JPS58199351A - 画像情報記録媒体及び記録読出し方法 - Google Patents
画像情報記録媒体及び記録読出し方法Info
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- JPS58199351A JPS58199351A JP57081590A JP8159082A JPS58199351A JP S58199351 A JPS58199351 A JP S58199351A JP 57081590 A JP57081590 A JP 57081590A JP 8159082 A JP8159082 A JP 8159082A JP S58199351 A JPS58199351 A JP S58199351A
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- Japan
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- information recording
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Combination Of More Than One Step In Electrophotography (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Facsimiles In General (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、−像情報音記録するkめの画像情報(3)
記録媒体及びこれを用(・るll1i像情報記録続出し
方法に関し、更に詳しくは電磁放射線による1導情報を
記録り、この記録さtIた画像情報を電気信号の形で読
出丁ことのできる画像情報記録媒体及び、′ttv用(
・る画像情報記録続出し7方法に関するもl/Jである
。
方法に関し、更に詳しくは電磁放射線による1導情報を
記録り、この記録さtIた画像情報を電気信号の形で読
出丁ことのできる画像情報記録媒体及び、′ttv用(
・る画像情報記録続出し7方法に関するもl/Jである
。
従来にお(・て、X@像、可視光像等の電磁放射線にす
る+dii像情@シCより対応し1−画像をP/成14
・ためには、主としてMi塩悪感光材料電子写に感光体
等が用(・ら才【て(・るか、近年((お(・ては、l
1lil像情報の伝送、修正、蓄積、表示、9祝画像化
等の処理り′大さな自由l蝮i・もって行fcい祷る1
5、電磁放射−による画像情報を電気信号による画像情
報に変換−14)ことの必要性が大さくな)てさて(る
。
る+dii像情@シCより対応し1−画像をP/成14
・ためには、主としてMi塩悪感光材料電子写に感光体
等が用(・ら才【て(・るか、近年((お(・ては、l
1lil像情報の伝送、修正、蓄積、表示、9祝画像化
等の処理り′大さな自由l蝮i・もって行fcい祷る1
5、電磁放射−による画像情報を電気信号による画像情
報に変換−14)ことの必要性が大さくな)てさて(る
。
然るに、この変換を元寛子増倍管等ケ利用し−(行なり
場合をでは、変換が直接的であ4)pめ必要な処理ケ施
−1ことかできな(・。そこで最近にJ、)(・“τは
、CCD (Charge C’oupled Dev
ice )、CID(Charge Injectio
n Device )、B B D (BucketB
rigade Device)等の固体撮像素子の実用
化の研究もなされて(・4Iか、斯かる固体撮像素子に
お(・て&j分光感度波長域が限られており、例えば紫
外柳、X@等の波長の短い電磁放射線に対しては感に?
自さす、従って適用範囲か狭(・欠点がある。
場合をでは、変換が直接的であ4)pめ必要な処理ケ施
−1ことかできな(・。そこで最近にJ、)(・“τは
、CCD (Charge C’oupled Dev
ice )、CID(Charge Injectio
n Device )、B B D (BucketB
rigade Device)等の固体撮像素子の実用
化の研究もなされて(・4Iか、斯かる固体撮像素子に
お(・て&j分光感度波長域が限られており、例えば紫
外柳、X@等の波長の短い電磁放射線に対しては感に?
自さす、従って適用範囲か狭(・欠点がある。
また、米国特許第3859527号明細書、特公昭55
−47719号公報、特公昭55−47720号公報、
物開昭55−12142号公報には、X線、γ線等の放
射線像ン螢元体記録媒体に記録し、その後当該媒体ンレ
ーザ光により走査し−(こt;により発生する螢yt、
ケ検出する方法及びこれに用(・る記録媒体か開示され
て(・^か、斯かシ)技術においては記録さ才11こ画
像情報の続出しン、微弱な螢光を電気信号に変換するこ
とによって行なわなければならす、尤電子増倍管或(・
は特殊な光学系を必要とし、装置が複雑化し、しかも−
・わゆるオンライン処理を打なうことかできず、解像力
も小さい等の欠点がある。 川 一方、米国特許第4268750号明細書には、アルミ
ニクム電他層EKセレ/より成る光導電層重(5) 設け、この光導電層ヒに透明絶縁層ン設け、更4rこの
絶縁層上に透明電極層1に:設けて欣る記録媒体、及び
このnC録媒体により放射線像を記録し、これケレーザ
光で読み出す方法が開示さ11て(・くI。この技術に
j、、: L・では、記録さ1ITs−像情報が電気信
号の形で読み出され、即時読出しが6J能である利点は
ある。
−47719号公報、特公昭55−47720号公報、
物開昭55−12142号公報には、X線、γ線等の放
射線像ン螢元体記録媒体に記録し、その後当該媒体ンレ
ーザ光により走査し−(こt;により発生する螢yt、
ケ検出する方法及びこれに用(・る記録媒体か開示され
て(・^か、斯かシ)技術においては記録さ才11こ画
像情報の続出しン、微弱な螢光を電気信号に変換するこ
とによって行なわなければならす、尤電子増倍管或(・
は特殊な光学系を必要とし、装置が複雑化し、しかも−
・わゆるオンライン処理を打なうことかできず、解像力
も小さい等の欠点がある。 川 一方、米国特許第4268750号明細書には、アルミ
ニクム電他層EKセレ/より成る光導電層重(5) 設け、この光導電層ヒに透明絶縁層ン設け、更4rこの
絶縁層上に透明電極層1に:設けて欣る記録媒体、及び
このnC録媒体により放射線像を記録し、これケレーザ
光で読み出す方法が開示さ11て(・くI。この技術に
j、、: L・では、記録さ1ITs−像情報が電気信
号の形で読み出され、即時読出しが6J能である利点は
ある。
しかしなから、この技術にお−・てけ、光導電層にお(
・−C定住t−r、′キャリアの利用効率が低(・E1
キャリアの保持能力か小さく・T、−めに記録さ21
lこ情報の劣化の程髪か大さく、また使用ヒ榴々の制約
があるために必ずしも十分なIIIIi像情報の配録及
び読田しを行なうことができない。
・−C定住t−r、′キャリアの利用効率が低(・E1
キャリアの保持能力か小さく・T、−めに記録さ21
lこ情報の劣化の程髪か大さく、また使用ヒ榴々の制約
があるために必ずしも十分なIIIIi像情報の配録及
び読田しを行なうことができない。
本発明は以上の妬き事情に基いてなきtty=ものであ
って、記録用電磁放射線にょっ−(確実に画像情報を記
録すること□かできると共にその記録された画像情報を
十分圧保存することかでさ、まに絖出しKお(・ては直
接電気信号によるiki像情砿としてI&b(・siで
art出°づことかでさて良好な再生画像V得ることが
h1訃であり、しかも使用にお(rゐ自(6) 内置が大さくて種々の特長のある態様で使用することか
でさる画像情報記録媒体及びこれt用いる画像情報記録
続出し方法ン提供することを目的とする。
って、記録用電磁放射線にょっ−(確実に画像情報を記
録すること□かできると共にその記録された画像情報を
十分圧保存することかでさ、まに絖出しKお(・ては直
接電気信号によるiki像情砿としてI&b(・siで
art出°づことかでさて良好な再生画像V得ることが
h1訃であり、しかも使用にお(rゐ自(6) 内置が大さくて種々の特長のある態様で使用することか
でさる画像情報記録媒体及びこれt用いる画像情報記録
続出し方法ン提供することを目的とする。
木兄15#1uii敏情報記鍮媒体の%像とするところ
は、光導電層の両面に一亀体層?積層して成る潜像形成
層と、この潜像形成層の両面に積場される電極層、と丁
り敗り、前記光導電層の少なくとも一面上kCi・(し
する銹亀体層及び電極層が何れも波長400nmU上の
光に対して透光性である点にある。
は、光導電層の両面に一亀体層?積層して成る潜像形成
層と、この潜像形成層の両面に積場される電極層、と丁
り敗り、前記光導電層の少なくとも一面上kCi・(し
する銹亀体層及び電極層が何れも波長400nmU上の
光に対して透光性である点にある。
。1二、11::::ご::ニニ:::::二Σ二るm
像形成層を具えて成る画像情報記録媒体ン用い、その光
導電層に画像情報に従う記録用電磁放射1mヲ照射する
ことにより前記潜像形成層に当該画像情報に対応するバ
ター7の潜像ン形成する画像端@記録工程と、前記潜像
形成層Kak長4QQnm以上の続出し月光を照射して
走査せしめることにより、前記潜像形成層の両面に設け
た電極ン介して、前記バター/の潜像に対応した電気信
号を得(7) る続出し工程と6よむ点にある。
像形成層を具えて成る画像情報記録媒体ン用い、その光
導電層に画像情報に従う記録用電磁放射1mヲ照射する
ことにより前記潜像形成層に当該画像情報に対応するバ
ター7の潜像ン形成する画像端@記録工程と、前記潜像
形成層Kak長4QQnm以上の続出し月光を照射して
走査せしめることにより、前記潜像形成層の両面に設け
た電極ン介して、前記バター/の潜像に対応した電気信
号を得(7) る続出し工程と6よむ点にある。
以下図面によって本発明を具体的に説明1−る。
第1図は本発明方法の概略)r7r、丁−明図であり、
X−源等より成る記鎌用電磁放射縁発生装mlよりの電
磁放射lIMRを被写体2を介して、後述1も画像情報
記録媒体3に照射する。電磁放射Mtt&z破写体2の
各部における当該電磁放射IMRの透過率に従って透過
するから、記録線体3に対し′(゛照射される記録用電
磁放射、1ilRIは、被写体2 rC,Jるtiij
&情報tこ従うものとt、Cす、後述″′fるようVに
のl[lj@情報か記録媒体3にjjl−・てキャリア
の分布による潜像として記録さilる。続出しに際して
は、例えばレーザ光源等より成る絖出し用光発生装置4
よりの続出し月光りにより記録媒体3ケ走査し、前記潜
g1ケ構成するキャリアによる電気信号を記録媒体30
両而面設けた電極により堆出して信号処理装置5により
画像情報として再生せしめ、画像表示装w6によってこ
の画像情報による一家乞表示せしめる。こ才【によって
、記録用放射41i1RIによる一儂情報ン記鍮媒体3
に記録し、読出し、による電気信号Y遠隔地にまで伝送
し、処理し、可視化することかできる。以上にお(・て
信号処理装置5及び画像表示装置は、記録線体3より得
られる電気信号による画會情報な適当に処理して可視像
として表示し得るものであればよく、特に制限はない。
X−源等より成る記鎌用電磁放射縁発生装mlよりの電
磁放射lIMRを被写体2を介して、後述1も画像情報
記録媒体3に照射する。電磁放射Mtt&z破写体2の
各部における当該電磁放射IMRの透過率に従って透過
するから、記録線体3に対し′(゛照射される記録用電
磁放射、1ilRIは、被写体2 rC,Jるtiij
&情報tこ従うものとt、Cす、後述″′fるようVに
のl[lj@情報か記録媒体3にjjl−・てキャリア
の分布による潜像として記録さilる。続出しに際して
は、例えばレーザ光源等より成る絖出し用光発生装置4
よりの続出し月光りにより記録媒体3ケ走査し、前記潜
g1ケ構成するキャリアによる電気信号を記録媒体30
両而面設けた電極により堆出して信号処理装置5により
画像情報として再生せしめ、画像表示装w6によってこ
の画像情報による一家乞表示せしめる。こ才【によって
、記録用放射41i1RIによる一儂情報ン記鍮媒体3
に記録し、読出し、による電気信号Y遠隔地にまで伝送
し、処理し、可視化することかできる。以上にお(・て
信号処理装置5及び画像表示装置は、記録線体3より得
られる電気信号による画會情報な適当に処理して可視像
として表示し得るものであればよく、特に制限はない。
本発明画像情報記録線体の具体的構成を第2図及び第3
図に示す。第2図のもσ〕は、金属板より敗る導電支持
体により構成された下部電極層lO上に、下S誘電体層
11、光導電層12及び上部誘電体・層13″Ik:こ
のjlK積層せしめて成る潜像形成層14に’設け、こ
の潜像形成層14の上面即ち上部誘電体層13の表面上
に上部電極層1st積層せしめた層構成を有し、上SS
電体層13及び上部電極層15は、波長400 am以
上の光Kmして実質上透明となるよう形成される。第3
図のものは、絶縁性基板16上に下部電極層10、第2
図と同様の潜像形成層14及び上部電極層151に:こ
の順に積層せしめた層構成を有し、第2図のものと同様
に下部誘電体層13と上部電極層15とが、或いはこれ
に(9) 代えて若しくけこれと共に、下部誘電体層11と下部電
極層lOと絶縁性基板16とが、波長400am以上の
光に対して実質上透明とさtする。
図に示す。第2図のもσ〕は、金属板より敗る導電支持
体により構成された下部電極層lO上に、下S誘電体層
11、光導電層12及び上部誘電体・層13″Ik:こ
のjlK積層せしめて成る潜像形成層14に’設け、こ
の潜像形成層14の上面即ち上部誘電体層13の表面上
に上部電極層1st積層せしめた層構成を有し、上SS
電体層13及び上部電極層15は、波長400 am以
上の光Kmして実質上透明となるよう形成される。第3
図のものは、絶縁性基板16上に下部電極層10、第2
図と同様の潜像形成層14及び上部電極層151に:こ
の順に積層せしめた層構成を有し、第2図のものと同様
に下部誘電体層13と上部電極層15とが、或いはこれ
に(9) 代えて若しくけこれと共に、下部誘電体層11と下部電
極層lOと絶縁性基板16とが、波長400am以上の
光に対して実質上透明とさtする。
下部誘電体層11及び−ヒsh電体層13 Get、そ
の比抵抗が1014Ω・1以上であることが好ましく、
材質としては任意の誘電体、例えばポリエナレノ・テレ
フタレート等の樹脂、その他が用(・られ、その形成に
は、塗布法、ラミネート法等が利用される。
の比抵抗が1014Ω・1以上であることが好ましく、
材質としては任意の誘電体、例えばポリエナレノ・テレ
フタレート等の樹脂、その他が用(・られ、その形成に
は、塗布法、ラミネート法等が利用される。
波長400nm以上の光に対して透光性とする必要のな
(・下部電極層lO又は上部電極層15は、任意の導電
性材料を用(・て任意の方法で形成することかでさ、例
えば、アルミニウム、]ζラジウム、銅。
(・下部電極層lO又は上部電極層15は、任意の導電
性材料を用(・て任意の方法で形成することかでさ、例
えば、アルミニウム、]ζラジウム、銅。
鉄、ニッケル、ステンレス鋼、金、銀、スズ、畦鉛等の
金属板、或いは斯かる金属のシートvう、ネートし若し
くは蒸着膜を設けたもの、又は前記の如き金属若しくは
カーボンブラック等の導電性粉末ケバインダー樹脂中に
分散せしめて成る導電層を設けたものt用−・ることか
でさる。
金属板、或いは斯かる金属のシートvう、ネートし若し
くは蒸着膜を設けたもの、又は前記の如き金属若しくは
カーボンブラック等の導電性粉末ケバインダー樹脂中に
分散せしめて成る導電層を設けたものt用−・ることか
でさる。
下1itn極層10又は上部電極層15を波長400n
01以上の光に対して透光性のものと1石場合にお4j
(lO) るそ1らの材料としては、アルミニウム、金、白書、銀
、パラジウム、酸化インジウム、酸化スズ等の薄膜より
成る透明電極材料か用(・られ、そσ)形成11CAt
、例えば蒸着法、スズくツタ法、圧着法、ラミネート法
などが利用される。
01以上の光に対して透光性のものと1石場合にお4j
(lO) るそ1らの材料としては、アルミニウム、金、白書、銀
、パラジウム、酸化インジウム、酸化スズ等の薄膜より
成る透明電極材料か用(・られ、そσ)形成11CAt
、例えば蒸着法、スズくツタ法、圧着法、ラミネート法
などが利用される。
前記記録線体3の潜像形成層14における光導電層12
は、用(・られる紀鍮用電磁放射綜及び銃田し月光に対
して感tv有するものであれ1よ−・。この光導電層1
2は、光導電性物質の塗布、蒸着、スバソタリ/グ、化
学蒸着などの方法により形成することかできる。光導電
性物質として昏i暗時にお(・て1012〜tol?Ω
・1の比抵抗値を有し、関係する電磁放射線の照射によ
り抵抗値か1桁以上減少するものか好ましい。なお、以
上の光導電層12σ)厚さは、0.1〜500μ、好ま
しくは1〜400μである。
は、用(・られる紀鍮用電磁放射綜及び銃田し月光に対
して感tv有するものであれ1よ−・。この光導電層1
2は、光導電性物質の塗布、蒸着、スバソタリ/グ、化
学蒸着などの方法により形成することかできる。光導電
性物質として昏i暗時にお(・て1012〜tol?Ω
・1の比抵抗値を有し、関係する電磁放射線の照射によ
り抵抗値か1桁以上減少するものか好ましい。なお、以
上の光導電層12σ)厚さは、0.1〜500μ、好ま
しくは1〜400μである。
前記光導電層12の構成に用いられる光導電性物質の例
を挙げると次の遡りである。
を挙げると次の遡りである。
1)無機光導電性物質
84%Ge 、 Ss ナトの半導体、これら半導体装
置(11) (はSn、 Pb%Bi 、 S、 Te、 As
、 Zn%CdSIjg、Cu、 Ag、 AI 、
Ga、 Inなどの会楓馨含有する化合物。これらは
結晶状態でk・つても無定形丁゛あってもよ(・。好ま
しし・ものとしては、アモルファスSi、 7モ#77
Xsic、 7−tニルy−rxGeC、Se。
置(11) (はSn、 Pb%Bi 、 S、 Te、 As
、 Zn%CdSIjg、Cu、 Ag、 AI 、
Ga、 Inなどの会楓馨含有する化合物。これらは
結晶状態でk・つても無定形丁゛あってもよ(・。好ま
しし・ものとしては、アモルファスSi、 7モ#77
Xsic、 7−tニルy−rxGeC、Se。
5e−Te 、 5e−Te−As 、 As、S、
、 As2Se、、PbO5PbS。
、 As2Se、、PbO5PbS。
ZnO,ZnS、 Cdsなどを挙げることかでざる。
他の有用なものとしては、(Zn、 Cd ) S、
uよびZnS:A、CdS:A、 (Zn 、Cd )
S:A1ZnS:A、X%CdS:A、X(これらに
お(・てAはCu、 Ag、AuまたはMn 11 次
わし、Xはハロゲンである。)、オよび米国特許第3,
859,527号明細誓に記載されて(・る、SrS:
Ce、Sm % SrS:Eu、am、 La2O2
S:Eu、Stn M よび(Zn、Cd)S:Mn
、X (ここにXはハ0ゲ/である。)、特開昭55−
12142号公報に&:4m!されているZnS :
Cu 、 Pb 、 BaO−xAl、03 :Eu
(Tvだり、 0.8 i、、 X≦10)、およびM
”0・xStoz :A (ココテM”はMg、 Ca
、 Sr、Zn、CdまたはBaを表わし、;−AはC
e、 Tb、 Bu、Tm、Pb、’[’l 、 Bi
41.HはMlly(表わし、0.5 : X k2
.5である。)、特開昭55−12143号公報に記載
され−(y、;b (Ba1−、−y、Mgx、Cay
)FX:aEu”(ココでXはC1およびBrのうちの
少な(とも一方であり、0<x+y≦0.6かつxy”
roであり、10q、’a≦5×lOで1釦)る。)、
特開昭55−12144号公報に記載さオ+ 17 L
nOX ’、 xA (ココテLnはLa%Y、Gdj
cfよびLuのうちの少な(とも−者゛であり、XはC
IおよびBrのうちの少1c (とも一方であり、Aは
CeおよびTbのうちの少なくとも一方であり、0(x
(0,1である、)、特開昭55−12145号公報に
記載されて(、る( Ba、x、M−) FX : y
A (、:−コでM” lj Mg 、 Ca 。
uよびZnS:A、CdS:A、 (Zn 、Cd )
S:A1ZnS:A、X%CdS:A、X(これらに
お(・てAはCu、 Ag、AuまたはMn 11 次
わし、Xはハロゲンである。)、オよび米国特許第3,
859,527号明細誓に記載されて(・る、SrS:
Ce、Sm % SrS:Eu、am、 La2O2
S:Eu、Stn M よび(Zn、Cd)S:Mn
、X (ここにXはハ0ゲ/である。)、特開昭55−
12142号公報に&:4m!されているZnS :
Cu 、 Pb 、 BaO−xAl、03 :Eu
(Tvだり、 0.8 i、、 X≦10)、およびM
”0・xStoz :A (ココテM”はMg、 Ca
、 Sr、Zn、CdまたはBaを表わし、;−AはC
e、 Tb、 Bu、Tm、Pb、’[’l 、 Bi
41.HはMlly(表わし、0.5 : X k2
.5である。)、特開昭55−12143号公報に記載
され−(y、;b (Ba1−、−y、Mgx、Cay
)FX:aEu”(ココでXはC1およびBrのうちの
少な(とも一方であり、0<x+y≦0.6かつxy”
roであり、10q、’a≦5×lOで1釦)る。)、
特開昭55−12144号公報に記載さオ+ 17 L
nOX ’、 xA (ココテLnはLa%Y、Gdj
cfよびLuのうちの少な(とも−者゛であり、XはC
IおよびBrのうちの少1c (とも一方であり、Aは
CeおよびTbのうちの少なくとも一方であり、0(x
(0,1である、)、特開昭55−12145号公報に
記載されて(、る( Ba、x、M−) FX : y
A (、:−コでM” lj Mg 、 Ca 。
Sr、ZnおよびCdのうちの少なくとも一者であり、
XはCI、Br s=よびIのうちの少1x くとも−
考でJ、’) 、AはEu%Tb、 Ce、 Tm、
Dy、 Pr、11o。
XはCI、Br s=よびIのうちの少1x くとも−
考でJ、’) 、AはEu%Tb、 Ce、 Tm、
Dy、 Pr、11o。
Nd、Ybx、;よびErのうちの少な(とも−考であ
り、01、x≦0.6.0≦7 (−o、 2である。
り、01、x≦0.6.0≦7 (−o、 2である。
)、特開昭55−84389号公報に記載されて(・る
HaF X : xCe 、 yA(こζでXはC1,
Brおよび夏のうちの少な(とも−考であり、AはIn
%TI%Gd%舖およびZrのうちの少な(とも−考で
あり、Q <’ x≦2 X l O−’、Q<’yi
5x10−”である。)、特開昭55−160078号
(13) 公報に記載さf+てイ6N4IFX−xA:yLn(コ
コテMIはBa、 Ca、 Sr、Mg、Zn#よびC
d 17)うちの少な(とも−考テart、AはBeO
、MgO1CaO1SrO1BaO、ZnO、At20
. 、 Y2O3、l1120.、 sio□
、 TiO2,7、r02、Gem2、b n 02
、Nb2O5、Ta206 Mよび’rh o2、のう
ちの少なくとも一者であり、LnはEu、Tb、Ce、
Tm、 Dy%Pr、 Ho、 Nd、 Yb、 E
r%Sm:NよびGdのうちの少な(とも−者であり、
X&′iCI、Brおよび■のうちの少なくとも一者で
あり、5X10−”≦X≦0.5.0<y≦0.2であ
る。)、”so〜14XtOn (ここでXはGe 、
Si 、 ’I’i 、 GaおよびA1のうちの少
な(とも−考であり、nは化学量論的に定まるai!素
成分の数を表わ丁。)、B 14 Ge、o12、その
他を挙げることかでざる。
HaF X : xCe 、 yA(こζでXはC1,
Brおよび夏のうちの少な(とも−考であり、AはIn
%TI%Gd%舖およびZrのうちの少な(とも−考で
あり、Q <’ x≦2 X l O−’、Q<’yi
5x10−”である。)、特開昭55−160078号
(13) 公報に記載さf+てイ6N4IFX−xA:yLn(コ
コテMIはBa、 Ca、 Sr、Mg、Zn#よびC
d 17)うちの少な(とも−考テart、AはBeO
、MgO1CaO1SrO1BaO、ZnO、At20
. 、 Y2O3、l1120.、 sio□
、 TiO2,7、r02、Gem2、b n 02
、Nb2O5、Ta206 Mよび’rh o2、のう
ちの少なくとも一者であり、LnはEu、Tb、Ce、
Tm、 Dy%Pr、 Ho、 Nd、 Yb、 E
r%Sm:NよびGdのうちの少な(とも−者であり、
X&′iCI、Brおよび■のうちの少なくとも一者で
あり、5X10−”≦X≦0.5.0<y≦0.2であ
る。)、”so〜14XtOn (ここでXはGe 、
Si 、 ’I’i 、 GaおよびA1のうちの少
な(とも−考であり、nは化学量論的に定まるai!素
成分の数を表わ丁。)、B 14 Ge、o12、その
他を挙げることかでざる。
2)有機光導電性物質
° ポリビニルカルバゾール誘導体、ビレ/、テトラ
フェニルビレ/こ l−メチルビレ/、アゾビレ/など
のピレン誘導体、ア/トラセ/、テトラセノなどの間級
縮合芳査族化合物、クリ七ン、バイヤン、2,3−べ/
ゾクリセ7などのクリ七/類、(14) ソエニルインドールなどのイノドール誘導体、ピラゾリ
ンハイドロクロライド、ビラゾリンピクレートなどのピ
ラゾリン誘導体、2,4.7−)ジニトロ−9−フルオ
レノンなどのフルオレノ7騎導体、ボIJ (ミダゾピ
ロロ/誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジア
ゾール鱈導体、トリアジ/誘導体、イミダゾール誘導体
、オキサゾール誘導体、チオフェノ誘導体、トリアジ/
誘導体、)・イドラゾン錦導体、スチリル化合物、アゾ
メチ/系化合物、アシルノ・イドラジ/#s導体、ピラ
ゾリン誘導体、イミダシロン#s4体、イミダゾールチ
オン誘導体、ベンズイミダゾール銹導体、べ/ズオキサ
ゾール誘導体、ぺ/ジチアゾール誘導体、メロシアニン
誘導体、クロロフィル誘導体、ポリアリールアルカ/例
えばトリアリールメタン、ロイコ色累或いはスクエアリ
yran導体染料、2.4.8− トリニトロチオキサ
7トンなど。他の有用なものとしては、フタロシアニン
顔料、ペリレ/II料、インジゴ顔料、キナクリド/#
i料、ア ′ゾ顔料、ビスベンズイミダゾール顔料、
シアニ/(15) 顔料、ピIJ リウム塩顔料、その他がある。
フェニルビレ/こ l−メチルビレ/、アゾビレ/など
のピレン誘導体、ア/トラセ/、テトラセノなどの間級
縮合芳査族化合物、クリ七ン、バイヤン、2,3−べ/
ゾクリセ7などのクリ七/類、(14) ソエニルインドールなどのイノドール誘導体、ピラゾリ
ンハイドロクロライド、ビラゾリンピクレートなどのピ
ラゾリン誘導体、2,4.7−)ジニトロ−9−フルオ
レノンなどのフルオレノ7騎導体、ボIJ (ミダゾピ
ロロ/誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジア
ゾール鱈導体、トリアジ/誘導体、イミダゾール誘導体
、オキサゾール誘導体、チオフェノ誘導体、トリアジ/
誘導体、)・イドラゾン錦導体、スチリル化合物、アゾ
メチ/系化合物、アシルノ・イドラジ/#s導体、ピラ
ゾリン誘導体、イミダシロン#s4体、イミダゾールチ
オン誘導体、ベンズイミダゾール銹導体、べ/ズオキサ
ゾール誘導体、ぺ/ジチアゾール誘導体、メロシアニン
誘導体、クロロフィル誘導体、ポリアリールアルカ/例
えばトリアリールメタン、ロイコ色累或いはスクエアリ
yran導体染料、2.4.8− トリニトロチオキサ
7トンなど。他の有用なものとしては、フタロシアニン
顔料、ペリレ/II料、インジゴ顔料、キナクリド/#
i料、ア ′ゾ顔料、ビスベンズイミダゾール顔料、
シアニ/(15) 顔料、ピIJ リウム塩顔料、その他がある。
前記光導電層12は、光その他の電磁放射−の照射を受
けて電子−正孔対のキャリアを発生すると共にこの電子
又は正孔を輸送する光導電性W質により好ましく形成す
ることがでさるが、キャリア発生能の大きいキャリア発
生物質と、キャリア輸送能即ち電子又は止孔の少な(と
も一方につ(・ての輸送能力の大さく・キャリア輸送物
質とを組み合せることによって光導電層’12Y構成す
ることができ、この場合にお(・ては、キャリア発生物
質馨含有して成るキャリア発生層と、キャリア輸送物質
を含有して成るキャリア輸送鳩とを!R鳩ゼしめγこ構
成とすることかでざる。そしてこのように、光導電層1
2にお(・て必要とされる2つの機能を互に別の物質に
分担せしy)ることにより、キャリア発生物質又はギヤ
リア輸送物質として用(・ることのでさる物質群の範囲
が広がると共に1各機能馨ト分に発揮せしめることが可
能となる。
けて電子−正孔対のキャリアを発生すると共にこの電子
又は正孔を輸送する光導電性W質により好ましく形成す
ることがでさるが、キャリア発生能の大きいキャリア発
生物質と、キャリア輸送能即ち電子又は止孔の少な(と
も一方につ(・ての輸送能力の大さく・キャリア輸送物
質とを組み合せることによって光導電層’12Y構成す
ることができ、この場合にお(・ては、キャリア発生物
質馨含有して成るキャリア発生層と、キャリア輸送物質
を含有して成るキャリア輸送鳩とを!R鳩ゼしめγこ構
成とすることかでざる。そしてこのように、光導電層1
2にお(・て必要とされる2つの機能を互に別の物質に
分担せしy)ることにより、キャリア発生物質又はギヤ
リア輸送物質として用(・ることのでさる物質群の範囲
が広がると共に1各機能馨ト分に発揮せしめることが可
能となる。
前記先導電層12を光導電性物質が結着剤中に分散され
たものとな丁場合の当該結着剤としては、例えばゼラチ
ンの如き蛋白質、デキストランの如きポリサンカライド
またはアラビアゴム、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、ffl
化、ヒニリテンー塩化ビニル共重合体、ポリメチルメタ
クリレート、セルロースアセテートフチレート、ポリビ
ニルアルコール、スf77*Hil、7り’J ル*l
11. 塩化ヒニルー酢酸ビニル共重合体、スチレン−
ブタジェン共重合体、ビニルトルエン−ブタジェン共重
合体、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタ/樹脂、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フラノ樹脂
など、通常この種の用途に供されていめ結着剤ン用(・
ることができる。
たものとな丁場合の当該結着剤としては、例えばゼラチ
ンの如き蛋白質、デキストランの如きポリサンカライド
またはアラビアゴム、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸
ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、ffl
化、ヒニリテンー塩化ビニル共重合体、ポリメチルメタ
クリレート、セルロースアセテートフチレート、ポリビ
ニルアルコール、スf77*Hil、7り’J ル*l
11. 塩化ヒニルー酢酸ビニル共重合体、スチレン−
ブタジェン共重合体、ビニルトルエン−ブタジェン共重
合体、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタ/樹脂、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フラノ樹脂
など、通常この種の用途に供されていめ結着剤ン用(・
ることができる。
本発明方法にお(・て、記録廟亀磁放射線として蚤工、
潜像形成層14の光導電層12における感度波長域の波
長の電磁放射線であれば何れのものをも用いることがで
さ、X線、α線、β線、γ線、烏エネルギー中性子−1
真空紫外線、紫外線、可視元締、赤外線等の電磁波或い
は粒子線から選ばれる。また続出し月光としては、波長
400nm以上の(17) 元であって前記光導電層12の感度波長域の波長の光で
あ1ば何れのものンも用いることかできるか、主とし、
て熱線、可視光線又は赤外線か用い【、わ、特にV−ザ
元を用(・4)のが好ましい。V−サ九は元ビームの収
束性が旨くて走査光点のスホット面積を小さくすること
が容易であり、記録媒体σ)MP位面積当りの情報m−
が著しく多いので、高M像力で高鮮鋭性の続出(t゛達
成ること〃・でさ、し、かもレーザ光は鍋エネルギービ
ームである1、/)で、筒密度の励起エネルギーが記録
媒体に付与され、そめ結果検出さf+る電気信号量が増
加してS/N比が向上し、高速の読出しが可能となるか
らで多)4)。
潜像形成層14の光導電層12における感度波長域の波
長の電磁放射線であれば何れのものをも用いることがで
さ、X線、α線、β線、γ線、烏エネルギー中性子−1
真空紫外線、紫外線、可視元締、赤外線等の電磁波或い
は粒子線から選ばれる。また続出し月光としては、波長
400nm以上の(17) 元であって前記光導電層12の感度波長域の波長の光で
あ1ば何れのものンも用いることかできるか、主とし、
て熱線、可視光線又は赤外線か用い【、わ、特にV−ザ
元を用(・4)のが好ましい。V−サ九は元ビームの収
束性が旨くて走査光点のスホット面積を小さくすること
が容易であり、記録媒体σ)MP位面積当りの情報m−
が著しく多いので、高M像力で高鮮鋭性の続出(t゛達
成ること〃・でさ、し、かもレーザ光は鍋エネルギービ
ームである1、/)で、筒密度の励起エネルギーが記録
媒体に付与され、そめ結果検出さf+る電気信号量が増
加してS/N比が向上し、高速の読出しが可能となるか
らで多)4)。
ここにV−ザ光としては、He −Neレーサ、ArL
z−ザ、色素V−ザ、半導体V−ザ、YAGレーザ、C
O□レーザ等任意のレーザ光を用(・ることが可能であ
る。
z−ザ、色素V−ザ、半導体V−ザ、YAGレーザ、C
O□レーザ等任意のレーザ光を用(・ることが可能であ
る。
本発明にお(・ては、例えば上部誘電体層13及び上部
電極Ji*15か透明と公れた記録媒体を用(・て、次
のような方法により、画像情報の記録及び続出し1行な
うことができる。
電極Ji*15か透明と公れた記録媒体を用(・て、次
のような方法により、画像情報の記録及び続出し1行な
うことができる。
(1B)
方法I
+I+第4図(4)に示、丁ように、下S電極層10と
上部電極層15との間に直流電源E1により直流電圧ケ
印加した状態に8(・て、上部電極層15側から白色九
トン全向に均一に照射する(予備工程)。こgVこより
、光導電層12内でキャリアが発生し、そσ〕画面七の
下部酩亀体層11と上部誘電体層13とσ)界面に均一
な電荷の分布が現わ才(る。
上部電極層15との間に直流電源E1により直流電圧ケ
印加した状態に8(・て、上部電極層15側から白色九
トン全向に均一に照射する(予備工程)。こgVこより
、光導電層12内でキャリアが発生し、そσ〕画面七の
下部酩亀体層11と上部誘電体層13とσ)界面に均一
な電荷の分布が現わ才(る。
(役人に第4図(樽に示すように、両電極層10.15
間を蝮絡した状態で、画像情報に従うml録用電磁放射
線fHv−h都電極層15mから照射する(記録り程)
。こTtにより、記録用1畿放射耐RI力5照射さ才【
た領域の電荷か消失し、画像情報/+ターンyr対し″
r陰画の状態の電荷の分布による潜像か形I戊さむる。
間を蝮絡した状態で、画像情報に従うml録用電磁放射
線fHv−h都電極層15mから照射する(記録り程)
。こTtにより、記録用1畿放射耐RI力5照射さ才【
た領域の電荷か消失し、画像情報/+ターンyr対し″
r陰画の状態の電荷の分布による潜像か形I戊さむる。
(4)第4図(C1に示すように、両電極層10.15
間に検出用抵抗DRY接続した状態で、読出し月光L&
Cより上部電極層1511より走査せしめる(絖出し工
程)。これにより、前記潜僚の電荷に従って電圧1r1
号が出力熾1゛に得られる。
間に検出用抵抗DRY接続した状態で、読出し月光L&
Cより上部電極層1511より走査せしめる(絖出し工
程)。これにより、前記潜僚の電荷に従って電圧1r1
号が出力熾1゛に得られる。
(19)
この方法【昌・ては、工程■における直流電源Elの極
性は逆であってもよい。なお、記録用電磁放射−RIが
X#吟の透過性線で多)るときは、ト部電極層10 I
+からその照射を行なってもよ(・場合がある(以下に
お(・て同じ)。
性は逆であってもよい。なお、記録用電磁放射−RIが
X#吟の透過性線で多)るときは、ト部電極層10 I
+からその照射を行なってもよ(・場合がある(以下に
お(・て同じ)。
方法■
■第5図(4)に示すよ5に、方法■の工程(1)と同
様の操作を行なう(予備工程)。直流電源Etは逆極性
であってもよ(・。
様の操作を行なう(予備工程)。直流電源Etは逆極性
であってもよ(・。
(2)第5図(B) K示すように、両電執層10.1
5間eこ、工程(1)の直流電源Elとは逆極性の直流
電源E2により、直流バイアス電圧を印加し1こ状態で
上部側より記録用電磁放射41RIの照射を行なう(記
録工程)。
5間eこ、工程(1)の直流電源Elとは逆極性の直流
電源E2により、直流バイアス電圧を印加し1こ状態で
上部側より記録用電磁放射41RIの照射を行なう(記
録工程)。
■第5図(C)K示jよ”lc、両tliN11to、
tS間に検出用抵抗DRと直流バイアス電源E3とを・
接続した状態と−(るほかは、方法■の工程■と同様の
操作)行なう(続出し工8)。直流バイアス電源E31 の極性は直流電源E2と逆極性で、G)つてもよ(・。
tS間に検出用抵抗DRと直流バイアス電源E3とを・
接続した状態と−(るほかは、方法■の工程■と同様の
操作)行なう(続出し工8)。直流バイアス電源E31 の極性は直流電源E2と逆極性で、G)つてもよ(・。
方法1u
11開昭58−199351 (6)
(1)第6回国及び(四に示すように、方法■Iの工程
■及び工程■と同様の操作を行なう(1予備工程及び記
録工程)。
■及び工程■と同様の操作を行なう(1予備工程及び記
録工程)。
■第6図(C)に示すように、両電極層10.15%=
短絡丁4.(強調工程)。これにより、潜像か強i&l
1mされる。
短絡丁4.(強調工程)。これにより、潜像か強i&l
1mされる。
(1+第6図(D)に示すよ5に、方法Iの工程■と同
様の操作ケ行なう(絖出し工程)。
様の操作ケ行なう(絖出し工程)。
h法IV
■第7図(4)rC示すよ5に、両電極層10.15間
に直流電源E1により直流電圧を印加した。状態にお(
・て、記録用電磁放射線RIの照射を行なう(記録上程
)。直流電源E1は逆極性であってもよ−・。
に直流電源E1により直流電圧を印加した。状態にお(
・て、記録用電磁放射線RIの照射を行なう(記録上程
)。直流電源E1は逆極性であってもよ−・。
(p第7図(B) K示すよ5に、両電極層10.15
間を軸結する(0強調工程)。
間を軸結する(0強調工程)。
Qノ第7図telに示すように、方法■の工程■と同様
の操作を行なう(読出し工程)。
の操作を行なう(読出し工程)。
方法V
■第8回国に示すように、h法■の工程■と同様の操作
を行なう(記録工程)。直流電源E1は(21) 逆極性であ′)てもよ(・。
を行なう(記録工程)。直流電源E1は(21) 逆極性であ′)てもよ(・。
■第8図(B)に示1ように、IN配置流電確Etとは
逆極性の直流バイアス電源E2と検出用抵抗DFL4両
電極層10.15間に接続し1こ状態と1く・ほかは、
方法lの工程■と同様の操作ケ行なう(続出し工程)。
逆極性の直流バイアス電源E2と検出用抵抗DFL4両
電極層10.15間に接続し1こ状態と1く・ほかは、
方法lの工程■と同様の操作ケ行なう(続出し工程)。
以上のように、本発明によれは、記録用電磁放射線の照
射によってそのlIi像情報V紀録課体の潜像形成績に
静電荷潜像の形で配録することかでさると共にこの記録
された画像情報ゲ電気偏号として続出丁ごとかでさる上
、記録媒体の111歇杉敗層か光導電層の両面上にそれ
ぞれ酩電体層か設けられた構成であるので、光導電層の
両面にお(・て潜像ン形成するキャリアの分布が傅られ
るため記録の強度が大さくて続出しKおける信号か大さ
くなるのみならず、記録さjた状態を安定に保つことか
できて保存性が大きく、また潜像形bkP#1の少な(
とも−面上の酵電体層及び電極層ン波長400nm以−
ヒの元に対して透光性のものとすることKより、続出し
月光として極めて好ましく・レーザffl’利用→(2
2) 4)ことかでざる。更に上述の方法例の説明からも理解
されるように1本発明によれは種々の態様で1儂情報を
記録し続出丁ことかでざるので、例えば記録さ1するl
!Ii像情報に対して続出し信号か陰画−陽−の関係と
なるようにすること、記録または続出しを信号か強!1
11された状態で行なうこと等、所望の成る橿の処理を
加えて記録続出しを行なうことがでさ、この結果特定の
条件が必要とされる場合&nお(・てもこrLを満足さ
せることか容易であり、或いは記録媒体に8(・て要求
さ第1る条件が緩和される。
射によってそのlIi像情報V紀録課体の潜像形成績に
静電荷潜像の形で配録することかでさると共にこの記録
された画像情報ゲ電気偏号として続出丁ごとかでさる上
、記録媒体の111歇杉敗層か光導電層の両面上にそれ
ぞれ酩電体層か設けられた構成であるので、光導電層の
両面にお(・て潜像ン形成するキャリアの分布が傅られ
るため記録の強度が大さくて続出しKおける信号か大さ
くなるのみならず、記録さjた状態を安定に保つことか
できて保存性が大きく、また潜像形bkP#1の少な(
とも−面上の酵電体層及び電極層ン波長400nm以−
ヒの元に対して透光性のものとすることKより、続出し
月光として極めて好ましく・レーザffl’利用→(2
2) 4)ことかでざる。更に上述の方法例の説明からも理解
されるように1本発明によれは種々の態様で1儂情報を
記録し続出丁ことかでざるので、例えば記録さ1するl
!Ii像情報に対して続出し信号か陰画−陽−の関係と
なるようにすること、記録または続出しを信号か強!1
11された状態で行なうこと等、所望の成る橿の処理を
加えて記録続出しを行なうことがでさ、この結果特定の
条件が必要とされる場合&nお(・てもこrLを満足さ
せることか容易であり、或いは記録媒体に8(・て要求
さ第1る条件が緩和される。
以トのように、本発明記録媒体を用いることにより、撞
々の方法によって情報の記録及びその続出しが可能であ
るが、各方法には特長があり、例えば第4図に示し1こ
方法IKお(・ては非画像部の電荷が消去され、従って
続出しは電荷の有無を検出jることによって行なわnる
。これに対し、第5図にボした方法■にお(・ては、非
画像部に画像部とは逆の極性の電荷を与えるため、II
jI葎部と非画像部との電位の差が大さくなり、その結
果ダイ(23) ナミツクレンジか大きくなって電磁放射−に対する感度
か向上する。同様に、第6図に示しL一方法■■にお(
・ても、方法Iに比して大きな感度力・得られる。また
第7図に示しt二方法■にょ4ばポジ画像ケ胱出丁こと
かできる。既述の記録続出(、方法の何4を利用するか
は、それぞれ用途、経済性、その他j・考慮して適宜選
定子わばよ(・。
々の方法によって情報の記録及びその続出しが可能であ
るが、各方法には特長があり、例えば第4図に示し1こ
方法IKお(・ては非画像部の電荷が消去され、従って
続出しは電荷の有無を検出jることによって行なわnる
。これに対し、第5図にボした方法■にお(・ては、非
画像部に画像部とは逆の極性の電荷を与えるため、II
jI葎部と非画像部との電位の差が大さくなり、その結
果ダイ(23) ナミツクレンジか大きくなって電磁放射−に対する感度
か向上する。同様に、第6図に示しL一方法■■にお(
・ても、方法Iに比して大きな感度力・得られる。また
第7図に示しt二方法■にょ4ばポジ画像ケ胱出丁こと
かできる。既述の記録続出(、方法の何4を利用するか
は、それぞれ用途、経済性、その他j・考慮して適宜選
定子わばよ(・。
以下に本発明の実施例にっ(・て説明する。
実施例1
第9図に示すように、下部誘電体層117構敗する71
g75μmのポリエチレンテレフタレートシートの下面
にアルミニウムY厚atoooAVc^空蒸着して下部
電極層10を形成し、下部誘電体層11σ)上部にはセ
レンを100μmの厚さに真空蒸着して光導電層12i
形成し、この光導電層12上に厚さ75μmのポリエチ
Vノテレフタレートシ一トヲ7ミ才一トシ、て上部誘電
体層13ケ形成し、更にそσ)−ヒ+に&こアルミニウ
ムン厚さ2ooXK真空蒸着真空上隔′T41+M層1
5を形成し、以っ−C本発明画像情報s己録媒体を製作
し1こ。
g75μmのポリエチレンテレフタレートシートの下面
にアルミニウムY厚atoooAVc^空蒸着して下部
電極層10を形成し、下部誘電体層11σ)上部にはセ
レンを100μmの厚さに真空蒸着して光導電層12i
形成し、この光導電層12上に厚さ75μmのポリエチ
Vノテレフタレートシ一トヲ7ミ才一トシ、て上部誘電
体層13ケ形成し、更にそσ)−ヒ+に&こアルミニウ
ムン厚さ2ooXK真空蒸着真空上隔′T41+M層1
5を形成し、以っ−C本発明画像情報s己録媒体を製作
し1こ。
このA己録媒体を用いて、既述の方法■に準じた実験を
行なった。即ち、下部電極層10?接地電位t(保つと
共に直流電源Elにより上部電極層15に−lKVの直
流電圧を印加した状態で、上部電極層15よりINII
離間して設けた消費電力500Wのキセノ/ショートア
ークランプよりの光を記録用電磁放射−として当該上部
電極層150面積1dの円形領域に5秒間照射し、その
後電圧の印加Y中止して両電極層10,151に:短絡
させた後、上部電極層1511+−L:’ コア/メー
タヲ接続して前記キセノ/ショートアークランプの光ン
再び上部電極層15に照射したところ、萌配円形領域に
つい−(はそれ以外の領域におけるよりも約100倍大
きい電流信号がピ”−1f7メーターにより検出された
。
行なった。即ち、下部電極層10?接地電位t(保つと
共に直流電源Elにより上部電極層15に−lKVの直
流電圧を印加した状態で、上部電極層15よりINII
離間して設けた消費電力500Wのキセノ/ショートア
ークランプよりの光を記録用電磁放射−として当該上部
電極層150面積1dの円形領域に5秒間照射し、その
後電圧の印加Y中止して両電極層10,151に:短絡
させた後、上部電極層1511+−L:’ コア/メー
タヲ接続して前記キセノ/ショートアークランプの光ン
再び上部電極層15に照射したところ、萌配円形領域に
つい−(はそれ以外の領域におけるよりも約100倍大
きい電流信号がピ”−1f7メーターにより検出された
。
実施例2
L用4 Ge 02(+の微結晶80重量部をポリカー
ボ不−1−樹脂20嶽JIlls中に分散→トしめた分
散体の塗布液を・/ 1”fバー により下部誘電体層
11七に塗布して1 #さ300μmの光導電層12を形成しメニはかは*施
例1と同様に駿て本発明画像情報記録媒体を製作(25
) し、こt’+を用(・て実施例1におけると同様の実験
を行なつL−ところ、約90倍の電流信号が得らJ+f
、:、0実施例3 B I 1481020 の微結晶80重量部ンボリカ
ーボ不一・ト樹脂20重量部中に分散せしめr1分散体
の塗布液ンワイアパーにより下部誘電体層11.、):
Ke和して厚さ300μmの光導電層12を形成したけ
がは実施例1と同様にし、て本発明画像情報記録媒体を
製作し1、これt用(・て実施例IKおけると同様の実
験χ行なったところ、約90倍の電流信号が得G)il
た。
ボ不−1−樹脂20嶽JIlls中に分散→トしめた分
散体の塗布液を・/ 1”fバー により下部誘電体層
11七に塗布して1 #さ300μmの光導電層12を形成しメニはかは*施
例1と同様に駿て本発明画像情報記録媒体を製作(25
) し、こt’+を用(・て実施例1におけると同様の実験
を行なつL−ところ、約90倍の電流信号が得らJ+f
、:、0実施例3 B I 1481020 の微結晶80重量部ンボリカ
ーボ不一・ト樹脂20重量部中に分散せしめr1分散体
の塗布液ンワイアパーにより下部誘電体層11.、):
Ke和して厚さ300μmの光導電層12を形成したけ
がは実施例1と同様にし、て本発明画像情報記録媒体を
製作し1、これt用(・て実施例IKおけると同様の実
験χ行なったところ、約90倍の電流信号が得G)il
た。
実施例4
実施例1におけると同様にして裏作し11画画像報記録
媒体を用(・、既述の方法nK準じ、直流電源Ell)
!圧を−tKV、直流電源E2の電圧を41KV、直流
バイアス電源E3の電圧y+tKVとした条件下で、予
flii工程、記録1桿及び続出しl:稈を灯t(りた
ところ、続出し工程において約150倍の電流信号が得
i)ゎム一。
媒体を用(・、既述の方法nK準じ、直流電源Ell)
!圧を−tKV、直流電源E2の電圧を41KV、直流
バイアス電源E3の電圧y+tKVとした条件下で、予
flii工程、記録1桿及び続出しl:稈を灯t(りた
ところ、続出し工程において約150倍の電流信号が得
i)ゎム一。
以上のように本発明によれば、記録用1!磁放射−によ
つ°(確実に画像情報を記録することがでさく26) ると共にその記録された画像情@1馨十分に保存するこ
とができ、また続出しKj、)(・ては直接電気信躬v
Cよる画像情細として烏(・精度で続出子ことかでさて
良好な再生m!v得ることか可能であり、しかも使用e
(ネタける自由度が大ざくて袖々の特長のある1i11
Isで使用することかでさる画像情報記録媒体及びこ7
14用いる画像情報記録読出し方法ケ提供することがで
きる。
つ°(確実に画像情報を記録することがでさく26) ると共にその記録された画像情@1馨十分に保存するこ
とができ、また続出しKj、)(・ては直接電気信躬v
Cよる画像情細として烏(・精度で続出子ことかでさて
良好な再生m!v得ることか可能であり、しかも使用e
(ネタける自由度が大ざくて袖々の特長のある1i11
Isで使用することかでさる画像情報記録媒体及びこ7
14用いる画像情報記録読出し方法ケ提供することがで
きる。
第1図は本発明画像情報記録媒体し方法の概略ケ小″′
f説明図、′42図及び第3図は本発明画像情報記録媒
体の構成例につ(・て示す説明用断面図、444V〜第
8図はそれぞれ本発明による方法の態様ケ[梶1@に示
”[説明図、第9図は本発明の一実施例を・′)いての
説明用断面図である。 l・・記録用電磁放射線発生装置 2・・・破写体 3・・・画像情報記録媒体
4・・・all用光発生装wt 5・・・信号処理装置
6・・画1歇表示装置 lO・・下部電極層11
・)都訪電体層 12・・・元4’m層(27) 13・・」一部誘電体層 14・・潜像形成j―15
・上部′f!L極層 16・・・絶縁性基板特開昭
58−199351(3) 第1図 (B: 舛2図 第3図 第4図 j l 第5図 F 111 第6図 111 第7図 RI(A) 第8図 1 第9図 5
f説明図、′42図及び第3図は本発明画像情報記録媒
体の構成例につ(・て示す説明用断面図、444V〜第
8図はそれぞれ本発明による方法の態様ケ[梶1@に示
”[説明図、第9図は本発明の一実施例を・′)いての
説明用断面図である。 l・・記録用電磁放射線発生装置 2・・・破写体 3・・・画像情報記録媒体
4・・・all用光発生装wt 5・・・信号処理装置
6・・画1歇表示装置 lO・・下部電極層11
・)都訪電体層 12・・・元4’m層(27) 13・・」一部誘電体層 14・・潜像形成j―15
・上部′f!L極層 16・・・絶縁性基板特開昭
58−199351(3) 第1図 (B: 舛2図 第3図 第4図 j l 第5図 F 111 第6図 111 第7図 RI(A) 第8図 1 第9図 5
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)光導電層の両面に誘電体層を積層しrtli、る潜
像形成層と、この潜像形成層の両面に積層される電極層
とより成り、前記光導電層の少なくと(、−面上におけ
る誘電体層及び電極層が例れも波長400nmlJ上の
光に対して透光性であることY%徴とする画像情報配録
媒体。 2)前記誘電体層がlOΩ・1以−Fの比抵抗を′iす
る特許請求のaFBA第1項記載の画像情報記録媒体。 3)f3tJi光導電層がセV7より成る特許請求の範
囲第1項記載の画像情報記録媒体。 4)前記光導電層が、電磁放射−シノ照射化受けてキャ
リアケ発生−fるキャリア発生物質と、キャリア輸送層
るキャリア輸送物質とにより構成されている)特許請求
の範囲第1項記載のlIi像情報記録媒体。 (2) 5)前記光導電層が、電磁放射線の照射を受け′(キャ
リアケ発生するキャリア発生層とキャリア輸送−ツるキ
ャリア輸送層とン積層して構成さ才1((・る特許請求
の範囲第1項記載の画像情報記録媒体。 6)光導電層の両面に鱒電体層ン積層して成る潜像形成
層ケ具えて成るIllIigI情報記鎌媒体を用記録、
その光導電層fC画像情報に従う記録用電磁放射線電照
射することにより前記#像形成層に当該画像情報に対応
するパターンの潜像を形成する画像情報記録工程と、前
記潜像形成層に波長400n<n以Eの続出し、出光を
照射して走査せしめることにより、前記潜像形成層の両
面に設けた電極を介して、wlJ記バター/の潜像に対
応した電気信号ケ得る続出し、L機とを含むことヶ特徴
とする画像情報記録読出し方法。 7)前記続出し朋党がレーザ光である特許請求の範囲第
6 /#記賊のIIIIi僚情報記録続出し方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57081590A JPS58199351A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 画像情報記録媒体及び記録読出し方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57081590A JPS58199351A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 画像情報記録媒体及び記録読出し方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58199351A true JPS58199351A (ja) | 1983-11-19 |
Family
ID=13750526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57081590A Pending JPS58199351A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 画像情報記録媒体及び記録読出し方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58199351A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4663526A (en) * | 1984-12-26 | 1987-05-05 | Emil Kamieniecki | Nondestructive readout of a latent electrostatic image formed on an insulating material |
| JP2000105297A (ja) * | 1997-08-19 | 2000-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 静電記録体、静電潜像記録装置および静電潜像読取装置 |
| KR102609950B1 (ko) * | 2023-07-28 | 2023-12-04 | 라보라토리 오브 인스트루멘테이션 앤드 익스페리멘탈 파티클 피직스 | 전자기복사 검출장치 |
-
1982
- 1982-05-17 JP JP57081590A patent/JPS58199351A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4663526A (en) * | 1984-12-26 | 1987-05-05 | Emil Kamieniecki | Nondestructive readout of a latent electrostatic image formed on an insulating material |
| JP2000105297A (ja) * | 1997-08-19 | 2000-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 静電記録体、静電潜像記録装置および静電潜像読取装置 |
| KR102609950B1 (ko) * | 2023-07-28 | 2023-12-04 | 라보라토리 오브 인스트루멘테이션 앤드 익스페리멘탈 파티클 피직스 | 전자기복사 검출장치 |
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