JPS58180236A - ヒドロホルミル化触媒の回収方法 - Google Patents

ヒドロホルミル化触媒の回収方法

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JPS58180236A
JPS58180236A JP57062374A JP6237482A JPS58180236A JP S58180236 A JPS58180236 A JP S58180236A JP 57062374 A JP57062374 A JP 57062374A JP 6237482 A JP6237482 A JP 6237482A JP S58180236 A JPS58180236 A JP S58180236A
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cobalt
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glycol
tertiary
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JP57062374A
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雅巳 安達
Shinichiro Takigawa
滝川 進一朗
Shuzo Araya
新家 修造
Hiroyuki Yamazaki
博幸 山崎
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Nissan Chemical Corp
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 在下すレフイン又はオレフィ/とアルデヒドの混合物1
m料としてヒドロホルミル化及び水素化反応を同時に行
ないアルコールに製造するいわゆるコバルト・修飾ヒド
ロホルミル化反応に於いて反応生成物とコバルト−第三
級ホスフィン触媒との分離法にかかわるものである。オ
キソアルコールは近年可塑剤原料、洗剤原料、農薬、医
薬並びに食品添加物等の中間原料及び各横溶剤として消
費され安定した商費を示している。ヒドロホルεル化反
■Il;技術は、こ\1o年米各社が競って技術改良を
加え、多くの新規な触媒が開発されている。
特に近年の石油原料事情の悪化は石油より4がi6原料
の原単位向上、グロセスの省エネルキー化に拍単をかけ
ている。
コバルトを触媒とするとドロホルミル化法としては単純
コバルト法とコバルト修飾法があり。
両者ともそれぞれの%徴を有している。
コバルト修飾法は単純コバルト(例えばヒドロコバルト
カルボニル、及びンコバルトオクメヵルボニル等のコバ
ルトカルボニル化合物)に第三級ホスフィンを添加し9
通常オレフィンがら1 段T 7 ル:ff −ルを製
造するプロセスである。
このコバルト修飾法はアルコールへの選択率が比較的高
く、アルデヒドの水素化上程が省略される為エネルギー
的には有利な方法である。
しかしこの方法は高価な第三級ボスフィンを大址に使用
する上に高沸点副生物゛の生成が避けられず、これらが
コバルト−第三級“ホスフィ/触媒を反応糸で循環使用
する除徐々に@檎するといった問題がおこる。この為コ
バルトー第三級ホスフィ/触媒を循環使用するに従いコ
バルト−第三級ホスフィ/触媒及び鳩沸点副生物の混合
物の一5t−反応系外に抜き出す必要があった。
高価な第三級ホスフィン、コバルト−第三級ボスフィン
触媒の廃棄は経済的に不利であり、できるだけ避ける必
要がある。
従来、コバルト−第三級ボスフィン触媒の分離回収法と
してはメタノールの様な惟注浴媒中。
−噴化炭素の加圧条件ド(co<co)s <phs)
2j” L○Qの溶媒を回収便用しなくてはならず工業
的に有利な方法とは云えない。又コバルトー第三級ホス
フィン触媒を水素化分解し、コバルト金属−と属の反応
器への付着があり有利な方法ではない。
本発明者らはコバルト−第三級ホスツイン触媒と反応生
成物の分離に関し−々検肘を行ない本発明にいたった。
即ちA貿による分離法は工業化プロセスに組込み易い方
法ではあるが、コバルト−第三級ホスフィン触媒全分解
させずに高沸点′副生物を分離するには高真空度に保つ
必要があり(例えばl I MHy以下)実装置適用に
は困難がともなう。工業的に谷易な真空度(例えば1〜
10 ruaHy )で蒸w倉行なうと、蒸留温度を高
(せざるt得すコバルト−第三級ホスフィ/触媒の分解
を引きおこす。本発明者らはこの1城によるコバルト−
第三級ホスフィ/触媒の回収法全検討するなかでコバル
ト−第三級ホスフィン触媒の分解は蒸留温度とA留時の
残存アルコール量との間に密接な関係があり、150℃
以上では蒸留缶残中のアルコール濃度が1%以下になる
とコバルト−第三級ホスフィ/触゛媒が分解する事実を
発見した。
そこで、ヒドロホルミル化反応生成物の蒸留時に第三級
ホスフィンよりも沸点が低く、かつ高沸点副生物よりも
沸点の高い含酸素化合物1に溶媒として添加し、蒸留を
行なったところ驚くべき事に目的とするアルコールを完
全に留出させてもコバルト−第三級ホスフィ/触媒は安
定に存在し、かつ高沸点#jJ1生物の大部分も留出し
てコバルト−第三級ホスフィン触媒との分離が可能であ
ることを見出した。蒸留分4I後の、コバルト−第三級
ホスフィン触媒を含む缶残の赤外吸収スペクトルを測定
した所19071J&−’ 、19571−1にそれぞ
れ[Co(Co)、 PR1〕2 、[CO(CO)2
(PRg)J2に対応するカルボニルの吸収が充分な電
鍵をもって観察された。史にこのコバルト−第三e 、
v。
スフィン触媒を含む蒸留缶残をオレフィン及びアルデヒ
ド存在下の反応系内に所定の触媒濃度になる様にもどし
て反応を行なわせた所、!#シい触媒と全く同等のrh
性を持つと共に反応に何ら悪影響を及ぼさない事が分っ
た。
従って本発明の蒸w法に工ろヒ、ドロホルミル化反応生
成物中の生成アルコールとコバルト−第三級ホスフィ/
触媒の分離及び触媒の回収方法の適用範囲は広い。
するアルコールとの沸点の関係で選ばなくては穐 父はR,’x=R2\R3で良(R+ * Rz + 
Rsの−っ又は全部が炭素数4以上のアルキル基、ンク
ロアルキル基、芳香族)で表わされる第三級ホスフィン
を用いることができる。又一般式(El(Rは炭素数1
〜20のアルキル基)で表わされる8貝環ホスフインも
使用可能である。
配位子として加える第三級ホスフィ/とコバルトのモル
比は第三級ホスフィン/コバルト〉1であれば反応生成
物の蒸留には殆んど悪影響はない。
原料Vこは特に規制はないが、炭素数3〜20のオレフ
ィン又はアルデヒドが望ましい。
溶媒として加える含酸素化合物は原料オレフイ/、アル
デヒドよりの反応生成物の沸点、第三級ホスフィンの沸
点によって厳密に選ぶ必焚がある。高沸点副生物の分離
及びコバルト−第三級ホスフィ/触媒の安定化の為には
グリコール類、エーテル化合物、アルコール類、クラウ
ンエーテル化合物等の含酸素化合物が有効である。
例、tifヘキサデカノール、オクタデカノール等の炭
素数16〜50の飽和−級アルコール、エチレ/クリコ
ール、ノエチレンクリコール、テトラエチレノグリコー
ル、プロビレ/グリコール、トリグロビレノグリコール
9.にリエチレ/グリコール200,300,400.
6011等のグリコール化合物、エチレングリコールア
ルキルエーテル、シエチレ/グリコールアルキルエーテ
ル、トリエチレングリコールアルキルエーテル、テトラ
エチレンクリコールアルキルエーテル等のモノ、及びジ
エーテル化合物、18−クラウン−6、ン/クロヘキ/
ルー18−クラウン−6、/ベンゾー18−クラウン−
6等のクラウンエーテル化合物が使用できる。
溶媒とコバルトのモル比は、溶媒/コバルト)1で・あ
れば溶媒をいくら加えてもさしつかえないが、蒸貿塔の
#i済的な運転の兇地から溶媒/コバルト=1〜aカW
1*I、い。
〔原料調製〕
ゾロビレ/ダイマー(組FIt:2−メチルペンテt2
コバルトオクタカルボニル全触媒としてヒドロホルミル
化反応を行なわせ生成物(組成:ヘキサン15%、未反
応ヘキセン10%、ヘプタナール8′!L5%、ヘグタ
ノール3%、高沸点−生物2%)を得た。以下の実施例
ではこの反応生成物t−原料という。
〔実施例−1〕 原料1〜を51ステンレス製上丁撹拌式オートクレーブ
に仕込み、ンコバルトオクメカルホニル1 t6yを溶
解させた後ト1) −n−オクチルホスフィ750を金
番加し充分に攪拌した波に水X/−酸化炭巣−2なるガ
スを仕込み” ’%’cd(ゲージ)190〜200℃
で2時間反応を有なった。反応生tii、物の組成はへ
キサ762%。
ヘキセ/トレース、ヘプタカール02%、へ7−タノー
ル892%、トリn−オクチルホスフィ/とコバルト−
トリn−オクチルホスツイン触媒合1i 315.6%
、高沸点則生wts%であり。
〔実施例−2〕 実施例−1で得た反応生成物iouン1−tAmフラス
コにとり、テトラエテレ/グリコールム5r’2株加す
る。
全糸1r500 MHyに減圧して、ヘキサン、ヘキセ
ン類を除去し死後全系を51nlllHj’まで減圧後
加熱を開始した。
S留缶温度が70℃付近からヘプタツールが留出し始め
180℃になるまで蒸Wt行なった。
−出版は942tであり、その組成はへキサン54%、
ヘプタナールα2%、ヘプタツール947%、高沸点−
生物t7%、蒸留缶残は932であり組成はテトラエチ
レングリコール6Z6%、)lJn−オクチルホスフィ
ンとコバルト−トリn−オクチルホスフィン触媒合1t
160゜2%、高沸点副生物22%であった。
蒸留中におけるコバルト−トリn−オクチルホスフィン
触媒の分解はなく蒸留缶残の4部tとり赤外吸収スペク
トルを測定したところ1902(IL−’ 、 195
0J&−’に[co(co)、pR,、]、 〔Co(
CO)、(Pに)2〕2に由来する吸収が認められた。
回収したコバルト−トリn−オクチルホスフィ/触媒1
kiむ蒸留缶残9.5fをとり原料90tK混合し実施
ガ1と同様な操作を行なった所2時間後にオレフィ/転
化率99.0%、水添率998%となり実施例−1と同
様な反応活性を示した。
〔実施例−6〕 実施例−1で得た反応生成物1007を蒸留フラスコに
とり、ポリエチレングリコール400゜1α7tを6加
した。以後の操作は実施例−2と同様に行なった。留出
液は959vであった。
留出液の組成はへキサ/五3%、ヘキセ70.8%、ヘ
プタ方−ル0.2%、ヘグタノール956%、ホlJエ
チレングリコール4002.1%。
高沸点副生物14%であった。
蒸留缶残は1482であった。蒸゛留缶残の組成はトリ
n−オクチルホスフィンとコバルト−トリn−オクチル
ホスフィノ触媒合計thjt57.8%物14%となっ
た。蒸留中でのコバルト−トリ留缶残の赤外吸収スペク
トルも19U2L鼻−灯こ強い吸収を示した。回収した
コハル) −ト1) n −オクチルホスフィ/触媒を
含む蒸鴇缶残148tをと9.原料85?に混合し実施
例−1と同様な操作を行り要所、2時間後にヘキセ/転
化率99.5%、水添率99.8%となり実施例−1と
同様な反応活性を示した。
〔比較例〕
実施例−1で得た反応生成物100fを蒸留フラスコに
とり、Sat加えずに実施例−2と同様な条件で蒸留し
た。
蒸留缶温度が160℃を越えたあたりからコバルト−ト
リn−オクチルホスフィン触媒の分解が−められ、fI
Lが紫色から緑色に変色した。
留出液は92.7fでその組成はヘキサ745%ヘプタ
ナールα2%、ヘプタツール962%。
鳥沸点閤生物(11%てあった。蒸留缶残は7.52で
あり組成は析出金属コバル)、1Jn−オクチルホスフ
ィン及びコバルト−トリn−オクチルホスフィ/触媒の
合計117&7%、高沸点副生物215%であった。
蒸留缶゛残の−ll11tとり赤外吸収スペクトルを測
定したところ、実施例−2,5と異なり1900〜20
00m−’付近のカルボニル基の吸収は殆んど認められ
なかった。
蒸留缶残7.3tをとり、原料100ノに溶解し実施例
−1と同様の条件で反応させた所2時間後のヘキセン転
化率85%、水添率90%であった。
特許出願人 日産化学工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、コバルト・第三級ホスフィン触媒の存在下オレフィ
    ノ又はオレフィ/とアルデヒドの混合物音原料にしてヒ
    ドロホルミル化及び水素化反応を同時に行なわせた該反
    L6生成物から目的とするアルコールとコバルト・第三
    級ホスフィ/触媒との分離に際し、目的アルコールより
    4篇沸点であり、かつ第三級ホスフィンよりも低沸点の
    溶媒t−錫添加蒸留分離する事t%黴とするコバルト−
    第三級ホスフィノ触媒の回収方法。 2 溶媒としてエチレングリコール、ジェfL/ンクリ
    コール、lJエチレ/クリコール、テトラエチレ/グリ
    コール、ポリエチレングリコ―ル200,400.6’
    00等のグリコール類、エチレングリコールアルキルエ
    ーテル、3.。 トラエチレングリコールアルキルエーテル等のモノ及び
    ノエーテル化合物、炭素数16以上の直鎖もしくは分岐
    の高級アルコール、又は18−クラウン−6、ンシクロ
    へキノルー18−クラウン−6、ンベ/シー18−クラ
    ウン−6等のクラウンエーテル化合−title用する
    こと′に特徴とする%f1f請求の範囲第一項記載のコ
    バルト−第三級ホスフィ/触媒の回1 R1+ R2* R5の一つ又は全部が炭素数4以上の
    アルキル基、シクロアルキル基、芳香族)テ(Rは炭素
    数1〜20のアルキル基)で表わされる8員環ホスフイ
    /を使用することt%像とする特許請求の範囲第一項記
    載のコバルト−第三級ホスフィン触媒の回収方法。
JP57062374A 1982-04-16 1982-04-16 ヒドロホルミル化触媒の回収方法 Granted JPS58180236A (ja)

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