JPS58176603A - 照射用試料箱装置 - Google Patents
照射用試料箱装置Info
- Publication number
- JPS58176603A JPS58176603A JP5966582A JP5966582A JPS58176603A JP S58176603 A JPS58176603 A JP S58176603A JP 5966582 A JP5966582 A JP 5966582A JP 5966582 A JP5966582 A JP 5966582A JP S58176603 A JPS58176603 A JP S58176603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- irradiation
- intensity
- sample box
- box device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は分光器用照射装置に係秒、特に試料に照射等に
使用するに好適な照射用試料箱装置に備えた光量絞り装
置に関する。
使用するに好適な照射用試料箱装置に備えた光量絞り装
置に関する。
生体試料、植吻、微生物などに単色光を照射して、これ
らの試料の光反応を研究す゛るための分光照射装置とし
て、単色光の強度を増すための強力な連続光光源と、大
形の分光器を用意して、この分光器で分散され九スペク
トルの焦点面に被検試料を設置し、所望の単色光を照射
する方法が用いられる。この目的のために用いられる照
射分光器は入射スリットと離れた位置にスペクトル焦点
面を形成するモンク・ギリーソｙ形分光器で構成される
。このスペクトル焦点面に設置される照射用試料箱装置
は所望の単色光以外の光の干渉を防ぐため、光＊ａ込み
用の入射スリットの付いた暗箱で構成され、との暗箱内
には試料を封入することは勿論、高次カットフィルタ、
光量測定用の検知器および増幅器、最適光量を得るため
の光量調節用絞り機構等で構成されている。
らの試料の光反応を研究す゛るための分光照射装置とし
て、単色光の強度を増すための強力な連続光光源と、大
形の分光器を用意して、この分光器で分散され九スペク
トルの焦点面に被検試料を設置し、所望の単色光を照射
する方法が用いられる。この目的のために用いられる照
射分光器は入射スリットと離れた位置にスペクトル焦点
面を形成するモンク・ギリーソｙ形分光器で構成される
。このスペクトル焦点面に設置される照射用試料箱装置
は所望の単色光以外の光の干渉を防ぐため、光＊ａ込み
用の入射スリットの付いた暗箱で構成され、との暗箱内
には試料を封入することは勿論、高次カットフィルタ、
光量測定用の検知器および増幅器、最適光量を得るため
の光量調節用絞り機構等で構成されている。
この照射用試料箱装置における光量絞り装置は縦絞妙に
よって光量調節を行なう、この縦絞袷と光量の関係は、
縦絞し幅Ｗと絞秒の高さＨとし九ときの光量Ｅとすれば
、Ｅ＆：Ｈ−Ｗに比例した関係式が成勢立つ％仁の関係
式によ秒、絞りの幅の広い所と狭い所での光量の変化量
の割合は同一の変化量の割合で光量φ！変化する。これ
をサーボ系によって光量を一定に制御するとすれば、狭
い方での縦絞り幅の変化量に対して、光量は大きく変化
する。ま九縦絞抄広い位置ではわずかな光ｉ変化ですむ
ものである。ｉｉい替えれば、萌者は狭い所での動作は
ループゲインの上った状態になりハンチングしやすい、
またハンチングをおさえると後者の動作はループゲイン
を下がった状態を示し、応答速度を悪く、再現性にとぼ
しい。
よって光量調節を行なう、この縦絞袷と光量の関係は、
縦絞し幅Ｗと絞秒の高さＨとし九ときの光量Ｅとすれば
、Ｅ＆：Ｈ−Ｗに比例した関係式が成勢立つ％仁の関係
式によ秒、絞りの幅の広い所と狭い所での光量の変化量
の割合は同一の変化量の割合で光量φ！変化する。これ
をサーボ系によって光量を一定に制御するとすれば、狭
い方での縦絞り幅の変化量に対して、光量は大きく変化
する。ま九縦絞抄広い位置ではわずかな光ｉ変化ですむ
ものである。ｉｉい替えれば、萌者は狭い所での動作は
ループゲインの上った状態になりハンチングしやすい、
またハンチングをおさえると後者の動作はループゲイン
を下がった状態を示し、応答速度を悪く、再現性にとぼ
しい。
以上の様な縦絞り機構を用いた光量調節は必ずアンバラ
ンスのルーズゲインをもつことになる。
ンスのルーズゲインをもつことになる。
またダイナミレクレンジのも丸増幅器を用いることは高
価なものとなるという欠点がある。
価なものとなるという欠点がある。
本発明は上記の欠点をなくシ、わずかな光量変化に対し
て敏速なサーボ系をもった絞り機構を効果的に発揮させ
ることにより、良好でかつ安価でできるサーボ系をもっ
た光量絞り装置を提供するにある。
て敏速なサーボ系をもった絞り機構を効果的に発揮させ
ることにより、良好でかつ安価でできるサーボ系をもっ
た光量絞り装置を提供するにある。
本発明は光量の変化分を光量絞りで調節する上で、従来
の方法では、サーボ系のループゲインをアンバランスに
なることを解消する手段として、絞り機構に縦絞りと横
絞り機構を常に連動させることＫよって、光量Ｆｉ２乗
特性に乗つ九サーボ系で光量絞りを調節される０以上の
ことからサーボ系は安定したサーボ系を構成し、応答速
度の良い光量絞り装置にし友ものである。
の方法では、サーボ系のループゲインをアンバランスに
なることを解消する手段として、絞り機構に縦絞りと横
絞り機構を常に連動させることＫよって、光量Ｆｉ２乗
特性に乗つ九サーボ系で光量絞りを調節される０以上の
ことからサーボ系は安定したサーボ系を構成し、応答速
度の良い光量絞り装置にし友ものである。
第１図は、本発明の一実施例である照射用試料箱装置の
機能を説明する図である・ 分光器で分散されたスペクトルは焦点面上へ結線し喪単
色光を照射用試料箱装置１の入射口２に入射される。単
色光は高次カットフィルタ３を介して光量を調節する絞
炒機構に−ｍる。
機能を説明する図である・ 分光器で分散されたスペクトルは焦点面上へ結線し喪単
色光を照射用試料箱装置１の入射口２に入射される。単
色光は高次カットフィルタ３を介して光量を調節する絞
炒機構に−ｍる。
一方主制制装置は設定された実験条件を照射用試料箱装
置１へ波長、スリット、光強度、総光景−等を通信によ
って転送されます、照射用試料箱装置ｔＩＩ／ｉ与えら
れ九波長に対応し九フィルター３の選択を行う０次に光
強度の設定は第１検知器６により所定の光強度が得られ
るように絞り機構である縦絞り４と横絞り５を調節され
ます。以上の設定の実験条件にし九がって、照射用試料
箱装置１は自動的に光強度に達するまで調節されます、
調整完了の信号を主制御装置６１へ転送し、主制御装置
６１は照射プログラムの管理による実験開始信号を照射
用試料箱装置１へ転送される。照射用試料箱装置１はシ
ャッタ８を開にし、試料３７に照射される。１！た照射
中の光強度は常に一定の光強度を保つために、第２検知
器４０によって照射中の光強度を管理する絞秒機構を制
御するものである。一方照射実験終了の処理は主制御装
置と照射用試料箱装置１の内部のタイマーによって、別
々に照射時間を管理する。管理の仕方は主制御装ｒ１１
．６１と照射用試料箱装置１の実験終了指令のＯＲ条件
をもって実験終了とする。
置１へ波長、スリット、光強度、総光景−等を通信によ
って転送されます、照射用試料箱装置ｔＩＩ／ｉ与えら
れ九波長に対応し九フィルター３の選択を行う０次に光
強度の設定は第１検知器６により所定の光強度が得られ
るように絞り機構である縦絞り４と横絞り５を調節され
ます。以上の設定の実験条件にし九がって、照射用試料
箱装置１は自動的に光強度に達するまで調節されます、
調整完了の信号を主制御装置６１へ転送し、主制御装置
６１は照射プログラムの管理による実験開始信号を照射
用試料箱装置１へ転送される。照射用試料箱装置１はシ
ャッタ８を開にし、試料３７に照射される。１！た照射
中の光強度は常に一定の光強度を保つために、第２検知
器４０によって照射中の光強度を管理する絞秒機構を制
御するものである。一方照射実験終了の処理は主制御装
置と照射用試料箱装置１の内部のタイマーによって、別
々に照射時間を管理する。管理の仕方は主制御装ｒ１１
．６１と照射用試料箱装置１の実験終了指令のＯＲ条件
をもって実験終了とする。
本実施例による照射用試料箱装置１内部の機能は上記の
説明の構成からできている。
説明の構成からできている。
本実施例によれば、光強度を一定に保って、尚かつサー
ボ系の応答速度を速くし分解能を向上させる手段として
下記に示す。
ボ系の応答速度を速くし分解能を向上させる手段として
下記に示す。
光量を調節する絞り機構である縦絞りと横絞りをもうけ
て、同時に両絞りを等間かく等速度で作動させることＫ
よって、光量は２乗特性の４った光量変化を示すもので
ある。すなわち光強度Ｅを得るために、絞り幅値Ｗとす
れば、ｌ、ｃｙ−Ｗ”の関係式が成り立つことになる。
て、同時に両絞りを等間かく等速度で作動させることＫ
よって、光量は２乗特性の４った光量変化を示すもので
ある。すなわち光強度Ｅを得るために、絞り幅値Ｗとす
れば、ｌ、ｃｙ−Ｗ”の関係式が成り立つことになる。
上記の関係式から、絞り幅の広い方の位置において光量
の変化量は大きく齋化する。また狭い幅における光量の
変化量は少なくてすむことになる。
の変化量は大きく齋化する。また狭い幅における光量の
変化量は少なくてすむことになる。
したがって、サーボ系は理想的なサーボアンプを提供す
る上で狭い方の変化量は・小さくゲインを上げることが
出来るまた広い方では応答速度とゲインの変化量が大き
いのでゲインを下げて最適値を設定することが容鳥にで
きる０以上の結果に畦り両方でバランスのとれ九サーボ
系が出来る屯のである。
る上で狭い方の変化量は・小さくゲインを上げることが
出来るまた広い方では応答速度とゲインの変化量が大き
いのでゲインを下げて最適値を設定することが容鳥にで
きる０以上の結果に畦り両方でバランスのとれ九サーボ
系が出来る屯のである。
以上の２乗特性のもった絞り機構を作動する手段として
、縦絞りと横絞秒の動きの関係を下記に示す。
、縦絞りと横絞秒の動きの関係を下記に示す。
光強度Ｅとしたとき、゛絞秒幅値をＷとすれば、下記の
関係式が成秒立り・ Ｅ＝ＣＷ（Ｃは一定） ・−・・・・・・・ （１）但
し、１つの絞りの動きを示す。
関係式が成秒立り・ Ｅ＝ＣＷ（Ｃは一定） ・−・・・・・・・ （１）但
し、１つの絞りの動きを示す。
例えば、現時点の光強度−をＥｌとなったとき、絞り幅
値Ｗ１となる。但し、試料に照射光強度Ｅｌ ６を設定
されたとき、絞り幅Ｗは次のようになる。
値Ｗ１となる。但し、試料に照射光強度Ｅｌ ６を設定
されたとき、絞り幅Ｗは次のようになる。
（２）式を置き替えると、
となる。
このとき、光強度Ｅ・の条件設定に対して、光強度が変
動したと仮定すると Ｅｏ＝Ｅｔ＋ΔＥ ・・・・・・・・・ （４）（４）
式の光強度となる。このときの絞り幅値は下記に示す。
動したと仮定すると Ｅｏ＝Ｅｔ＋ΔＥ ・・・・・・・・・ （４）（４）
式の光強度となる。このときの絞り幅値は下記に示す。
（５）式を代替えすると
Ｗ＝Ｗｔ＋ΔＷ ・・・・・・・・・ （６）但し
光強度Ｅ０が設定され九ときの絞り幅の変動分は
但し、（４）式よりΔＥ＝Ｅｏ −Ｅｓすなわち、光強
度Ｅｏ Ｋ対して、設定値に追尾すべき絞抄幅値を（７
）式に示すものである。
度Ｅｏ Ｋ対して、設定値に追尾すべき絞抄幅値を（７
）式に示すものである。
以上の結果により絞り機構を縦絞と横絞りを同時に作動
させるのには各々について１／２の動作をすれば良いこ
とである。
させるのには各々について１／２の動作をすれば良いこ
とである。
したがって、縦絞りと横絞りは下記の関係式により表わ
せられる。
せられる。
上記の関係式にもとすいて、照射用試料箱装置は照射強
度をモニタしながら、実験条件値である光強度とモニタ
した光強度を（９）弐にあてはめて演算される。その結
果を縦絞りと横絞り等の機構に入力される。この入力値
により各絞りは２乗特性のもったサーボ系で絞ね機構が
動作する。
度をモニタしながら、実験条件値である光強度とモニタ
した光強度を（９）弐にあてはめて演算される。その結
果を縦絞りと横絞り等の機構に入力される。この入力値
により各絞りは２乗特性のもったサーボ系で絞ね機構が
動作する。
本発明の実施例によれば、照射用試料箱装置に設定され
た条件に対して、従来のものよ抄１００倍位向としたた
め、光強度は約３桁以上の絶対精度をよみとることがで
きる。また絞り機構のサーボ系のレスポンスは３〜４倍
位向上できる照射用試料箱装置に備え九光量絞り装置を
提供するものである。
た条件に対して、従来のものよ抄１００倍位向としたた
め、光強度は約３桁以上の絶対精度をよみとることがで
きる。また絞り機構のサーボ系のレスポンスは３〜４倍
位向上できる照射用試料箱装置に備え九光量絞り装置を
提供するものである。
第１図は本発明の一実施例である照射用試料箱装置の機
能説明図、第２図は本発明の一実施例である照射用試料
箱装置のシステム説明図である。 １・・・照射用試料箱装置、２・・・入射口、３・・・
高次カットフィルタ、４・・・縦絞り、５・・・横絞り
、６・・・検知器、７・・・増幅器、８・・・シャッタ
ー、４０・・・検知器、１４・・・増幅器、３７・・・
試料、３６・・・試料容器、１０・・・レンズ、１１平
面鏡、１２・・・半透鏡、２０・・・試料箱設置台、３
０・・・単色光、４５〜４５′・・・コネクタ、４２・
・・制御部、１３・・・レンズ、５０・・・絞りサーボ
アンプ、５１・・・スリットサーボアンプ、５２・・・
フィルタ駆動部、５４・・・リレ、５５・・・Ａ／Ｄ７
ＲＦ！８器、５６・・・Ｄ／Ａ変換器、５７・・・Ｄ／
Ａ変換器、５８ａ・・・出力変換器、５９・・・マイク
ロプロセサー、６０・・・コミニケションＩ／Ｆ、６１
・・・主６１０ ＃Ｚ１７１
能説明図、第２図は本発明の一実施例である照射用試料
箱装置のシステム説明図である。 １・・・照射用試料箱装置、２・・・入射口、３・・・
高次カットフィルタ、４・・・縦絞り、５・・・横絞り
、６・・・検知器、７・・・増幅器、８・・・シャッタ
ー、４０・・・検知器、１４・・・増幅器、３７・・・
試料、３６・・・試料容器、１０・・・レンズ、１１平
面鏡、１２・・・半透鏡、２０・・・試料箱設置台、３
０・・・単色光、４５〜４５′・・・コネクタ、４２・
・・制御部、１３・・・レンズ、５０・・・絞りサーボ
アンプ、５１・・・スリットサーボアンプ、５２・・・
フィルタ駆動部、５４・・・リレ、５５・・・Ａ／Ｄ７
ＲＦ！８器、５６・・・Ｄ／Ａ変換器、５７・・・Ｄ／
Ａ変換器、５８ａ・・・出力変換器、５９・・・マイク
ロプロセサー、６０・・・コミニケションＩ／Ｆ、６１
・・・主６１０ ＃Ｚ１７１
Claims (1)
- １、連続スペクトルを発生する光源と、この光源の光を
入射スリットより導入してスペクトル焦点面を形式する
分光器と、上記スペクトル焦点面に設置して単色光を導
入する照射用試料箱装置を有する分光照射装置において
、上記スペクトル焦点向上に照射用、試料箱装置を設置
し、光強度の調節を縦絞りと横絞秒機構により２乗特性
に値付けるように上記絞りを同時に作動させることを特
徴とする照射用試料箱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5966582A JPS58176603A (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | 照射用試料箱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5966582A JPS58176603A (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | 照射用試料箱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58176603A true JPS58176603A (ja) | 1983-10-17 |
Family
ID=13119714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5966582A Pending JPS58176603A (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | 照射用試料箱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58176603A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5570224A (en) * | 1993-04-08 | 1996-10-29 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus |
| JP2014210018A (ja) * | 2013-04-18 | 2014-11-13 | パイオニア株式会社 | 生体装置 |
-
1982
- 1982-04-12 JP JP5966582A patent/JPS58176603A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5570224A (en) * | 1993-04-08 | 1996-10-29 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus |
| JP2014210018A (ja) * | 2013-04-18 | 2014-11-13 | パイオニア株式会社 | 生体装置 |
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