JPS5818969A - 太陽電池の製造方法 - Google Patents

太陽電池の製造方法

Info

Publication number
JPS5818969A
JPS5818969A JP56117162A JP11716281A JPS5818969A JP S5818969 A JPS5818969 A JP S5818969A JP 56117162 A JP56117162 A JP 56117162A JP 11716281 A JP11716281 A JP 11716281A JP S5818969 A JPS5818969 A JP S5818969A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
cdte
cds
sintered
paste
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP56117162A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS622711B2 (ja
Inventor
Hitoshi Matsumoto
仁 松本
Nobuo Nakayama
中山 信男
Akihiko Nakano
明彦 中野
Hiroshi Uda
宇田 宏
Seiji Ikegami
池上 清治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP56117162A priority Critical patent/JPS5818969A/ja
Publication of JPS5818969A publication Critical patent/JPS5818969A/ja
Publication of JPS622711B2 publication Critical patent/JPS622711B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
    • H10F71/125—The active layers comprising only Group II-VI materials, e.g. CdS, ZnS or CdTe
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/543—Solar cells from Group II-VI materials

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は太陽電池の製造方法、特にCdTe系の太陽電
池の製造方法にかかシ、寿命特性の優れた高性能の太陽
電池を量産性よく製造することのできる方法を提供しよ
うとするものである。
…−■族化族化合物手金体用した太陽電池として、もっ
とも広く知られているものはCu 2 S とCdSの
接合の光起電力効果を利用した太陽電池をあげることが
できる。これはCdSが多結晶であってもかなり性能の
よい太陽電池が実現できるところがCu 2 S/Cd
 S系太陽電池の実用化されるに至っていない原因は、
その特性の劣化にあり。
これは、P形牛導体として使用されているC u 2 
Sの不安定性によるものである。
このような本質的な問題点のあるC u 2 Sを使用
しない太1@゛祇池として、CdTe系の太陽電池がら
り、特にCd S/Cd T e系太陽電池は広く研究
されている。この系の太陽電池に於ては、CdTeをP
形にするだめのアクセプター不純物として主としてCu
化合物が用いられている。Cuをドープする方法として
、CdTe膜をCuC1水溶液中に浸漬後熱処理する。
Cu化合物を蒸着する。Cu化合物の入ったカーボンペ
ーストを印刷後熱処理する等の方法が用いられてきたが
、いずれもCuがイオン伝導しやすいため寿命特性は必
ずしも満足すべきものではなかった。
本発明はこのような点に鑑みて成されたものであり、T
oを添加したカーボンペーストをCdTe膜上に印刷し
熱処理すればCdTe膜をP形化できかつ、同時に一方
の電極を形成できることを見い出したものである。To
ばCd T eの構成物質であり、これをCdTe中ヘ
ドープしTe過剰のCdTe膜をつくることによりCd
TeをP形化することができる。又ToはCuのように
イオン伝導しやすいものではないので寿命の安定なもの
ができると考えられる。さらに本発明の方法はスクリー
ン印刷法を用いているので蒸着などによってTeを付、
着させるのに比べて工程が簡単である。又カーボンペー
スト中へTeを添加するという方法を用いているので添
加量を任意に制御できるという特徴も有している。
以下1本発明の製造方法について、実施例にもとづいて
詳細に説明する。
(実施例1) CdS粉末に融剤としてCdCl2を100重量%プロ
ピレングリコールを20〜30重量%加えてCdS ペ
ーストを作り、これをガラス基板上にスクリーン印刷し
た。乾燥後、これを焼成容器に入れて、窒素気流中で6
90Cの温度で1時間焼結することにより、CdS焼結
膜を作成した。次にCdTe粉末にCdCl2を1重量
%、プロピレングリコールを20〜30重量%加えてC
dTeベニストを作シ、これを上記CdS焼結膜上にス
クリーン印刷した。乾燥後、これを焼成容器に入れて、
窒素気流中で640Cで20分間焼結しCdTe焼結膜
をP形化するとともに、カーボン電極を形成した。最後
にCdS側にAg−Inペーストをスクシー・ン印刷し
てCdS側の電極をつけ太陽電池素子を完成した。この
太陽電池の真性変換効率は7.8%で6チ月間の屋外の
実働試験では殆ど劣化していなかった。
一方、CdTe焼結膜上に0.1重量%のCuを含んだ
高純度カーボンペーストをつけ、5ooCで30分間熱
処理してつくった太陽電池素子の真性1変換効率はs、
1% 、 3socで30分間熱処理し本素子は6.2
%であった。しかしこれらの素子はt化が大きく、6チ
月間の屋外の実働試験で前者で15%、後者で20チの
劣化率を示した。
(実施例2) 酸化インジウムのついたガラス基板上に、CdS膜をス
パッター法でっけ、さらにその上にCdTe膜を蒸着法
でつけた。次にTeを。、3重[1んだ高純度カーボン
ペーストをこのCdTe膜上に印刷し3ooCで30分
間熱処理し、CdTe膜をP形化するとともに、カーボ
ン電極を形成し、太陽電池素子をつくった。この・太陽
電池の真性変換効率は6.6チで6チ月間の屋外の実働
試験では殆ど劣化していなかった。一方%CdTe蒸着
膜上に。、02チのCu S O4を含んだ高純度カー
ボンペーストをつけ、300Cで30分間熱処理してつ
くった太陽電池素子の真性変換効率は6.9%であった
か、6チ月の実働試験で10%の劣化率を示した。
なお、実施例1,2に於て高純度カーボンペースト中に
何も添加しない場合は真性変換効率は低く、1%以下で
あった。
以上述べたように5本発明の方法によれば寿命の安定な
太陽電池素子を簡単な工程で作成できる。
特に実施例1で述べたようなCdS膜、CdTe膜。
電極を全てスクリーン印刷方式で形成させてつくる太陽
電池では工程が量産性に優れているので、本発明の方法
を採用すれば安価で安定な太陽電池を提供することがで
きる。  □ なお、上記実施例ではCdS/CdTe太陽電池につい
て述べたが、本発明の方法はCdTeホモ接合太陽電池
などに於てもCdTeをP形化するのに有効であるのは
勿論のことである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 少くともCdTe膜を含む■−匠族化合物手導体膜を基
    板上に積層して設ける太陽電池の製造方法において前記
    CdTe膜上にToを添加したカーボンペーストを印刷
    した後、熱処理を施すことによシ、前記CdTe膜をP
    形化すると同時に一方の電極を形成することを特徴とす
    る太陽電池の製造方法。
JP56117162A 1981-07-28 1981-07-28 太陽電池の製造方法 Granted JPS5818969A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56117162A JPS5818969A (ja) 1981-07-28 1981-07-28 太陽電池の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56117162A JPS5818969A (ja) 1981-07-28 1981-07-28 太陽電池の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5818969A true JPS5818969A (ja) 1983-02-03
JPS622711B2 JPS622711B2 (ja) 1987-01-21

Family

ID=14704981

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56117162A Granted JPS5818969A (ja) 1981-07-28 1981-07-28 太陽電池の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5818969A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4709466A (en) * 1985-04-15 1987-12-01 The University Of Delaware Process for fabricating thin film photovoltaic solar cells

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4709466A (en) * 1985-04-15 1987-12-01 The University Of Delaware Process for fabricating thin film photovoltaic solar cells

Also Published As

Publication number Publication date
JPS622711B2 (ja) 1987-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Hodes et al. Painted, polycrystalline thin film photoelectrodes for photoelectrochemical solar cells
US4267398A (en) Thin film photovoltaic cells
CN102206801A (zh) 基于碲化镉的薄膜光伏器件所用的导电透明氧化物膜层的形成方法
EP0024170A1 (en) Process for preparation of semiconductors and semiconductor photoelectrodes and cells containing them
CN102244110A (zh) 硒化钒薄膜作背接触层的CdTe太阳电池
US20040131792A1 (en) Electroless deposition of cu-in-ga-se film
US4064522A (en) High efficiency selenium heterojunction solar cells
WO2014036489A1 (en) METHOD OF CONTROLLING THE AMOUNT OF Cu DOPING WHEN FORMING A BACK CONTACT OF A PHOTOVOLTAIC CELL
CN105144400B (zh) 太阳能发电模块
JP3519543B2 (ja) 半導体薄膜形成用前駆体及び半導体薄膜の製造方法
US4362896A (en) Polycrystalline photovoltaic cell
CN108428492B (zh) 太阳能电池正面电极浆料
CN105355674B (zh) 具有石墨烯插入层的柔性碲化镉太阳电池
CN115513381B (zh) 一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法
CN115498052B (zh) 一种cigs太阳能电池的制备方法
CN105679881B (zh) 一种铜铟硫基薄膜太阳能电池的制备方法
CN116454148A (zh) 一种高镓组分cigs柔性薄膜太阳能电池及其制备方法
JP3228503B2 (ja) 半導体薄膜およびその製造方法ならびにこれを用いた太陽電池
JP3520683B2 (ja) 化合物半導体薄膜とその製造方法及び太陽電池
CN116265615A (zh) 一种半导体金属半导体多层异质结构提高光阴极性能的方法
JPS622711B2 (ja)
US4404734A (en) Method of making a CdS/Cux S photovoltaic cell
JP3077574B2 (ja) 光電変換素子
CN115498068B (zh) Cigs太阳能电池表面改性方法、装置及cigs太阳能电池
Bhardwaj et al. Novel method for the preparation of n CdSe electrodes for photoelectrochemical cells