JPS5818604B2 - 厚さの測定方法 - Google Patents
厚さの測定方法Info
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- JPS5818604B2 JPS5818604B2 JP53143466A JP14346678A JPS5818604B2 JP S5818604 B2 JPS5818604 B2 JP S5818604B2 JP 53143466 A JP53143466 A JP 53143466A JP 14346678 A JP14346678 A JP 14346678A JP S5818604 B2 JPS5818604 B2 JP S5818604B2
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- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
正確なすき間や厚さや平面仕上げ（ｆ ｆａｔｎｅｓｓ
）の測定は一般に干渉法によって行なわれる。
）の測定は一般に干渉法によって行なわれる。
これらの干渉法は非破壊的で比較的簡単で速いばかりで
なく高分解能測定ができるからである。
なく高分解能測定ができるからである。
しかし最近多くの目的特に半導体集積回路の発達や製造
に対して、測定値が可視光の半波長よりきわめて小さい
のでこれらの方法の分解能では不十分であることが明ら
かになってきた。
に対して、測定値が可視光の半波長よりきわめて小さい
のでこれらの方法の分解能では不十分であることが明ら
かになってきた。
例えば半導体集積回路の製造において数多くの連続工程
の段階で用いられるフォトレジストの層は、一般に大体
０．５μｍから１．５μ１ｍの厚さである。
の段階で用いられるフォトレジストの層は、一般に大体
０．５μｍから１．５μ１ｍの厚さである。
種々の理由で特にサブミクロンの範囲の半導体集積回路
の製造においては、少なくとも±１０％の精度でこれら
の厚さを観測する必要がある。
の製造においては、少なくとも±１０％の精度でこれら
の厚さを観測する必要がある。
すべての干渉法の分解能は一般に使用光の半波長により
制限されるので、集積回路の大量生産ではこれらのパラ
メータの制御が困難である。
制限されるので、集積回路の大量生産ではこれらのパラ
メータの制御が困難である。
多くの特別の方法が開発され提案されてきた。
例えば多色干渉法（ｍｕｌｔｉ−ｃｏｌｏｕｒ ｉｎｆ
ｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ ）や比較測定法（ｃｏｍｐ−
ａｒａｔｏｒ ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ）である。
ｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ ）や比較測定法（ｃｏｍｐ−
ａｒａｔｏｒ ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ）である。
これらのうちのいくつかは干渉法の分解能をかなり上げ
た。
た。
しかしこれらの方法は著しい数の装置を必要とし大変複
雑で時間がかかり誤差の影響を受けやすいので、比較的
少数の場合にのみ特別の条件の下で用いられた。
雑で時間がかかり誤差の影響を受けやすいので、比較的
少数の場合にのみ特別の条件の下で用いられた。
それゆえに特に大量生産の監視と制御におけるこれらの
使用は、はとんどすべての場合あり得ない。
使用は、はとんどすべての場合あり得ない。
比較的初期の刊行物ではないがＤＰＡ Ｐ２６３６
２１１．８にはλ／４の分解能の干渉法が書かれている
。
２１１．８にはλ／４の分解能の干渉法が書かれている
。
この特許出願によると測定光線が所定の小さな角度で測
定表面に平行に置かれた伝達回折格子へ上記方法で向け
られる。
定表面に平行に置かれた伝達回折格子へ上記方法で向け
られる。
そして回折格子で１次の回折が直接反射回折され、測定
表面から他の３次の回折が反射され回折格子により伝達
回折されて観測方向へ向う。
表面から他の３次の回折が反射され回折格子により伝達
回折されて観測方向へ向う。
こうして重ね合せにより対象平面に干渉縞の間隔が使用
光線の１／４波長の距離に相当する干渉縞が描かれる。
光線の１／４波長の距離に相当する干渉縞が描かれる。
使用する回折格子は反射と伝達に対してまた測定表面の
反射率に対して非常に正確に適応する反射や伝達特性を
持っていなければならないし、また測定光線の入射方向
と観測方向に適応する回折格子定数を持っていなければ
ならないので、さらに回折格子は測定表面に対して最高
１ ｍｍまで近づけられて正確に平行して配置されるの
で、この方法の可能な使用は限られている。
反射率に対して非常に正確に適応する反射や伝達特性を
持っていなければならないし、また測定光線の入射方向
と観測方向に適応する回折格子定数を持っていなければ
ならないので、さらに回折格子は測定表面に対して最高
１ ｍｍまで近づけられて正確に平行して配置されるの
で、この方法の可能な使用は限られている。
特に多くの数の半導体チップの監視においては測定装置
の避けられない振動や汚れのために測定誤差は除去でき
ないので、この方法は半導体集積回路製造の監視や制御
には適していない。
の避けられない振動や汚れのために測定誤差は除去でき
ないので、この方法は半導体集積回路製造の監視や制御
には適していない。
特に回折格子の近くを高速で通過する半導体チップによ
る高感度回折格子の汚れは実際避けられないので、製造
の監視や制御としてこの方法を用いる場合は、必ず実際
にこの方法の使用を困難にする問題が生じる。
る高感度回折格子の汚れは実際避けられないので、製造
の監視や制御としてこの方法を用いる場合は、必ず実際
にこの方法の使用を困難にする問題が生じる。
従って本発明の目的は厚さの特に高分解能測定のための
比較的少数の装置で操作も簡単でほとんど振動や汚れの
影響を受けない方法を提供するにある。
比較的少数の装置で操作も簡単でほとんど振動や汚れの
影響を受けない方法を提供するにある。
前に述べた型の今まで提案された装置に比べて、本発明
により開示された方法は測定装置と測定表面の間隔が１
ｍに至るかそれ以上と非常に大きく、その結果汚れや誤
調節の原因となる振動が比較的容易に測定装置に対して
避けられるという利点がある。
により開示された方法は測定装置と測定表面の間隔が１
ｍに至るかそれ以上と非常に大きく、その結果汚れや誤
調節の原因となる振動が比較的容易に測定装置に対して
避けられるという利点がある。
本発明により開示された方法では各々の条件に適応する
構成要素は何も用いられないので、本発明の方法の方が
前に説明した方法より適用分野は非常に広い。
構成要素は何も用いられないので、本発明の方法の方が
前に説明した方法より適用分野は非常に広い。
さらに公知のすべての干渉法と違い、測定光線の入射角
を簡単に変えることにより分解能をλ／２からλ／４ま
でまた逆にλ／４からλ／２まで変えることが可能であ
る。
を簡単に変えることにより分解能をλ／２からλ／４ま
でまた逆にλ／４からλ／２まで変えることが可能であ
る。
測定光線の回折格子への入射角が十分大きく選ばれるな
ら、本発明により開示された方法は反射が悪いあるいは
拡散性の表面を持った物体の検査にも使える。
ら、本発明により開示された方法は反射が悪いあるいは
拡散性の表面を持った物体の検査にも使える。
次に図面により本発明を具体的に説明する。
第１Ａ図では可干渉性の平面波より成る光線Ｓｏが透明
な円盤形の物体１へ入射角θ１で入射されそして下と上
の面から各々光線Ｓ１、光線Ｓ２として反射される。
な円盤形の物体１へ入射角θ１で入射されそして下と上
の面から各々光線Ｓ１、光線Ｓ２として反射される。
成分Ｓ、と成分Ｓ２の重ね合せによって合成された光線
Ｓ′は再び図面には示されていない手段によって、第１
Ｂ図のように今度は入射角θ２で物体１へ入射されそし
て下と上の面から各々光線Ｓ３、光線Ｓ４として反射さ
れる。
Ｓ′は再び図面には示されていない手段によって、第１
Ｂ図のように今度は入射角θ２で物体１へ入射されそし
て下と上の面から各々光線Ｓ３、光線Ｓ４として反射さ
れる。
こうして反射成分の重ね合せによって合成された光線Ｓ
は反射成分Ｓ１、Ｓ２．Ｓ３．Ｓ４の干渉によって作ら
れている。
は反射成分Ｓ１、Ｓ２．Ｓ３．Ｓ４の干渉によって作ら
れている。
物体１の厚さが一定でないなら、光線Ｓ′は第１Ｂ図に
光線Ｓで示されているように物体の下と上の面から光線
Ｓ′の反射により合成される干渉縞模様が重ねられたフ
イゾウ干渉縞模様を作る。
光線Ｓで示されているように物体の下と上の面から光線
Ｓ′の反射により合成される干渉縞模様が重ねられたフ
イゾウ干渉縞模様を作る。
θ２−θ１の差は物体１の厚さに適応していなければな
らない。
らない。
周知のフイゾウ干渉法で透明あるいは半透明の層の厚さ
変化の測定による物体上に見られる反射干渉模様は、層
の前と後から反射される光線の部分束の可干渉駐車ね合
せにより説明される。
変化の測定による物体上に見られる反射干渉模様は、層
の前と後から反射される光線の部分束の可干渉駐車ね合
せにより説明される。
本発明の根本的な考えは同じ層に２度光学的に像を結ぶ
方法により測定層に前に述べた方法で作られるフイゾウ
干渉模様を合成することよりなる。
方法により測定層に前に述べた方法で作られるフイゾウ
干渉模様を合成することよりなる。
こうして層の厚さが違ら２回目の干渉像を作る。
２つの照射光線の入射角が等しいなら得られる２つの干
渉模様は同じである。
渉模様は同じである。
しかしもし２度目の照射光線がわずかに異なる角度で測
定層へ入射されるなら、最初の模様と２度目の干渉像の
間には差がある。
定層へ入射されるなら、最初の模様と２度目の干渉像の
間には差がある。
角度差の大きさによりすなわち２度目の照射ビームの位
相変化によりλ／２のフイゾウ干渉縞の割れが存在する
。
相変化によりλ／２のフイゾウ干渉縞の割れが存在する
。
すなわちλ／２の干渉模様から連続的にλ／４の干渉模
様に変化する。
様に変化する。
そしてさらに角度差を変化させると再び連続的に干渉模
様は変化し、ついには最初のλ／２の像に比べて明暗度
が反転したλ／２の干渉模様になる。
様は変化し、ついには最初のλ／２の像に比べて明暗度
が反転したλ／２の干渉模様になる。
次に干渉縞模様の合成を詳しく説明する。
一般に物体１の上と下の面からの反射により作られた２
つの成分Ｓ１と８２の重ね合せにより縞間隔がλ／２の
フイゾウ干渉縞模様ができる。
つの成分Ｓ１と８２の重ね合せにより縞間隔がλ／２の
フイゾウ干渉縞模様ができる。
普通に用いられる複素表現で波を表わすとここでＡは振
幅、γは位相、ｒは重ね合せの場所での位置ベクトルで
ある。
幅、γは位相、ｒは重ね合せの場所での位置ベクトルで
ある。
反射によって生ずる２つの成分Ｓ、と８２は次のように
表わされる。
表わされる。
ここでＳ。
は入射波の振幅、ｄは測定層の光学的厚さ、ｋ−２π／
λでλは光の波長である。
λでλは光の波長である。
これらの成分の可干渉性重ね合せにより結果として次の
波が得られる。
波が得られる。
ｓ／：ｓ１＋ｓ２：ｓｏ、ｅ−１π（１＋ｏ−１（２ｄ
ｋ−Ｃｏｓθ、−π））こうして得られた波Ｓ′は、物
体の下の面の地点Ｐから最初の反射で反射された光線が
再び地点Ｐへ到達するように、適切な光学測定により試
験物体へ向けられる。
ｋ−Ｃｏｓθ、−π））こうして得られた波Ｓ′は、物
体の下の面の地点Ｐから最初の反射で反射された光線が
再び地点Ｐへ到達するように、適切な光学測定により試
験物体へ向けられる。
この方法で第１Ｂ図に示されているように試験物体は再
び平行な波Ｓ′である角度に照射される。
び平行な波Ｓ′である角度に照射される。
この波Ｓ′は再び下と上の面の反射により次のように表
わされる２つの成分Ｓ３と８４を作る。
わされる２つの成分Ｓ３と８４を作る。
Ｓａ：Ｓｏ（１＋ｅ ｌ （２ｄｋｃｏ３θ１−π））
ｓ４：５ｏｅ−１（２ｄｋｃｏｓθ２＋π）＋ｓｏ、ｅ
＝ｉ（２ｄｋ（ｃｏｓθ２＋ｃｏｓθ、））これら２つ
の成分の重ね合せにより次の波Ｓが導かれる。
ｓ４：５ｏｅ−１（２ｄｋｃｏｓθ２＋π）＋ｓｏ、ｅ
＝ｉ（２ｄｋ（ｃｏｓθ２＋ｃｏｓθ、））これら２つ
の成分の重ね合せにより次の波Ｓが導かれる。
ｓ：ｓ３＋８４：５ｏ（１＋ｅ−１（２ｄｋ、Ｃ０Ｏ５
θ１−π））（１＋ｏ−ｉ （２ｄｋｃｏ ｓｏ２＋π
））Ｃ２の方向には次のような強度分布が存在する。
θ１−π））（１＋ｏ−ｉ （２ｄｋｃｏ ｓｏ２＋π
））Ｃ２の方向には次のような強度分布が存在する。
。Ｉ＝−）１ｓＩ２＝＝２８．）”（１−ｃｏｓ（２ｄ
ｋ−ｃｏｓθ１））（１−ｃｏｓ（２ｄｋ−ｃｏｓ０２
）） この関数は下の層からｄの距離の上の層の任意の点にお
ける強度を表わしている。
ｋ−ｃｏｓθ１））（１−ｃｏｓ（２ｄｋ−ｃｏｓ０２
）） この関数は下の層からｄの距離の上の層の任意の点にお
ける強度を表わしている。
第２図の実施例はレーザ２、レーザ光線１１を広げるた
めのレンズ３及び４、レンズ５、凹面鏡６、微調節可能
な平面鏡７及び８より成る。
めのレンズ３及び４、レンズ５、凹面鏡６、微調節可能
な平面鏡７及び８より成る。
レーザ２により作られた光線１１はレンズ３及び４の調
節で広げられ、平面鏡７によりレンズ５を通り破線で表
わされている平行光線束１２のように被。
節で広げられ、平面鏡７によりレンズ５を通り破線で表
わされている平行光線束１２のように被。
検査物体１へ入射角θ２で入射するように向けられる。
物体１の下と上の面から反射される光線束１２の成分は
、矢印が施された実線によって示されているようにレン
ズ５を通って凹面鏡６へ到達する。
、矢印が施された実線によって示されているようにレン
ズ５を通って凹面鏡６へ到達する。
そしてこの凹面鏡６から点線で表わされている平行光線
束１３のようにレンズ５を通り再び物体１へ向けられる
。
束１３のようにレンズ５を通り再び物体１へ向けられる
。
この光線１３の入射角θ１は光線１２の入射角θ２と異
なる。
なる。
物体１の上と下の面から反射された成分は、破線と点線
で表わされている光線束１４のようにレンズ５を通り、
光線束が収束して平面鏡８へ到達し、この平面鏡８から
光線束が発散して検査平面９へ到達する。
で表わされている光線束１４のようにレンズ５を通り、
光線束が収束して平面鏡８へ到達し、この平面鏡８から
光線束が発散して検査平面９へ到達する。
第１Ａ図及び第１Ｂ図で詳細に説明したように、第２図
で実線で表わされている物体１から反射された光線は、
互いに干渉する２つの成分より成り再び点線で表わされ
ている光線束１３のように物体１へ入射する。
で実線で表わされている物体１から反射された光線は、
互いに干渉する２つの成分より成り再び点線で表わされ
ている光線束１３のように物体１へ入射する。
干渉を形成するこれらの成分の反射によってもし４成分
を含む干渉模様を形成するなら、破線と点線によって表
わされている光線束１４のようにレンズ５と平面鏡８を
通って検査平面９へ到達する光線にはさらに２つの成分
の分割が存在する。
を含む干渉模様を形成するなら、破線と点線によって表
わされている光線束１４のようにレンズ５と平面鏡８を
通って検査平面９へ到達する光線にはさらに２つの成分
の分割が存在する。
物体１の厚さに適応して入射角θ１及びＣ２を適切に選
ぶならば、干渉縞模様は検査平面９で目に見えるように
なる。
ぶならば、干渉縞模様は検査平面９で目に見えるように
なる。
そして近接した２つの干渉縞の間隔は、λ／４の差の物
体の厚さに相当するようになる。
体の厚さに相当するようになる。
第１Ａ図及び第１Ｂ図の説明に関連して前に指摘したよ
うに、λ／４の干渉縞より成る検査平面９に形成される
干渉模様は、平面鏡７及び８の調節による入射角θ１及
びＣ２の変化によりλ／２の干渉縞より成る干渉模様に
なる。
うに、λ／４の干渉縞より成る検査平面９に形成される
干渉模様は、平面鏡７及び８の調節による入射角θ１及
びＣ２の変化によりλ／２の干渉縞より成る干渉模様に
なる。
そしてさらに新しく入射角θ１及びＣ２を変えることに
より再びλ／４の干渉縞より成る干渉模様になる。
より再びλ／４の干渉縞より成る干渉模様になる。
検査平面に形成される干渉模様は第４図及び第５図に示
されている。
されている。
これらの図面に示されている干渉縞４１の間隔は、対象
面におけるλ／４の距離に相当する。
面におけるλ／４の距離に相当する。
一方４０と印された干渉縞はλ／２の距離に相当する。
第５図ではλ／２の干渉縞模様はａとＣに示され、λ／
′４の干渉縞模様はｂに示されている。
′４の干渉縞模様はｂに示されている。
第４図は入射角θ１及びＣ２が徐々に変化する間に、λ
／２の干渉縞から成る干渉模様からλ／４の干渉縞４１
から成る干渉模様への推移、そして再びλ／２の干渉縞
から成る干渉模様への推移を示している。
／２の干渉縞から成る干渉模様からλ／４の干渉縞４１
から成る干渉模様への推移、そして再びλ／２の干渉縞
から成る干渉模様への推移を示している。
第４図のａの干渉模様はλ／２のみの干渉縞模様を表わ
している。
している。
この縞は干渉模様すとＣのようにゆっくり広がりそして
第４図に干渉模様ｄとして示されているλ／４の干渉縞
のみから成る干渉模様になる。
第４図に干渉模様ｄとして示されているλ／４の干渉縞
のみから成る干渉模様になる。
干渉模様ｄからλ／２の干渉縞のみの模様への推移が第
４図の干渉模様ｅ ＋ ｆ ｒ ｇに示されている。
４図の干渉模様ｅ ＋ ｆ ｒ ｇに示されている。
第３図の実施例はレーザ２２、レンズ２３及び２４、偏
光独立ビームスブリック（５ｐｌｉｔｔｅｒ ）２７、
偏光従属ビームスブリック２８、レンズ２５、凹面鏡２
６．１／４波長板２９より成る。
光独立ビームスブリック（５ｐｌｉｔｔｅｒ ）２７、
偏光従属ビームスブリック２８、レンズ２５、凹面鏡２
６．１／４波長板２９より成る。
レーザ２２により作られる光線はレンズ２３により発散
光線３１に変形され、そしてレンズ２４により平行光線
束に変形される。
光線３１に変形され、そしてレンズ２４により平行光線
束に変形される。
図面に平行に線形に偏光されるこの光線束のいくらかは
ビームスプリッタ２７を通り、偏光従属ビームスプリン
タ２８により破線で表わされている平行光線束３２のよ
うに１／４波長板２９を通って物体１へ向けられる。
ビームスプリッタ２７を通り、偏光従属ビームスプリン
タ２８により破線で表わされている平行光線束３２のよ
うに１／４波長板２９を通って物体１へ向けられる。
物体１の下と上の面から反射される光線束３２の成分は
１／４波長板２９の２回目の通過をして、図面に垂直に
線形に偏光される光線束としてレンズ２５を通り凹面鏡
２６へ向けられる。
１／４波長板２９の２回目の通過をして、図面に垂直に
線形に偏光される光線束としてレンズ２５を通り凹面鏡
２６へ向けられる。
凹面鏡２６から反射された光線は、レンズ２５を通って
点線で示された平行光線束３３のように１／４波長板２
９を通過して物体１へ向けられる。
点線で示された平行光線束３３のように１／４波長板２
９を通過して物体１へ向けられる。
１／４波長板２９を通過する時に図面に垂直に線形に偏
光された光線は円偏光光線に変えられる。
光された光線は円偏光光線に変えられる。
物体１の下と上の面から反射される光線束３３の成分は
、破線一点線により表わされている光線束３４のように
１／４波長板２９を通り、そしてこの通過の間に図面に
平行に線形に偏光された光線束へ変えられる。
、破線一点線により表わされている光線束３４のように
１／４波長板２９を通り、そしてこの通過の間に図面に
平行に線形に偏光された光線束へ変えられる。
それから偏光従属ビームスブリック２８でいかなる損失
もなしに右へ偏向される。
もなしに右へ偏向される。
偏光独立ビームスプリッタ２７に尚たるとこの光線束の
いくつかは下の方へ偏向されそして検査平面３０に、例
えば第４図及び第５図に示されているような干渉縞模様
を作る。
いくつかは下の方へ偏向されそして検査平面３０に、例
えば第４図及び第５図に示されているような干渉縞模様
を作る。
物体１に当たる光線束３２及び３３の入射角を適切に選
ぶならば、検査平面３０に形成される干渉模様はλ／４
の干渉縞から成る。
ぶならば、検査平面３０に形成される干渉模様はλ／４
の干渉縞から成る。
また光線束３２及び３３の入射角を連続的に変化させる
とλ／２からλ／４へ、λ／４からλ／２への干渉縞に
なる。
とλ／２からλ／４へ、λ／４からλ／２への干渉縞に
なる。
第１Ａ図及び第１Ｂ図の説明の次に述べられた公式と関
連して示されたように、入射角は物体の厚さに適切に適
応されなければならない。
連して示されたように、入射角は物体の厚さに適切に適
応されなければならない。
反射が悪いかあるいは拡散性の表面を持った物体に対し
ては、反射を最大にする散乱が存在するように入射角を
大きくすることが勧められる。
ては、反射を最大にする散乱が存在するように入射角を
大きくすることが勧められる。
第１Ａ図及び第１Ｂ図は本発明により開示された方法を
説明するための光路の概要図である。 第２図及び第３図は本発明の実施例を示す平面図である
。 第４図及び第５図は干渉縞模様を示す図である。 １・・・・・・被検査物体、２・・・・・・レーザ、３
，４・・・・・光線拡大レンズ、５・・・・・・レンズ
、６・・・・・・凹面鏡、７．８・・・・・・平面鏡、
９・・・・・・検査平面、１１・・・・・・拡大レーザ
光線、１２・・・・・・第１の入射平行光線束、１３・
・・・・・第２の入射平行光線束、１４・・・・・・第
２の反射光線束、２２・・・・・・レーザ、２３．２４
・・・・・・光線拡大レンズ、２５・・・・・・レンズ
、２６・・・・・・凹面鏡、２７・・・・・・偏向独立
ビームスプリッタ、２８・・・・・・偏光従属ビームス
プリッタ、２９・・・・・・１／４波長板、３０・・・
・・・検査平面、３１・・・・・・拡大レーザ光線、３
２・・・・・・第１の入射平行光線束、３３・・・・・
・第２の入射平行光線束、３４・・・・・・第２の反射
光線束、４０・・・・・・λ／２干渉縞、４１・・・・
・・λ／４干渉縞、Ｓｏ・・・・・・第１の入射平行光
線束、Ｓｌ・・・・・・物体１の下の面からの反射部分
、Ｓ２・・・・・・Ｓｏの物体１の上の面からの反射部
分、Ｓ′・・・・・・ＳｌとＳ２の合成光線束、Ｓ３・
・・・・・Ｓ′の物体１の下の面からの反射成分、Ｓ４
・・・・・・Ｓ′の物体１の上の面からの反射成分、Ｓ
・・・・・・Ｓ３とＳ４の合成光線束、ｄ・・・・・・
物体１の厚さ、θ、・・・・・・Ｓｏの入射角、θ２・
・・・・・Ｓ′の入射角。
説明するための光路の概要図である。 第２図及び第３図は本発明の実施例を示す平面図である
。 第４図及び第５図は干渉縞模様を示す図である。 １・・・・・・被検査物体、２・・・・・・レーザ、３
，４・・・・・光線拡大レンズ、５・・・・・・レンズ
、６・・・・・・凹面鏡、７．８・・・・・・平面鏡、
９・・・・・・検査平面、１１・・・・・・拡大レーザ
光線、１２・・・・・・第１の入射平行光線束、１３・
・・・・・第２の入射平行光線束、１４・・・・・・第
２の反射光線束、２２・・・・・・レーザ、２３．２４
・・・・・・光線拡大レンズ、２５・・・・・・レンズ
、２６・・・・・・凹面鏡、２７・・・・・・偏向独立
ビームスプリッタ、２８・・・・・・偏光従属ビームス
プリッタ、２９・・・・・・１／４波長板、３０・・・
・・・検査平面、３１・・・・・・拡大レーザ光線、３
２・・・・・・第１の入射平行光線束、３３・・・・・
・第２の入射平行光線束、３４・・・・・・第２の反射
光線束、４０・・・・・・λ／２干渉縞、４１・・・・
・・λ／４干渉縞、Ｓｏ・・・・・・第１の入射平行光
線束、Ｓｌ・・・・・・物体１の下の面からの反射部分
、Ｓ２・・・・・・Ｓｏの物体１の上の面からの反射部
分、Ｓ′・・・・・・ＳｌとＳ２の合成光線束、Ｓ３・
・・・・・Ｓ′の物体１の下の面からの反射成分、Ｓ４
・・・・・・Ｓ′の物体１の上の面からの反射成分、Ｓ
・・・・・・Ｓ３とＳ４の合成光線束、ｄ・・・・・・
物体１の厚さ、θ、・・・・・・Ｓｏの入射角、θ２・
・・・・・Ｓ′の入射角。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ コリメイトされた光線を透過性の測定対象物へ第１
人射角で入射し、上記測定対象物の向い合。 う第１及び第２の面から反射された光線を重ね合せ、当
該重ね合された光線を上記測定対象物へ上記第１人射角
とは異なる第２人射角で入射し、上記第１及び第２の面
から反射された光線を干渉させ、この干渉稿模様を観察
することを特徴とする、。 厚さの測定方法。 ２ 分解能をλ／２からλ／４へ及びλ／４からλ／２
へ変えるために、上記第１及び第２の入射角を制御的に
変えることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の厚
さの測定方法。 ３ 上記第１及び第２の入射角を上記第１及び第２の面
の反射率に適応するように制御的に変えることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の厚さの測定方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2758149A DE2758149C2 (de) | 1977-12-27 | 1977-12-27 | Interferometrisches Verfahren mit λ /4-Auflösung zur Abstands-, Dicken- und/oder Ebenheitsmessung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5492773A JPS5492773A (en) | 1979-07-23 |
| JPS5818604B2 true JPS5818604B2 (ja) | 1983-04-14 |
Family
ID=6027375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53143466A Expired JPS5818604B2 (ja) | 1977-12-27 | 1978-11-22 | 厚さの測定方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4221486A (ja) |
| JP (1) | JPS5818604B2 (ja) |
| DE (1) | DE2758149C2 (ja) |
| FR (1) | FR2413632A1 (ja) |
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| DE2636498C2 (de) * | 1976-08-13 | 1979-02-01 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur interferometrischen Oberflächenmessiing |
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-
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-
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| FR2413632A1 (fr) | 1979-07-27 |
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