびセルロース
アセテートブチレート、セルロースエーテル例、ｔ ｉ
ｆメチルセルロース、エチルセルロースおよびベンジル
セルロース、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
例えばポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリホルムアルデヒド。
活性光線により活性化可能なそして１８５℃およびそれ
以下では熱的に不活性な好ましい遊離ラジカル生成性付
加重合開始剤としては共役ぎ素環系中に２個の環内カル
ボニル炭素原子を含有する化合物である置換または非置
換の多核キノン側光ば９．１０−アントラキノン、１−
クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、２
−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノ／、
２− 第３級ブチルアントラキノン、オクタメチルアン
トラキノン、１．４−ナフトキノン、９．１０−７エナ
ントレンキノン、１．２−ベンズアントラキノン、２．
３−ベンズアントラキノン、２−メチル−１，４−す７
トキノン、２．３−ジクロロナフトキノン％１１４−／
メチルアントラキノン、２．３−ジメチルアントラキノ
ン、２−フェニルアントラキノン、２．５−ジフエニル
アントラキノン、アントラキノ−ンａ−スルホン酸のナ
トリウム場、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、
レチンキノン、７，８，９．ｉｏ−テトラヒドロナフタ
センキ、ノン、および１．２．３．４−テトラヒドロベ
ンズ（司アントラセン−７，１２−ジオンがあげら扛る
。８５℃の低い温度において熱的に活性であシうるＫし
てもなおこれまた有用なその他の光開始剤は米国特許第
２，７６０，８６３号明細書に記載されているが、これ
らとしては隣接ケトアルドニルアルコール例えばベンゾ
イン、ビバロイン、アシロインエーテル、例えばベンゾ
インメチルおよびエチルエーテルα−メチルベンゾイン
％ａ−アリルばンゾインおよびａ−フェニルベンゾイン
を含むα−炭化水素置換芳香族アシロインがあげらする
。米国特許第２．８５０，４４５号、同第２，８７５，
０４７号、同ＩＫ３，０９７，０９６号、同Ｗ、４０７
４．９７４号、同第へ０９ス０９７号および同第４１４
５，１０４号各明細書に開示の光還元性染料および還元
剤ならびに７エナジン、オキサジンおよびキノ゛ン群の
染料、ミヒラーのケトン、ベンゾフェノン、２，４．ｓ
−） リフェニルイミダゾリルニ量体例えば２−ｏ−
クロロフェニル−４，５−ジフェニルイミダゾリルニ量
体を水素ドナーと一緒にしたもの、および例えば米国特
許第へ４２４１６１号、同第！１．４７９．１８５号お
よび同第５．５４９，５６７号各明細書に記載のような
それらの混合物を開始剤として使用することができる。
以下では熱的に不活性な好ましい遊離ラジカル生成性付
加重合開始剤としては共役ぎ素環系中に２個の環内カル
ボニル炭素原子を含有する化合物である置換または非置
換の多核キノン側光ば９．１０−アントラキノン、１−
クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、２
−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノ／、
２− 第３級ブチルアントラキノン、オクタメチルアン
トラキノン、１．４−ナフトキノン、９．１０−７エナ
ントレンキノン、１．２−ベンズアントラキノン、２．
３−ベンズアントラキノン、２−メチル−１，４−す７
トキノン、２．３−ジクロロナフトキノン％１１４−／
メチルアントラキノン、２．３−ジメチルアントラキノ
ン、２−フェニルアントラキノン、２．５−ジフエニル
アントラキノン、アントラキノ−ンａ−スルホン酸のナ
トリウム場、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、
レチンキノン、７，８，９．ｉｏ−テトラヒドロナフタ
センキ、ノン、および１．２．３．４−テトラヒドロベ
ンズ（司アントラセン−７，１２−ジオンがあげら扛る
。８５℃の低い温度において熱的に活性であシうるＫし
てもなおこれまた有用なその他の光開始剤は米国特許第
２，７６０，８６３号明細書に記載されているが、これ
らとしては隣接ケトアルドニルアルコール例えばベンゾ
イン、ビバロイン、アシロインエーテル、例えばベンゾ
インメチルおよびエチルエーテルα−メチルベンゾイン
％ａ−アリルばンゾインおよびａ−フェニルベンゾイン
を含むα−炭化水素置換芳香族アシロインがあげらする
。米国特許第２．８５０，４４５号、同第２，８７５，
０４７号、同ＩＫ３，０９７，０９６号、同Ｗ、４０７
４．９７４号、同第へ０９ス０９７号および同第４１４
５，１０４号各明細書に開示の光還元性染料および還元
剤ならびに７エナジン、オキサジンおよびキノ゛ン群の
染料、ミヒラーのケトン、ベンゾフェノン、２，４．ｓ
−） リフェニルイミダゾリルニ量体例えば２−ｏ−
クロロフェニル−４，５−ジフェニルイミダゾリルニ量
体を水素ドナーと一緒にしたもの、および例えば米国特
許第へ４２４１６１号、同第！１．４７９．１８５号お
よび同第５．５４９，５６７号各明細書に記載のような
それらの混合物を開始剤として使用することができる。
その他の有用な添加剤としては熱重合阻害剤、着色剤、
可塑剤、充填剤その他があけらｎる。
可塑剤、充填剤その他があけらｎる。
成分のあるものは二重の役割で作用しうる。例えば単量
体結合剤系においてはエチレン性不飽和光重合性化合物
はまた熱可塑性結合剤に対する可塑剤としても作用しう
る。
体結合剤系においてはエチレン性不飽和光重合性化合物
はまた熱可塑性結合剤に対する可塑剤としても作用しう
る。
光重合性組成物中に使用しうる熱重合阻害剤はｐ−メト
キシフェノール、ヒドロキノンおよびアルキルおよびア
リール置換ヒドロキノンおよびキノン、’ｌｃｓ級ブチ
ルカテコール、ピロガロール、樹脂酸銅、ナフチルアミ
ン、−一す７トール、塩化第１銅ｔ２．６一ジ第５級ブ
チルーｐ−クレゾール、フェノチアジン、ピリジン、ニ
トロソニ書体例えば１，４．４− ）リフチル−２，５
−ジアゾビシクロ（３，２，２３−ノナ−エン−２，３
−ジオキシドニトロベンゼンおよびジニトロベンゼン、
ｐ−トルキノンおよびクロラニルである。
キシフェノール、ヒドロキノンおよびアルキルおよびア
リール置換ヒドロキノンおよびキノン、’ｌｃｓ級ブチ
ルカテコール、ピロガロール、樹脂酸銅、ナフチルアミ
ン、−一す７トール、塩化第１銅ｔ２．６一ジ第５級ブ
チルーｐ−クレゾール、フェノチアジン、ピリジン、ニ
トロソニ書体例えば１，４．４− ）リフチル−２，５
−ジアゾビシクロ（３，２，２３−ノナ−エン−２，３
−ジオキシドニトロベンゼンおよびジニトロベンゼン、
ｐ−トルキノンおよびクロラニルである。
種々の染料および顔料を加えてはんだレジスト偉の可視
性を増大させることができる。しかしながら使用さｎる
丁べての着色剤は好ましくは使用される活性線放射に透
明であるべきである。
性を増大させることができる。しかしながら使用さｎる
丁べての着色剤は好ましくは使用される活性線放射に透
明であるべきである。
前記に論じられているように１放射感受性光重合性エレ
メントの好ましい組成物ははんだマスクとして％に有用
である。それらは特に有利であるがその理由はそれらが
溶融はんだに対する抵抗性および難燃性をその他の性質
例えば露光後の可撓性、接着性、写真速度、電気絶縁性
および水分、熱および溶媒抵抗性のようなはんだレジス
トおよび即刷回路用永久コーティングとしてのレジスト
およびはんだマスク機能に対して要求される性質を犠牲
にすることなしに有しているからである。
メントの好ましい組成物ははんだマスクとして％に有用
である。それらは特に有利であるがその理由はそれらが
溶融はんだに対する抵抗性および難燃性をその他の性質
例えば露光後の可撓性、接着性、写真速度、電気絶縁性
および水分、熱および溶媒抵抗性のようなはんだレジス
トおよび即刷回路用永久コーティングとしてのレジスト
およびはんだマスク機能に対して要求される性質を犠牲
にすることなしに有しているからである。
このネガとして働く放射感受性光重合性組成物は、半水
性または水性現俸性または処理性組成物に対比して溶媒
現僧性または処理性である。
性または水性現俸性または処理性組成物に対比して溶媒
現僧性または処理性である。
以下の実施例は本発明を駅間するためのものであり、こ
こＫｌｊｉｔｉ特記していない限りは％である。
こＫｌｊｉｔｉ特記していない限りは％である。
例
次のストック溶液を使用して試験フィルムを製造した。
メチレンクロリド ２０＆０プロピル
）エーテル〕 ペンタエリスリトールトリアクリレート
１五４スチレン１１）ｆＩ４脂〕 タアクリレート（５１共噴合体〕 ｏｐ １９Ｙ（メチルメタクリレート（９２）
１．２／メタクリル酬８）〕 ベンゾフェノン ６・０ミヒラー
のケト７ ０．５５−メルカプトト
リアゾール α２ＲＭＰ−２５モナストラル
■グリーン顔料 ａ７種々の駿の異なる離
形剤を前記ストック溶液組成物に加えた。この溶液を次
いでα０１５インチのドクターナイフを使用してα００
１インチのポリエチレンテレフタレートフィルム上にコ
ーティングした。このフィルムｔａ乾させそしてα００
１インチのポリエチレンカバーシートをこのコーティン
グ上に積層させ友。
）エーテル〕 ペンタエリスリトールトリアクリレート
１五４スチレン１１）ｆＩ４脂〕 タアクリレート（５１共噴合体〕 ｏｐ １９Ｙ（メチルメタクリレート（９２）
１．２／メタクリル酬８）〕 ベンゾフェノン ６・０ミヒラー
のケト７ ０．５５−メルカプトト
リアゾール α２ＲＭＰ−２５モナストラル
■グリーン顔料 ａ７種々の駿の異なる離
形剤を前記ストック溶液組成物に加えた。この溶液を次
いでα０１５インチのドクターナイフを使用してα００
１インチのポリエチレンテレフタレートフィルム上にコ
ーティングした。このフィルムｔａ乾させそしてα００
１インチのポリエチレンカバーシートをこのコーティン
グ上に積層させ友。
テスト法
前記のようにして製造されたフィルムを１インチ×１０
インチの細長片に切っ九。ポリエチレンカバーシー）を
一方の端でコーティングから部分的に持ち上げ友。コー
ティングを有する↑ ポリエチレンテレフタレートフィルムを適当に目盛シし
たインストロン装置のジョー中Ｋｆｌｌｌ、そしてポリ
エチレンカバーシートを他方のジョーに取り付けた。こ
のコーティングから残余のポリエチレンを除去するに必
要とされる負荷を測定した。同様の方法で細長片からポ
リエチレンカバーシートを完全に除去し、そしてこのコ
ーティングを２インチ×１０インチ鋼パネルに熱ロール
積層させることＫよってポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの除去のための負荷音測定することができた。こ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを一端において
コーティングから持ち上けそしてこのコーティングｔ−
有−ｊる鋼板をインストロン装置のジョー中に入れた。
インチの細長片に切っ九。ポリエチレンカバーシー）を
一方の端でコーティングから部分的に持ち上げ友。コー
ティングを有する↑ ポリエチレンテレフタレートフィルムを適当に目盛シし
たインストロン装置のジョー中Ｋｆｌｌｌ、そしてポリ
エチレンカバーシートを他方のジョーに取り付けた。こ
のコーティングから残余のポリエチレンを除去するに必
要とされる負荷を測定した。同様の方法で細長片からポ
リエチレンカバーシートを完全に除去し、そしてこのコ
ーティングを２インチ×１０インチ鋼パネルに熱ロール
積層させることＫよってポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの除去のための負荷音測定することができた。こ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを一端において
コーティングから持ち上けそしてこのコーティングｔ−
有−ｊる鋼板をインストロン装置のジョー中に入れた。
ポリエチレンテレフタレートフィルムを他方のジョーに
結合させ、そしてこのポリエチレンテレフタレートの残
余の除去のための負荷ヲ御（定した。この負荷は前記に
使用された剥離力に相当する。
結合させ、そしてこのポリエチレンテレフタレートの残
余の除去のための負荷ヲ御（定した。この負荷は前記に
使用された剥離力に相当する。
種々の量のモナゾリン（Ｍｏｎａｇｏｌｉｎｅ■）ａｙ
＠加剤に対して次のデータが得らｎた。
＠加剤に対して次のデータが得らｎた。
０ １０６ ＞５００α５
９４ ＞５００１．０ ７６
ン５００２．０ ２６
６７４．０ ５ ８カバーシ
ートの離形（レリース）の改善においてこの方法の使用
によっては次の化合物が有用であった。
９４ ＞５００１．０ ７６
ン５００２．０ ２６
６７４．０ ５ ８カバーシ
ートの離形（レリース）の改善においてこの方法の使用
によっては次の化合物が有用であった。
モナゾリン■ＯＹ Ａ−カブリル
モナゾリン■ＴＡ−トール油脂肪酸からのアルキルモナ
ゾリン■ＯＡ−オレイル モナゾリン■ＯＡ−ココナツ油脂肪酸からのアルキル前
記４ｍの化合物に対するＢは１−ヒドロエチル−２−イ
ミダゾリニルである。
ゾリン■ＯＡ−オレイル モナゾリン■ＯＡ−ココナツ油脂肪酸からのアルキル前
記４ｍの化合物に対するＢは１−ヒドロエチル−２−イ
ミダゾリニルである。
デリファト（Ｄｅｒｉｐｈａｔ”）１５１ Ｂ−−Ｎ
ＨＣ）＋２０Ｈ２０００ｅＮａΦＡ＝ココナツ油脂肪酸
から９ アルキル 特許出願人 イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
・アンド・コンパ二一
ＨＣ）＋２０Ｈ２０００ｅＮａΦＡ＝ココナツ油脂肪酸
から９ アルキル 特許出願人 イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
・アンド・コンパ二一
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）印刷回路製造に有用なネガとして働く光重合性組成
物の４ ｋ有する支持体と、カバーシートとを包含して
おり而して前記組成物がａ）常圧で１００℃以上の沸点
を有する少くとも１種の付加重合性エチレン性不飽和化
合物、 ｂ）スペクトルの紫外部ないし可視部の活性線放射によ
り活性化さｎうる有機遊離ラジカル生地性付加重合開始
剤および Ｃ）ＩＩＩＩ分子量有機重合体結合剤 を包含している溶媒現像性のネガとして働く放射感受性
光重合性エレメントであって、前記の組成物をカバーシ
ートから容易Ｋ１１ｌ脱可能とする目的のために式Ａ−
Ｂ（式中、Ａは６〜２４個の炭素原子を含有する置換ま
たＬ非置換のアルキルまたはアルケニルであシ、そして
ＢはＮ、 Ｏ１８また祉それらの組合せからとった２個
または５個のへテロ原子を含有する５〜６原子の芳香族
性ま次は非芳香族性複累積基（これは場合によシロ個の
炭素原子をもつ融合芳香３ｊＩを含有している）、また
は−一アオノカルボン酸のアルカリ金ＪＩＩ塙゛または
β、７３１−７ミノジカルボン酸のビスアルカリ金属塩
である〕の離形作用化合物また祉その混合物を７５ｆよ
ｐ大ならざる値に剥離力を低下させるに充分な有効量で
前記のネガとして働く光重合性組成物中に存在せしめ九
ことｔ−特徴とする、改善された放射感受性光重合性エ
レメント。 ２） Ａが６〜２４個の炭素原子を含有する直鎖状ア
ルキルまたは直鎖状アルケニルであシ、Ｂが１−ヒドロ
キシエチル−２−イミダゾリニル、ナトリウムプロピオ
ン−２−イル７ミノ％またはビス−（ナトリウムプロピ
オン−２−イル）−イミノである前記特許請求の範囲第
１項記載のエレメント。 ３） Ａが６〜８個の炭票凍子ｔ−を有している前記
特許請求の範囲ｗｃ１または２項記載のエレメント。 ４） Ｂが１−ヒドロキシエチル−２−イミダゾリニ
ルである前記特許請求の範囲第１またけ２項記載のエレ
メント。 ５）ムがカプリル、オレイン、トール油脂肪険から導か
れたアルキルまたはココナツ油脂肪酸から導かれたアル
キルである前記特許請求の範囲第１または２ｊＪ！記載
のエレメント。 ６） Ｂが１−とドロキシエチル−２−イミダゾリニ
ル−ナトリウムプロピオン−２−イルアミノまたはビス
−（ナトリウムプロピオン−２−イル）−イミノである
前記特許請求の範囲第１璃記載のエレメント。 ７）前記離形作用化合物または混合物を１〜１０重景％
量で前記のネガとして働く光重合性組成物中に存在させ
る前記特許請求の範囲１Ｆ！１またＦ！、２ｇ４記載の
エレメント。 ８）前記離形作用化合物または混合物を１〜５重量％量
で存在させる、前記特許請求の範囲第１またけ２項記載
のエレメント。 ９）前記離形作用化合物または混合物を２〜４重量％量
で存在させる前記特許請求の範囲第１１九は２項記載の
エレメント。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US35870282A | 1982-03-16 | 1982-03-16 | |
| US358702 | 1982-03-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58169144A true JPS58169144A (ja) | 1983-10-05 |
Family
ID=23410695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4161183A Pending JPS58169144A (ja) | 1982-03-16 | 1983-03-15 | 光重合性エレメント |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0089041B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58169144A (ja) |
| DE (1) | DE3374717D1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7282272B2 (en) | 2003-09-12 | 2007-10-16 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable compositions comprising nanoparticles |
| US7289202B2 (en) | 2004-09-10 | 2007-10-30 | 3M Innovative Properties Company | Methods for testing durable optical elements |
| US7074463B2 (en) | 2003-09-12 | 2006-07-11 | 3M Innovative Properties Company | Durable optical element |
| KR20070103033A (ko) | 2005-02-17 | 2007-10-22 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 낮은 유리 전이 온도를 가진 중합된 유기 상을 포함하는밝기 증진 필름 |
| US7326448B2 (en) | 2005-02-17 | 2008-02-05 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable oligomeric urethane compositions comprising nanoparticles |
| US20060204676A1 (en) | 2005-03-11 | 2006-09-14 | Jones Clinton L | Polymerizable composition comprising low molecular weight organic component |
| US7400445B2 (en) | 2005-05-31 | 2008-07-15 | 3M Innovative Properties Company | Optical filters for accelerated weathering devices |
| TWI816671B (zh) | 2017-04-25 | 2023-10-01 | 德商馬克專利公司 | 用於產生底切圖樣輪廓之負型光阻調配物以及使光阻組合物成像之方法和用於使基板上之圖樣化光阻劑金屬化之剝離方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS509177A (ja) * | 1973-05-29 | 1975-01-30 | ||
| JPS5675642A (en) * | 1979-11-05 | 1981-06-22 | Hercules Inc | Improved photoresist composition |
| JPS5796332A (en) * | 1980-10-06 | 1982-06-15 | Du Pont | Light copolymerizing element |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE639767A (ja) * | 1962-11-13 | |||
| US3622334A (en) * | 1969-12-31 | 1971-11-23 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and elements containing heterocyclic nitrogen-containing compounds |
| DE2529054C2 (de) * | 1975-06-30 | 1982-04-29 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes |
-
1983
- 1983-03-12 DE DE8383102470T patent/DE3374717D1/de not_active Expired
- 1983-03-12 EP EP19830102470 patent/EP0089041B1/en not_active Expired
- 1983-03-15 JP JP4161183A patent/JPS58169144A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS509177A (ja) * | 1973-05-29 | 1975-01-30 | ||
| JPS5675642A (en) * | 1979-11-05 | 1981-06-22 | Hercules Inc | Improved photoresist composition |
| JPS5796332A (en) * | 1980-10-06 | 1982-06-15 | Du Pont | Light copolymerizing element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3374717D1 (en) | 1988-01-07 |
| EP0089041A1 (en) | 1983-09-21 |
| EP0089041B1 (en) | 1987-11-25 |
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