JPS58194768A - 仮焼炉 - Google Patents
仮焼炉Info
- Publication number
- JPS58194768A JPS58194768A JP7346182A JP7346182A JPS58194768A JP S58194768 A JPS58194768 A JP S58194768A JP 7346182 A JP7346182 A JP 7346182A JP 7346182 A JP7346182 A JP 7346182A JP S58194768 A JPS58194768 A JP S58194768A
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- Japan
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- raw material
- duct
- cylindrical part
- fuel
- exhaust gas
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Links
- 238000001354 calcination Methods 0.000 title claims 3
- 239000004568 cement Substances 0.000 claims 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
焼炉に関し、特にセメント原料の脱炭酸を良好に行うと
共に、ロータリーキルン排ガスの脱硝をも同時に良好に
行うことのできる仮焼炉に関する。
共に、ロータリーキルン排ガスの脱硝をも同時に良好に
行うことのできる仮焼炉に関する。
第1図は従来一般に使用されているセメント焼成装置を
示す概略説明図である。
示す概略説明図である。
セメントm成装置は、サスペンションプレヒータ(浮遊
式予熱器)1,仮焼炉5,ロータリーキルン7.クーラ
9,クーラ用空気供給ファン10.サスペンションプレ
ヒータの排カス導管11,IDF(誘引ファン)12よ
り構成されている。
式予熱器)1,仮焼炉5,ロータリーキルン7.クーラ
9,クーラ用空気供給ファン10.サスペンションプレ
ヒータの排カス導管11,IDF(誘引ファン)12よ
り構成されている。
サスペンションプレヒータ1は、通常4段のサイクロン
2a, 2b, 2c, 2d を、 サイクロン
相互を結ぶ管路 5a,3b,5c,5dおよび原料シ
ュー) 4a,4b,4c,4dで連結して上下に配
列されたものであシ、ロータリーキルン7から出てくる
1100℃程度の高温の排ガスを利用してセメント原料
を予熱する。またこれらの全系はIDF 1 2により
吸引されて運転されている。
2a, 2b, 2c, 2d を、 サイクロン
相互を結ぶ管路 5a,3b,5c,5dおよび原料シ
ュー) 4a,4b,4c,4dで連結して上下に配
列されたものであシ、ロータリーキルン7から出てくる
1100℃程度の高温の排ガスを利用してセメント原料
を予熱する。またこれらの全系はIDF 1 2により
吸引されて運転されている。
仮焼炉5は、流動化用空気供給プロワ6c。
流動化用空気ダク)6a, クー?qから7o。
℃程度の熱風を供給するための抽気ダクト6b。
サイクロン2cからの原料シュート4d、燃料供給管6
dおよび排ガスダクト6θより構成されており、燃料供
給管6dからの燃料をダクト6a、6bからの空気で燃
焼させて、シュート4dからのセメント原料を750〜
850℃に加熱し、脱炭酸させるものである。仮焼炉5
内で脱炭酸されたセメント原料と排ガスは、排ガスダク
ト6eを通り、管路3d内のガスと合流してサイクロン
2dに気流輸送され、サイクロン2dで固気分離され、
セメント原料のみ原料シュート4eからロータリーキル
ン7に供給される。
dおよび排ガスダクト6θより構成されており、燃料供
給管6dからの燃料をダクト6a、6bからの空気で燃
焼させて、シュート4dからのセメント原料を750〜
850℃に加熱し、脱炭酸させるものである。仮焼炉5
内で脱炭酸されたセメント原料と排ガスは、排ガスダク
ト6eを通り、管路3d内のガスと合流してサイクロン
2dに気流輸送され、サイクロン2dで固気分離され、
セメント原料のみ原料シュート4eからロータリーキル
ン7に供給される。
ロータリーキルン7は、バーナ8から供給される燃料の
燃焼熱により1450℃程度までセメント原料を加熱し
、反応させてタリンカにかえるものである。
燃焼熱により1450℃程度までセメント原料を加熱し
、反応させてタリンカにかえるものである。
クーラ9は、ロータリーキルン7から排出される高温の
タリンカの冷却装置であり、ファン10からの空気でタ
リンカを150〜250℃なお、クーラ9で加熱された
空気の一部は、抽気ダクト6bによシ仮焼炉5へ供給さ
れる。
タリンカの冷却装置であり、ファン10からの空気でタ
リンカを150〜250℃なお、クーラ9で加熱された
空気の一部は、抽気ダクト6bによシ仮焼炉5へ供給さ
れる。
第2図は従来の仮焼炉5の構成を示す説明図、第6図は
第2図のA−A断面矢視図である。仮焼炉5の炉底には
多数のノズルからなる空気分散板6fを有し、その上方
側壁に原料シュート4d、燃料供給管6dを、さらにこ
れらの上方側壁に周方向に1〜4本からなる抽気ダクト
6bを有している。空気分散板6fの下方には流動化用
空気ダクト6a、空気室6gを有し、空気分散板6fの
中心近傍に粉体の排出管6hを有し、該排出管6hには
排出パルプ61が設けられている。
第2図のA−A断面矢視図である。仮焼炉5の炉底には
多数のノズルからなる空気分散板6fを有し、その上方
側壁に原料シュート4d、燃料供給管6dを、さらにこ
れらの上方側壁に周方向に1〜4本からなる抽気ダクト
6bを有している。空気分散板6fの下方には流動化用
空気ダクト6a、空気室6gを有し、空気分散板6fの
中心近傍に粉体の排出管6hを有し、該排出管6hには
排出パルプ61が設けられている。
通常、仮焼炉5では、管6dよシ供給される燃料の燃焼
に必要な空気量の約10〜20%を流動化4空気ダバ°
から・残り0燃焼1必 1・7要な空気量を抽気ダク
ト6bから供給している。
に必要な空気量の約10〜20%を流動化4空気ダバ°
から・残り0燃焼1必 1・7要な空気量を抽気ダク
ト6bから供給している。
また仮焼炉5内の温度はセメント原料の脱炭酸反応のた
めに750〜850℃の低温に保たれ、更にセメント原
料自体の触媒作用のために仮焼炉5内でのNOx発生量
は低く、一般には100〜200 ppm程度である。
めに750〜850℃の低温に保たれ、更にセメント原
料自体の触媒作用のために仮焼炉5内でのNOx発生量
は低く、一般には100〜200 ppm程度である。
仮焼炉は、第2.3図に示したような流動層を利用する
形式のほかに、旋回流を利用するもの、簡単な噴流層を
利用するもの、および旋回流と簡単な噴流層とを併用す
るものなどがある。
形式のほかに、旋回流を利用するもの、簡単な噴流層を
利用するもの、および旋回流と簡単な噴流層とを併用す
るものなどがある。
ところで、最近は、エネルギ事情により燃料を液体燃料
(主として重油)から固体燃料(主として微粉炭)へか
わりつつおり、それにともなって前述の従来の仮焼炉で
は下記の欠点を有することが明らかとなってきた。
(主として重油)から固体燃料(主として微粉炭)へか
わりつつおり、それにともなって前述の従来の仮焼炉で
は下記の欠点を有することが明らかとなってきた。
(1)旋回流や簡単な噴流層を利用した仮焼炉では、一
般に流動層を利用したものに比べて原料および燃料の滞
留時間が短く、また比較的酸素濃度の低い雰囲気で燃料
の燃焼が行われるので、原料および燃料が充分に脱炭酸
あるいは燃焼しないうちに排出されることが多い。
般に流動層を利用したものに比べて原料および燃料の滞
留時間が短く、また比較的酸素濃度の低い雰囲気で燃料
の燃焼が行われるので、原料および燃料が充分に脱炭酸
あるいは燃焼しないうちに排出されることが多い。
そうすると原料の脱炭酸率が低下するのみならず、燃料
が仮焼炉内で完全燃焼せす、サスペンションプレヒータ
の最下段サイクロンまたはそれよシ上段のサイクロンや
サイクロン間のダクトにおいて燃料の2次燃焼が生し、
それらの個所におけるコーチングトラブルやサスペンシ
ョンプレヒータの排ガス温度全上昇させ、セメント焼成
装置全体の安定運転に支障をきたしたり熱消費量を増加
させるなどの不都合を生じる。
が仮焼炉内で完全燃焼せす、サスペンションプレヒータ
の最下段サイクロンまたはそれよシ上段のサイクロンや
サイクロン間のダクトにおいて燃料の2次燃焼が生し、
それらの個所におけるコーチングトラブルやサスペンシ
ョンプレヒータの排ガス温度全上昇させ、セメント焼成
装置全体の安定運転に支障をきたしたり熱消費量を増加
させるなどの不都合を生じる。
また、旋回流や簡単な噴流層を利用した仮焼炉で、石炭
などの窒素分が比較的多い燃料を使用すると、750〜
850℃と低温であっても燃料からくる窒素分の酸化に
よるNOxが発生するので、セメント焼成装置よシ排出
されるNOxを充分に低減させることができない場合も
多い。
などの窒素分が比較的多い燃料を使用すると、750〜
850℃と低温であっても燃料からくる窒素分の酸化に
よるNOxが発生するので、セメント焼成装置よシ排出
されるNOxを充分に低減させることができない場合も
多い。
(2) セメント焼成装置におけ木ロータリ・−キル
ンでは、焼成反応部の温度Q1450℃と非常に高くす
る必要があるために、発生するNOx (いわゆるサー
マルNOX )の濃度が高い。
ンでは、焼成反応部の温度Q1450℃と非常に高くす
る必要があるために、発生するNOx (いわゆるサー
マルNOX )の濃度が高い。
しかし、第1図に示したような、低NOxの仮焼炉排ガ
スと高NOxのキルン排ガスを混合して排出する方式で
は、高NOxのキルン排ガスを低NOxの仮焼炉排ガス
で稀釈する効果しか期待できず、キルン排ガスそのもの
の低NOx化には寄与できない。従って、セメント焼成
装置から排出するNOxを充分に低減させることはでき
ない。
スと高NOxのキルン排ガスを混合して排出する方式で
は、高NOxのキルン排ガスを低NOxの仮焼炉排ガス
で稀釈する効果しか期待できず、キルン排ガスそのもの
の低NOx化には寄与できない。従って、セメント焼成
装置から排出するNOxを充分に低減させることはでき
ない。
本発明は、キルン排ガスの脱硝性を持たせた運転安定性
の高い小形(小容積)仮焼炉を提供するもので、仮焼炉
に噴流層を組合せることにより、小容積の炉でセメント
原料と石炭との混合性を改善し、かつセメント原料や石
炭の滞留時間を増して、石炭の着火と完全燃焼とを容易
にし、仮焼炉の脱炭酸性能を高めると共に、脱硝性能を
高めるものである。
の高い小形(小容積)仮焼炉を提供するもので、仮焼炉
に噴流層を組合せることにより、小容積の炉でセメント
原料と石炭との混合性を改善し、かつセメント原料や石
炭の滞留時間を増して、石炭の着火と完全燃焼とを容易
にし、仮焼炉の脱炭酸性能を高めると共に、脱硝性能を
高めるものである。
すなわち本発明は、セメント原料焼成装置における仮焼
炉において、中間部に円筒部を設け、該円筒部にクリン
カクーラからの抽気を接線方向に増大れるダクトを該円
筒部の側壁と接するように設け、該側壁は該ダクトとの
結合部から離れるにしたがい上記円筒部の中心に近づく
ように渦巻状となし、上記円筒部の天井部にセメント原
料粉末供給シュートと燃料供給管を設け、かつ上記円筒
部の上方に下部がロート状の円筒部を、下方に上部が逆
ロート状の円筒部をそれぞれ設けてなる仮焼炉に関する
ものである。
炉において、中間部に円筒部を設け、該円筒部にクリン
カクーラからの抽気を接線方向に増大れるダクトを該円
筒部の側壁と接するように設け、該側壁は該ダクトとの
結合部から離れるにしたがい上記円筒部の中心に近づく
ように渦巻状となし、上記円筒部の天井部にセメント原
料粉末供給シュートと燃料供給管を設け、かつ上記円筒
部の上方に下部がロート状の円筒部を、下方に上部が逆
ロート状の円筒部をそれぞれ設けてなる仮焼炉に関する
ものである。
本発明仮焼炉は、セメント焼成装置、石炭焼成装置の他
に、粉体の高温処理を必要とする装置一般に適用するこ
とができる。
に、粉体の高温処理を必要とする装置一般に適用するこ
とができる。
第4図は本発明の仮焼炉を適用した場合のセメント焼成
装置の一例を示す説明図である。
装置の一例を示す説明図である。
第4図においては、ロータリーキルン7からのキルン排
ガスダクト26と最下段サイクロン2dを連結する管路
の途中に仮焼炉25を設け、その排ガスダクト31を最
下段サイクロン2dと結合するものである。この仮焼炉
25は以上のダクト26.31のほかに、クーラ9から
の抽気ダクト27.II/#下段よ、りも−最上方のサ
イク 70ン2cの原料ンユー)4d、燃料供
給管28および流動化用ブロワ30、流動化用空気ダク
ト29より構成されている。なお、第4図中、第1図と
同一符号は第1図と同−機能部を示す。
ガスダクト26と最下段サイクロン2dを連結する管路
の途中に仮焼炉25を設け、その排ガスダクト31を最
下段サイクロン2dと結合するものである。この仮焼炉
25は以上のダクト26.31のほかに、クーラ9から
の抽気ダクト27.II/#下段よ、りも−最上方のサ
イク 70ン2cの原料ンユー)4d、燃料供
給管28および流動化用ブロワ30、流動化用空気ダク
ト29より構成されている。なお、第4図中、第1図と
同一符号は第1図と同−機能部を示す。
第5図は本発明仮焼炉の〜実施態様例を示す説明図であ
る。
る。
第5図において仮焼炉全体25は、中間部の円筒部36
と、その上方の円筒部37と、その下方の円筒部35と
からなり、これら3つの円筒部はそれぞれ脱硝室35、
混合・燃焼室36および燃焼・脱炭酸室37として作用
する。脱硝室35は、その下部がロート状でその下端が
キルン排ガスダクト26とつながり、その上部が逆ロー
ト状で、その上端が混合・燃焼室36につながり、さら
にその側壁が原料シュート4d2および燃料供給管28
′とつながる構造である。
と、その上方の円筒部37と、その下方の円筒部35と
からなり、これら3つの円筒部はそれぞれ脱硝室35、
混合・燃焼室36および燃焼・脱炭酸室37として作用
する。脱硝室35は、その下部がロート状でその下端が
キルン排ガスダクト26とつながり、その上部が逆ロー
ト状で、その上端が混合・燃焼室36につながり、さら
にその側壁が原料シュート4d2および燃料供給管28
′とつながる構造である。
混合・燃焼室36は、その側壁に抽気ダクト27を、そ
の天井部に原料シュート4dlと燃料供給管28とを有
し、その下端は脱硝室35に、その上端は燃焼・脱炭酸
室57につながる構造である。燃焼・脱炭酸室37は、
下部がロート上部が逆ロート状に絞られその上端が排ガ
スダクト31につながる構造である。
の天井部に原料シュート4dlと燃料供給管28とを有
し、その下端は脱硝室35に、その上端は燃焼・脱炭酸
室57につながる構造である。燃焼・脱炭酸室37は、
下部がロート上部が逆ロート状に絞られその上端が排ガ
スダクト31につながる構造である。
この混合・燃焼室36の断面図を第6図(第5図のB−
B断面矢視図)に示す。混合・燃焼室36の外側壁36
aと接するように抽気ダクト27を有し、混合・燃焼室
36の天井面36bに燃料供給管28および原料シュー
)4d。
B断面矢視図)に示す。混合・燃焼室36の外側壁36
aと接するように抽気ダクト27を有し、混合・燃焼室
36の天井面36bに燃料供給管28および原料シュー
)4d。
を有している。混合・燃焼室36の外側壁36aは抽気
ダクト27との結合部よりも離れるにしたがい炉の中心
に近づくような渦巻状の形状となっている。
ダクト27との結合部よりも離れるにしたがい炉の中心
に近づくような渦巻状の形状となっている。
第5.6図に示す本発明仮焼炉では、次の作用が生じる
。
。
(1) 混合・燃焼室36では抽気ダクト27より供
給される空気により強い旋回流が生じる。
給される空気により強い旋回流が生じる。
混合・燃焼室36の天井から供給されたセメント原料お
よび燃料は、その旋回流により分散されながら遠心力に
より側壁方向へと移動するが、分散と側壁面上での移動
の過程で、(2) 原料シュート4d、より供給され
るセメント原料と燃料供給管28′より供給される燃料
は、脱硝室35内ではキルン排ガスダクト26から供給
されるキルン排ガスにより完全な噴流層となり、セメン
ト原料と燃料の滞留時間を長くできる。
よび燃料は、その旋回流により分散されながら遠心力に
より側壁方向へと移動するが、分散と側壁面上での移動
の過程で、(2) 原料シュート4d、より供給され
るセメント原料と燃料供給管28′より供給される燃料
は、脱硝室35内ではキルン排ガスダクト26から供給
されるキルン排ガスにより完全な噴流層となり、セメン
ト原料と燃料の滞留時間を長くできる。
(3)混合・燃焼室36の旋回気流に搬送されて燃焼・
脱炭酸室37に入ったセメント原料と燃料は、この燃焼
・脱炭酸室37で完全な噴流層となり、滞留時間を長く
できる。
脱炭酸室37に入ったセメント原料と燃料は、この燃焼
・脱炭酸室37で完全な噴流層となり、滞留時間を長く
できる。
以上の(11〜(3)の作用により、次のような効果を
奏することができる。
奏することができる。
(1) 前記の(1)で述べた作用によシ、セメント
原料と燃料とを均一に混合できる。その結果、燃焼によ
る発熱量と脱炭酸による吸熱量をバランスさせることが
でき、炉内の脱炭酸基分布および温度分布を均一にする
ことができる。
原料と燃料とを均一に混合できる。その結果、燃焼によ
る発熱量と脱炭酸による吸熱量をバランスさせることが
でき、炉内の脱炭酸基分布および温度分布を均一にする
ことができる。
(2) 前記の(2)で述べた作用によシ、単位通過
キルン排ガス流量当りに混合接触する燃料量および触媒
となるセメント原料の量を増すことができる。その結果
、キルン排ガス中のNOxを効果的に還元することがで
きる。
キルン排ガス流量当りに混合接触する燃料量および触媒
となるセメント原料の量を増すことができる。その結果
、キルン排ガス中のNOxを効果的に還元することがで
きる。
(3)前記の(3)で述べた作用による燃焼・脱炭酸室
37におけるセメント原料と燃料の滞留時間の増加のた
めに、燃料の燃焼およびセメント原料の脱炭酸が充分に
行われやすい。
37におけるセメント原料と燃料の滞留時間の増加のた
めに、燃料の燃焼およびセメント原料の脱炭酸が充分に
行われやすい。
(4)そして、上記の(1)、 (2)の効果により、
炉の小形化が可能となる。
炉の小形化が可能となる。
第1図は従来のセメント原料焼成装置を示す説明図、第
2図は従来の仮焼炉の説明図、第3図は第2図のA−A
断面矢視図、第4図は本発明仮焼炉を適用したセメント
原料焼成装置の一実施態様例を示す説明図、第5図は本
発明仮焼炉の一実施態様例を示す説明図、第6図は第5
図のB−B断面矢視図である。 I 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 第1図 第2図 j
2図は従来の仮焼炉の説明図、第3図は第2図のA−A
断面矢視図、第4図は本発明仮焼炉を適用したセメント
原料焼成装置の一実施態様例を示す説明図、第5図は本
発明仮焼炉の一実施態様例を示す説明図、第6図は第5
図のB−B断面矢視図である。 I 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 第1図 第2図 j
Claims (1)
- セメント原料焼成装置における仮焼炉において、中間部
に円筒部を設け、該円筒部にクリンカクーラからの抽気
を接線方向に取入れるダクトを該円筒部の側壁と接する
ように設け、該側壁は該ダクトとの結合部から離れるに
したがい上記円筒部の中心に近づくように渦巻状となし
、上記円筒部の天井部にセメント原料粉末供給シュート
と燃料供給管を設け、かつ上記円筒部の上方に下部がロ
ート状の円筒部を、下方に上部が逆ロート状の円筒部を
それぞれ設けてなる仮焼炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7346182A JPS58194768A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 仮焼炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7346182A JPS58194768A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 仮焼炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58194768A true JPS58194768A (ja) | 1983-11-12 |
Family
ID=13518912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7346182A Pending JPS58194768A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 仮焼炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58194768A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016153365A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-25 | 三菱マテリアル株式会社 | 流動仮焼炉 |
-
1982
- 1982-05-04 JP JP7346182A patent/JPS58194768A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016153365A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-25 | 三菱マテリアル株式会社 | 流動仮焼炉 |
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