JPS58175632U - レジスト塗布装置 - Google Patents

レジスト塗布装置

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Publication number
JPS58175632U
JPS58175632U JP7335382U JP7335382U JPS58175632U JP S58175632 U JPS58175632 U JP S58175632U JP 7335382 U JP7335382 U JP 7335382U JP 7335382 U JP7335382 U JP 7335382U JP S58175632 U JPS58175632 U JP S58175632U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist coating
rotary table
suction plate
coating equipment
semiconductor wafer
Prior art date
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Pending
Application number
JP7335382U
Other languages
English (en)
Inventor
久雄 森
辻野　嘉一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP7335382U priority Critical patent/JPS58175632U/ja
Publication of JPS58175632U publication Critical patent/JPS58175632U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のレジスト塗布装置の平面図、第２図以下
の図面はこの考案のレジスト塗布装置の　　　　゛１実
施例を示し、第２図は平面図、第３図は正面図、第４図
および第５図は要部の側面図および斜視図である。 ７・・・・・・回転台、１０・・・・・・半導体ウェハ
、１５・・・・・・吸着板、１７・・・・・・調節機構
。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体ウェハが載置される回転台と、前記回転台の外周
    に設けられレジスト塗布時に前記半導体ウェハより飛散
    するレジストを吸着する吸着板と、前記吸着板を着脱自
    在に支持するとともに該吸着板の前記回転台に対する角
    度および間隔を調節自在とする調節機構とを備えたレジ
    スト塗布装置。
JP7335382U 1982-05-18 1982-05-18 レジスト塗布装置 Pending JPS58175632U (ja)

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JP7335382U JPS58175632U (ja) 1982-05-18 1982-05-18 レジスト塗布装置

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JP7335382U JPS58175632U (ja) 1982-05-18 1982-05-18 レジスト塗布装置

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JPS58175632U true JPS58175632U (ja) 1983-11-24

Family

ID=30082863

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JP7335382U Pending JPS58175632U (ja) 1982-05-18 1982-05-18 レジスト塗布装置

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