JPS58190941A - 光感受性エレメント - Google Patents

Abstract

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め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は可撓性支持体層と除去可能なカバーシートとの
関に光感受性組成物をサンドインチ化せしめた改善され
た光感受性エレメントに関する。

米国特許第３，４６９．９８２号明細書は光感受性層が
一時的支持体フイルムと一時的カバーシートとの間にす
／ドインチ化されているネガとして働く光重合性フィル
ムレジストを開示している。

このフィルムはカバーフィルムを除去し、光重合性層を
熱および圧力によって基材表面例えば鋼上に積層させて
永久的に変性させ、層を活性線放射に像様露光させ、フ
ィルム支持体を除去し、層の未露光部分を溶媒況去（現
（Ｉ　）　Ｋより除去しセし【得られた銅表面の裸の部
分を例えばエツチングまたは金属の沈着によって永久的
に変性させる印刷回路製造において広い利用性を得てい
る。

前記米国特許は支持体フィルム上への光重合性組成物の
溶液コーティング、それに続く乾燥および次いで表面の
ホトレジスト過程を実施するための表面例えば銅被覆印
刷回路板への得られた乾燥層の積層を開示している。し
かしながら、工業的実施においては、保存および出荷の
間は支持体に接着保持させておかなくてはならかいこの
乾燥光重合性層は支持体フィルムとカッく−シートとの
間のサンドインチとして供給される。

このことはサンドイッチエレメントをホトレジスト製造
業者がそれ自体巻き上げそして使用者例えば印刷回路製
造業者にロール取扱いの容易なコンパクトとして供給す
ることを可能ならしめる。このカバーフィルムは光重合
性層が出荷および保存の間に支持体フィルムの裏側に接
着するのを阻止する。使用に当ってはカバーフィルムを
剥離して捨て、次いで前記のようにホトレジスト過程を
実施する。

米国特許第４．１９５，７９３号明細書は一時的支持体
フイルムと一時的カバーフィルムとの間に光重合性層を
サンドインチ化せしめたその光重合性組成物がネガとし
てではなくポジとして働くものである点を除いては同様
の光重合性フィルムレジストを開示している。

本発明は、光感受性組成物の少くとも一つの層を有しそ
して光感受性エレメントを形成するためにカバーシート
よりも一層大なる接着性を廟する可撓性支持体および除
去可能なカバーシートを包含する光感受性エレメントに
おいて。

光感受性組成物から遠い方に面しているその表伽上に粗
荒化されたフィニツシユを有するカバ−シートを包含し
ている改善に関する。

本発明の光感受性エレメントのタイプは従来技術におい
て周知であり、そしてこれらは支持体層とカバーシート
との間に光感受性組成物を有するサンドインチ構造のも
のである。一般に光重合性重合体を含有するこのタイプ
の光感受性エレメントは例えば印刷回路板の製造におけ
るレジストおよびはんだマスクとしての一般的な商業的
使用を有している。

ロール形の軟質光感受性レジストおよびはんだマスクは
６つの主なる品質的問題の少くとも一つを有しうる。第
１にロール中のラップ（Ｊ！１１き）中に一般に最初均
一に分布されていた空気は、ロールとされた後では局所
的応力（外的接触、厚さ変動、張力変動、収縮変動）の
故にポケットまたは泡中に徐々に移動しうる。これらの
泡は軟質光感受性組成物中に二次流れを誘発させて、化
粧的および機能的欠陥（薄〜・スポット）を生ぜしめる
。低下された元感受性組成物厚さは党感受性層の機能を
危険にさらす。

第２に支持体または力／Ｚ　＝　？　−）のどちら力・
の最高の収縮傾向を有するもののロール中での収縮は複
合体構造中に徐々なしわの形成を招来しうる。このしわ
形成はまた２次流れを誘発させて光感受性組成物の厚さ
の局所的変動を生ぜしめうる。

第６に、光重合体の重合はある部分にお〜・てフィルム
ラップから空気の排除を生ぜしめるような硬質バンド部
分または生成物厚さのゲージ変動部分において保存の間
に生じうる。本発明のカバーシートの使用の場合には、
これら硬質バンド中では粗荒表面の故に空気の継続的存
在はこのタイプの化学的不安定性に強い阻害作用を肩し
うる。

粗荒化されたフィニツシユのカバーシートの使用はロー
ルのラップ間の空気の比較的容易な移動および均一な分
布を与えて関連する２次流れの問題を除外または減少さ
せる。この粗荒性は光感受性エレメント中の厚さの変動
を補償するような均一な圧縮性クッション効果を与えう
る。このクッション作用は薄い生成物部分のソフトスポ
ット形成を最小化させそして次いでしわ形成の傾向を減
少させうる。更にこのクッション作用はより厚い部分で
の欠陥も減少させる。

またごみまたはその他のハイスポットのラップからラッ
プに拡がる欠陥傾向もまた減少させうる。

その他の利点は粗荒表面が硬いロールバンド（高い応力
領域）においてさえもラップの間に酸素補給を係長して
いることである。この酸素は保存の量感受性の光重合体
の自動重合を阻止しうる。この変性は生成物の貯蔵寿命
を増大させうるし、一方間時に最終使用センシトメトリ
ーおよび性能に悪影蕃を有し５るコーティング処方の大
なる阻害剤負荷要求を減少させうる。

カバーシート表面の粗荒１ｉ度は広範な限度内で変動さ
せうる。臨界的特性は光感受性エレメントをロールに巻
きあげた時に空気の存在を可能ならしめる程度の粗荒性
を存在させることである。固有的にいくらかの表面変化
を有している通常の平滑カバーシートは本発明の定義か
ら除外される。一般に少くとも２μ平均そしてより好ま
しくは少くとも４μ平均のビークーノ（レー（くぼみ）
距離の表面粗荒性が適当である。

一般に４０μまで、そしてより好ましくは１０μまでの
ビーク−バレー表面粗荒性上限が適当である。カバーシ
ートの厚さが増加するにつれて、より大なる例えば４０
μ以上の粗荒度が適当であることが理解される。要求さ
れる不等性（ｄｉｓｐａｒｉｔｉｅｓ）の頻度はヤング
モジュラスおよびカバーシートの厚さに依存する。より
高いモジュラスの厚いカバーシートに関しては同一効果
に対してより少い不等性が要求される。表面粗荒性が増
大するＫつれて、その光感受性エレメントをロールに巻
いた時により犬なる直径が一般に得られる。等しい光感
受性組成物に対してより大なる貯蔵面積を占めることの
不利点は本発明の利点に比べればわずかなものと考えら
れる。例えば印刷回路板製造におけるより大なる収率は
粗荒化カバーシートの使用により直接実現され５る。適
邑な粗荒化表面の例はテクスチャー処理、マット化およ
びエンボスフイニツシヱである。

好ましい様式においては、光感受性層から遠い方に向い
ている粗荒化カバーシート表面は実質的に平滑なその反
対＠表面、すなわち元感受性組威′物に而している表面
を有している。カバーシートの両方の表面が粗荒化され
ている場合には、光感受性組成物の不均一性が生じうる
がこれは一般に望ましくない。しかしながら例えばはん
だマスク適用における使用のための比較的厚い光感受性
組成物に関しては、二つの粗荒表面を有するカバーシー
トも容認できる。

本発明の好ましい具体例はロールの形にそのサンドイン
チ構造を存在せしめた光感受性エレメントに関する。ロ
ールのラップ中・に存在する酸素の拡散を可能ならしめ
て光重合性組成物の自動１合を遅凰化させるカバーシー
トまたは可神性支持体を使用しうる。カバーシートはエ
レメントをロールに巻きあげた時にラップ中で空気の移
動を可能ならしめる空気用チャンネルを有しうる。これ
ら空気チャンネルは一部うツブ中に入りうるし、または
空気をロール幅全体にわたってすなわち遠い方のエツジ
からロールを越えた端まで完全に通過することを可能な
らしめうる。

このカバーシートは支持体に比べてより少い接矯を光感
受性組成物に対して鳴していなくてはならない。その理
由はカバーシートは支持体つき光感受性組成物の基材へ
の積層の前に除去されるからである。本発明の粗荒化カ
バーシートの代りに粗荒化支持体が使用される場合には
生成物の性能は保持できない。支持体を通して光感受性
組成物を活性線放射に無光させた場合、粗荒な支持体表
面の存在によって光が散乱されそしてこの散乱は写真の
解像および［ｉ偉品質を劣化させる。粗荒化された支持
体表面の粗荒□性は精巧な回路板の製造またはグラフィ
ックアーツ適用において臨界的な正確な・ドツ′トスク
ール再生の達成において像形成可能なラインおよび空間
のコンノξクト性に機能的限界を課しうる。

適邑な除去可能な保腰カバーシートは轟技術分町では周
知であるがしかしそれは表面粗荒性なしである。それら
は好ましくは高度の寸法的安定性を鳴しており、そして
これは高度重合体例えばホリアミド、ポリオレフィン、
ポリエステル、ビニル重合体およびセルロースエステル
よりなる広汎な種々のシート物質から選ぶことができ、
そしてこれはＣＬＯ’、Ｄ、０２５（７ｆ　（０，００
０６ｃｍ　）〜ｏ、ｏｏｓインチ（０，０２ｃＩ１１）
またはそれ以上の厚さを有しうる。特に適当なカバーシ
ートは前記範囲、好ましくは約０００１インチ（α００
２５ａｍ）厚さのポリエチレンである。

適当な支持体物質は一般に剥離可能でありそして前記と
同一の高度重合体から選ぶことができそして従って０．
０００２５インチ（ｏ、ｏｏｏ６α）〜０．００８イン
チ（α０２ｅＩ１１）またはそれ以上の同一の広い範囲
の厚さを有しうる。無光が剥離性支持体の除去の前に実
施される場合には、それは勿論照射される活性線放射の
実質的部分を透過させなくてはならない。剥離性支持体
がｊ１光の前に除去される場合には、そのような規制は
適用されない。特に適当な支持体は前記厚さ範囲そして
好ましくは約０．００１インチ（α００２５５１）の透
明ポリエチレンテレフタレートフィルムである。

光感受性組成物は一般に約（１０００３インチ（ＯＪｌ
ｌｌ叩８３）〜約Ｑ、０１インチ（α００２５ａｗ）の
乾燥コーティング厚さで存在せしめられる。より厚い層
も使用できる。

本発明の実施に当っては種々のタイプの光感受性フィル
ムレジストエレメントを使用することができる。一般に
元硬化性のネガとして働くエレメントは米国特許第５，
４６９，９８２号明細書に開示のタイプの光重合性エレ
メントおよび米国特許第３．５２６，５０４号明細書に
開示のタイプの元交叉結合性エレメントである。ポジと
して働くレジストエレメントは光可溶性タイプのもの例
えば米国特許第へ８３ス８６０号明細書の０−キノンジ
アジドエレメント、または光減感可能なタイプのもの例
えば米国特許第４７７８．２７０号明細書のビスジアゾ
ニウム塩または茶国特許館１，５４７，５４８号明絽書
のニトロ芳香族組成物でありうる。有用な難燃性はんだ
マスク組成物は米国特許第４．２７８，７５２号明細書
中に開示されている。

″／ｌ、ｆ＆化性層は重合体成分（結合剤）、単量体成
分、開始剤および阻害剤から例えばヨーロッパ特許出願
第８１１６４０１４．６号明細書または前記参照特許に
記載のようにして製造される。

単一結合剤または他との組合せとして使用することので
きる適当な結合剤・とじてはポリアクリレートおよびα
−アルキルポリアクリレート、エステル例えばポリメチ
レンメタクリレートおよびポリエチルメタクリレート、
ポリビニルエステル例えばポリビニルアセテート、ポリ
ビニルアセテート／アクリレート、ポリビニルアセテー
ト／メタクリレートおよび氷解ポリビニルアセテート、
エチレン／ビニルアセテート共重合体、ポリスチレン重
合体および例えばマレイン酸無水物およびエステルとの
共重合体、ビニリデンクロリド共重合体例えばビニリデ
ンクロリド／アクリロニトリル、ビニリデンクロリド／
メタクリレートおよびビニリデンクロリド／ビニルアセ
テート共重合体、ポリ塩化ビニルおよび共重合体例えば
ポリ塩化ビニル／アセテート、飽和および不飽和ポリウ
レタン、合成ゴム例えばブタジェン／アクリロニトリル
、アクリロニトリル／ブタジェン／スチレン、メタクリ
レート／アクリロニトリル／ブタジェン／スチレン共重
合体、２−クロロブタジェン−１，３−重合体、塩素化
ゴムおよびスチレン／ブタジェン／スチレン、スチレン
／インプレン／スチレンブロック共重合体、約４，００
０〜１，０００，０００の平均分子量を有するポリグリ
コールの高分子量ポリエチレンオキシド、エポキシド例
えばアクリレートまたはメタクリレート基含有エポキシ
ド、コポリエステル、例えば弐ＨＯ（ＣＨ２）ｎ−ｏ）
１（式中ｎは２−１０の全数である）のポリメチレング
リコールと（１）へキサヒドロテレフタル酸、セバシン
酸およびテレフタル酸、（２）テレフタル酸、イソフタ
ル酸およびセバシン酸、（３）テレフタル酸およびセバ
シン酸、および（４）テレフタル酸お゛よびインフタル
酸との反応生成物から製造されたもの、そして（５）前
記グリコールと１）テレンタル酸、イソフタル酸および
セバシン酸およびｌ）テレ７りル酸、イソフタル酸、セ
バシン酸およびアジピン酸から製造されたコポリエステ
ル混合物、ナイロンまたはポリアミド例えばＮ−メトキ
シメチルポリヘキサメチレンアジパミド、セルロースエ
ステル例工ばセルロースアセテート、セルロースアセテ
ートサクシネートおよびセルロースアセテートブチレー
ト、セルロースエーテル例Ｌ　ハメチルセルロース、エ
チルセルロースおヨヒベンジルセルロース、ポリカーボ
ネート、ポリビニルアセタール例えばポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリホルムアルデヒドが
あげられる。

この結合剤は水性税偉液中で組成物を処珈可能なものと
するに充分な酸性またはその他の基を含有しうる。肩用
な水性処理可能な結合剤としては米国特許第３，４５８
．３１１号および英国特許＃　１．５０７．７０４号各
明細書に開示のものがあげられる。有用な両性重合体と
し゛てはＮ−アルキルアクリルアミドまたはメタクリル
アミド、酸性のフィルム形成性共単量体およびアルキル
またはヒドロキシアルキルアクリレートから導かれたイ
ンターポリマー例えば米国特許ｊＦ！３，９２７，１９
９号ｆＪＡＭｌ　’Ｉ　Ｋ開示のものがあげられる。

単独単量体としてかまたは他との組合せにおいて使用し
うる適幽な卑１体としては＃！３級ブチルアクリレート
、１，５−ベンタンジオールジアクリレート、Ｎ、Ｎ−
ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレート、１．４−ブタンジオールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメ
チレングリコールジアクリレート、１，３−プロノ々ン
ジオールジアクリレート、デカメチレングリコールジア
クリレート、デカメチレングリコールジメタクリレート
、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２
，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロ
ールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロー
ルブロハ／トリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプ
ロパントリアクリレートおよびトリメタクリレート、お
よび米国特許第５．３８０，８３１号明細書に開示の同
様の化合物、２．２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−
フロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、２，２−ジー（ｐ−ヒドロキシフェニル
）−プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリオキシエチル−２，２−ジー（
ｐ−ヒドロキシフェニル）−フロパンジメタクリレート
、ビスフェノールＡのジー（３−メタクリルオキシ−２
−とドロキシプロピル）エーテル、ビスフェノールＡの
ジー（２−メタクリルオキシエチル）ニー・チル、ビス
フェノールＡのジー（３−アクリルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピル）エーテル、ビスフェノールＡのジー（２
−アクリルオキシエチル）エーテル、テトラクロロビス
フェノールＡのジー（６−メタクリルオキシ−２−ヒド
ロキシプロピル）エーテル、テトラクロロビスフェノー
ル人のジー（２−メタクリルオキシエチル）エーテル、
テトラブロモビスフェノールＡのジー（３−メタクリル
オキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、テトラブ
ロモビスフェノールＡのジー（２−メタクリルオキシエ
チル）エーテル、１，４−ブタンジオールのジ（トメタ
クリルオキシー２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ジ
フェノール酸のジー（３−メタクリルオキシ−２−ヒド
ロキシプロピル）エーテル、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプ
ロパントリアクリレート（４１５２）　、エチレングリ
コールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタク
リレート、１．３−プロパンジオールジメタクリレーｉ
、　　１，２．４−ブタントリオールトリメタクリレー
ト、２，２．４−　）リフチル−１，Ｓ−−！：ンタン
ジオールジメタクリレート、Ｒンタエリスリトールトリ
メタクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、トリメチロールプロノξントリメタクリレート、
１．５−ベンタンジオールジメタクリレート、ジアリル
フマレート、スチレン、１，４−ベンゼンジオールジメ
タクリレート、１，４−ジイソプロペニルベン七ンおよ
び１，３．５−　）リイソプロはニルベンゼンがあげら
、れる。

前記エチレン性不飽和単量体の他に、この光硬化性層は
また少くとも３０００分子量を有する遊離ラジカル開始
連鎖延長付加重合性エチレン性不飽和化合物の少くとも
１種を含有することができる。

このタイプの好ましい単量体は２〜１５個の炭素原子数
のアルキレングリコールまたは１〜１０個のエーテル結
合のポリアルキレンエーテルグリコールから製造された
アルキレンまたはポリアルキレングリコールジアクリレ
ートおよび米国特許菖２．９２７，０２２号明細書に開
示のもの例えば％に末端結合として存在する場合の複数
の付加重合性エチレン結合を有するものである。特に好
ましいものはそのような結合の少くとも１個そして好ま
しくはその＃まとんどが炭素またはへテロ原子例えば窒
素、酸素および硫黄との炭素二重結合を含む二重結合炭
素と共役しているものである。拳著なものはエチレン性
不飽和基特にビニリデン基がエステルまたはアンド構造
に共役しているものである。

活性光線によシ活性化可能であシそして１８５℃および
それ以下では熱的に不活性な好ましい遊＃ラジカル生成
性付加重合開始剤としては共役炭素環系中に２個の環内
カルボニル基を有する置換または非置換の多核キノン例
えば９．１０−アントラキノン、１−クロロアントラキ
ノン、２−クロロアントラキノン、２−メチルアントラ
キノン、２−エチルアントラキノン、２−第３級ブチル
アントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１．４
−ナフトキノン、９−１０−７エナントレンキノン、１
，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラ
キノン、２−メチル−１，４−す７トキノン、２，３−
ジクロロナフトキノン、１，４−ジメチルアント２キノ
ン、２．３−ジメチルアント２キノン、２−フェニルア
ントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、ア
ントラキノンα−スルホン酸のナトリウム塩、３−クロ
ロ−２−メチルアントラキノン、レチンキノン、　　７
，８，９．１０−テトラヒドロナフタセンキノンおよび
１．２，３．４−テトラヒドロベンズＧ）アントラセン
−７，１２−ジオンがあげられる。それらのあるものは
８５℃の低い温度でも熱的に活性であるにしてもこれま
た有用なその他の光開始剤は米国特許第２．７６へ８６
５号明細書に記載されており、これらとしてはビシナル
ケトアルドニルアルコール例エハヘンゾイン、ビバロイ
ン、アシロインエーテル例えばベンゾインメチルおよび
エチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−アリルベ
ンゾインおよびα−フェニルベンゾインを含むα−炭化
水素置換芳香族アシロインがあげられる。米国特許第２
，８５０，４４５号、同第２，８７５，０４７号、同第
５，０９７，０９６号訓第３，０７４，９７４号、同第
３．０９７．０９７号および同第３，１４５，１０４号
各明細書に開示の光還元性染料および還元剤ならびにフ
ェナジン、・オキサジンおよびキノン群の染料、ミヒラ
ーのケトン、ベンゾフェノン、２゜４．５−　）リフェ
ニルイミダゾリルニ量体と水素ドナーとの組合せ、およ
びそれらの混合物で米国特！Ｆ’ｌ’３，４２７，１６
１号、同第５，４７９，１８５号および同第５，５４９
，５６７号各明細書記載のものを開始剤として使用でき
る。また米国特許第４，１６２，１６２号明細書に開示
の増感剤も光開始斎および元阻害剤に関して有用である
。

光重合性組成物中に使用しうる熱重合１５ｆｌｔ害剤は
ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびアルキル
およびアリール番換ヒドロキノンおよびキノン、第３級
ブチルカテコール、ピロガロール、銅レジネート、ナフ
チルアミン、β−ナフトール、塩化第１銅、２，６一ジ
第６級ブチルーｐ−クレゾール、フェノチアジン、ピリ
ジン、ニトロベンセンおよびジニトロベンゼン、ｐ−）
ルキノンおよびクロラニルである。また米国特許＃！４
，１６８，９８２号明細書に開示のニトロソ組成物もま
た熱重合の抑制に対して有用である。

種々の染料および顔料を加え、てレジスト像の可視性を
上昇させることができる。しかしながら使用されるすべ
ての着色剤は好″ましくけ使用される活性線放射に対し
て透明であるべきである。

印刷回路の形成を含む本発明の方法に対して一般に適轟
な基材（基質）は機械強度、化学的抵抗性および良好な
誘電性を有するものである。

すなわち印刷回路用の大抵の板（ボード）材料は通常補
強剤と組合せた熱硬化性または熱可塑性樹脂である。補
強充填剤を伴なう熱硬化性樹脂は通常剛性板用に使用さ
れ、一方補強剤なしの熱可塑性樹脂は通常可撓性回路板
に使用される。

典型的な板構造は紙または紙−ガラス複合体上のフェノ
ールまたはエポキシ樹脂ならびにガラス上のポリエステ
ル、エポキシ、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレ
ンまたはポリスチレンの組合せを包含する。はとんどの
場合、板は電気伝導性金属の薄層で被覆されており、そ
の金属の中では銅が最も一般的である。

石版印刷プレートの製造を含む本発明の方法に対して適
蟲な基材は機械的強度およびそこに積層される偉形成光
感受性部分の表面とは親水性または親油性において異っ
た表面を有するものである。そのような基材は米国特許
第４Ｊ：３７２５２Ｂ号明細書に開示されている。多数
の基材がこの目的に対して満足すべきものであるが、薄
いアノード処理アルεニウムプレート例えば米国特許第
５，４５８，３１１号明細書に開示のものは％に有用で
ある。

表面測定の技術はカバーシートを凍結および破壊させる
ことＫよってカバーシートの断面を走査電子顕微鍵で検
査することを包含する。測定すべきカバーシート試料を
約１インチ×８インチ長さの片に切る。次いで破断点制
御のためにこれらの片の一方の端近くにノツチ（切欠け
）をつける。試料のノツチづけした端をノツチの上まで
液体窒３ＮＣ浸す。試料を完全に凍結させた抜（２〜５
分）、試料を除去しそして直ちに各手にそれぞれの端を
握ることＫより速やかに折り、次いで両方の手を相互に
３インチ近づけ次いで急に引張って放す。きれいな破断
を確実ならしめるためには窒素から除去した後５秒以内
に全操作を完了しなくてはならない。試料をそのエツジ
を垂直にして載置し、そして導体コ−テイングでスパタ
リングさせる。これら試料を次いで走査電子顕微鐘に載
置しそしてロビンソン検出器を使用して大約５００ｘで
測定を実施する。測定は写真上で測定値を１０μの参照
ラインと比較することにより実施される。この場合の参
照ラインは０．６　ｃｍ長さであった。測定はこの技術
を使用して実施例中に使用されたマット化ポリエチレン
について実施された。次の結果が得られた。

測定されたピーク高さは裏側から測定した場合６ｍであ
った。これを０．６　ｃｍ　”ｋす１０μのスケールフ
ァクターを乗すると５０μの全ピーク高さを表わす。バ
レー（くぼみ）への距離は０．６０当りＸ１０μの写真
上で２．５ＩＩと測定されこれはそれが４１．６μであ
ることを示す。これは８４μのビーク−バレー（高さ）
の差を与える。この技術を使用してその他のマット化物
質が測定された。これは２．８５１Ｘα６ｅｓ当り１０
μ＝４６．７μのピーク高さであった。シート裏側から
のノ（レー（くぼみ）の高さは２．４５１Ｘ１０μ１０
．６ｏｎ＝４０μであり、その差は６．７μであった・ これらの性質を示さない標準ポリエチレンもまた測定さ
れ、そしてこれはｔ６３のピーク高さをα６個当り１０
μのスケールファクターを乗すると２７．５μのピーク
高さを与えることが見出された。バレー（くぼみ）はｔ
６画−×１０μ／Ｌ１６Ｃ１すなわち２６．７μであっ
て、α８μの不岬性高さを与えた。

以下の実施例においては特に記載しない限りはすべての
部は重量基準である。

例　　１ ２．２ミルの光重合体を有するＣＬ９２ξルの高透明度
ポリエステルの支持体およびｔ７ミルの平均厚さを有す
る８、４μのマット化に由来するビーク−バレー不等性
を有するポリエチレンのカバーシートから光感受性エレ
メントを製造した。

このエレメントを１８μの測定値のビーク−バレー表面
粗荒性を有し１．５ミル厚さである以外は同一組成の標
準カバーシートを備えた同様の構造物と比較した。この
後者のエレメント番計りストｙ　（Ｒ１ｓｔｏｎ■）Ｊ
　Ｔ−１６８光重合体フィルムレジストとして市販され
ている。マット化カバーシートを使用して製造されたこ
の物質は優れたロール形成性およびロール安定性を示し
そして４０℃での４週の促進老化の後にラップ中の過剰
の空気またはしわ欠陥は存在しなかった。

標準非マット化カバーシートを使用して製造された対照
ロールはスリッティング（ｓｌｉｔｉｌｎｇ）約８時間
でラップ中に化粧的な空気を示し、そしてこれは２週間
以内のオーブン老化の間に機能的欠陥を発現した。

例　２（最良の様式） ２．０ミルの高い透明度のポリエステルの支持体シート
、６．０ミル厚さの光重合体層および１．７ミルの平均
厚さ、および８．４μのビーク−バレー粗荒性を有する
マット化ポリエチレンカバーシートから光感受性エレメ
ントを製造し、そしてこれをｉ、　ｉ　ｓ　ミルの平均
厚さおよび０．８μのビーク−バレー粗荒度を有する以
外は標準カバーシートを備えた光感受性エレメントと比
較した。

この後者の光感受性エレメントは「バクレル（Ｖａｃ　
ｒｅ１■）　」８５０はんだマスクとして市販されてい
る。この物質を４０℃促進老化で４週間老化させた。マ
ット化カバーシートを使用して製造されたフィルムは過
剰の空気捕集、しわおよびゲージバンドタイプの欠陥の
形成を示さなかった。標準カバーシートを使用して製造
された物質はラップの中の空気、しわおよびゲージバン
ドを示し、これらは全体的品質および外観に寄与した。

アース・アンド・コンパ二一

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）可撓性支持体上に担持された光感受性物質の少くと
   も一つの層および除去可能なカバーシートを包含してお
   り、而してそのカバーシートが光感受性組成物から遠い
   方の表面上において粗荒化フィニツシユを有しているこ
   とを特徴とする、光感受性エレメント。 ２）粗荒化フィニツシユがロールのラップの間に空気の
   存在を可能ならしめている。ロール状に巻いた前記特許
   請求の範囲第１項記載のエレメント。 ３）粗荒化フイニツシヱを有する表面が少くとも２μの
   ビーク−バレー平均差を有している前記特許請求の範囲
   第１項記載のエレメント。 ４）前記のビーク−・バレーの平均差が少くとも４μで
   ある前５記特許請求の範囲第１項記載のエレメント。 ５）前記のビーク−バレーの差が一般に４０μ以上では
   ない前記特許請求の範囲第２］３１または３項記載のエ
   レメント。 ６）前記のビーク−バレーの差が一般Ｖｒ、１０μ以上
   ではない前記特許請求の範囲第２または３項記載のエレ
   メント。 ７）粗荒性がロールの幅全体にわたっている前記特許請
   求の範囲第１項記載のエレメント。 ８）粗荒化フィニツシユがテクスチャーフィニツシユで
   ある前記特許請求の範囲第１項記載のエレメント。 ９）　　粗荒化フィニツシユがマット化フィニツシユで
   ある前記特許請求の範囲第１項記載のエレメント。 １０）　Ｉｌｔ化；ｙイニツシュがエンボスフイニツシ
   ユである前記特許請求の範囲第１項記載のエレメント。 １１）ロール状に巻かれた、前記特許請求の範囲第８．
   ９または１０ｉＫ記載のエレメント。 １２）カバーシートまたは支持体が光重合性組成物の自
   動重合を遅延化さゼるＷｋ素の拡散を可能ならしめる、
   ロール状に巻かれた前記特許請求の範囲第１ｆＪ４記載
   のエレメント。 １３）カバーシートが酸素の拡散を可能ならしめる前記
   特許請求の範囲第１２項記載のエレメント。 １４）粗荒化フィニツシユがロールの端縁からラップ中
   への空気の移動を可能ならしめる空気用チャンネルを包
   含している前記特許請求の範囲第１項記載のエレメント
   。 １５）チャンネルが、ロールの一方の端縁から反対の端
   縁までのラップを通して完全に空気を通過せしめる、前
   記特許請求の範囲第１３項記載のエレメント。