JPS58201785A - 光学活性なラクトン体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は式（Ｉ） 〔式中、＊は不斉炭素を示す。Ｂｚｌはベンジル基を示
す。４Ｒ位、６Ｒ位はシス配位である。〕で表わされる
光学活性なシス−１，８−ジベンジルへキサヒドロ−１
■−フロ［８，４−ｄ］イミダゾール−２，４−ジオン
（以下、ラクト　−ン体と略称する。）の製造方法に関
するものであり、さらに詳しイは、（４８，５Ｒ）−１
。

８−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソ
イミダゾリジン−４−カルボン酸〔以下（４８，５Ｒ）
−ハーフェステル体と略称スる。〕と（４Ｒ，５８）−
１，８−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オ
キソイミダゾリジン−４−カルボン酸〔以下（４１，５
８）−ハーフェステル体と略称する。コとが混在する過
飽和溶液に光学活性な（４８，５Ｒ）−ハーフェステル
体または（４１，５８）−ハーフェステル体の結晶を存
在せしめ、それと同種の光学活性なハーフェステル体を
上記過飽和液より優先的に晶出させ、（４８，５Ｒ）−
ハーフェステル体マたは（４Ｒ，５８）−ハーフェステ
ル体を得、次いで得られたハーフェステル体のカルボキ
シル基またはメトキシカルボニル基を還元、閉環するこ
とにより、 〔式中、＊およびＢｚｌは前述と同一。４■位、６８位
はシス配位である。〕 で示される光学活性なシス−１，８−ジベンジルへキサ
ヒドロ−１■−フロ［”８．４−ｄ〕イミダソール−２
，４−ジオンの製造方法に関する。

本発明によって得ることができる光学活性なラクトン体
（Ｉ）はビオチンおよびその他医薬品製造上の中間体と
して極めて重要なものである。

従来、光学活性なラクトン体（Ｉ）の製造方法としては
特公昭４９−８２５５．号公報ＣＡ法）および、特公昭
５８−８５０７６号公報（Ｂ法）に記載の方法が知られ
ている。

Ａ法においては゛帛−シスー１．８−ジベンジルー５−
　（８’−コレステリルオキシカルボニル）−２−オキ
ソイミダゾリジン−４−カルボン酸をトリエチルアミン
との塩として光学分割するという方法により、光学活性
なコレステリル半エステルを得て、これを水素化ホウ素
リチウムにて還元し、ラクトン体（１）を得る方法もし
くは（至）−シス−１，８−ジベンジル−５−シクロへ
キシルオキシカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−
４−カルボン酸をエフェドリンとの塩として光学分割し
、光学活性なシクロヘキシル半エステルを得て、これを
水素化ホウ素リチウムにて還元し、ラクトン体（Ｉ）を
得る方法であるが、エフェドリン、コレステロールの如
り高価な光学活性化合物を使用しなければならず、かつ
ラクトン体（Ｉ）の収率は低収率である。

Ｂ法においてはシス−１，８−ジベンジル−２−オキソ
イミダゾリジン−４，５−ジカルボン酸と光学活性な有
機第１級アミンより脱水しテ得うしたシス−１，３−ジ
ベンジルへキサヒドロピロロ［８，４−ｄｌイミダゾー
ル−２゜４、．６．、−、、）ジオン誘導体を水素化ホ
ウ素ナトリウム等１にて不斉還元し、次いで加水分解す
る事（５） により、ラクトンを得る方法であるが、不斉収率が十分
とはいえず、又、高価な光学活性アミンを使用しなけれ
ばならないという欠点があり、両者とも経済的製造法と
は言難い。

本発明者らは上述した従来の欠点を克服すべく鋭意研究
を進めた結果、経済的でかつ工業的に容易な操作で光学
活性なラクトン体（Ｉ）を高収率で合成することができ
る本発明方法を見い出した。

ラセミ体を光学分割し、光学活性体を取得する方法に於
て、当該ラセミ体の過飽和溶液に一方の光学活性体を接
種して、接種したと同種の光学活性体を分離取得すると
いういわゆる優先晶出法の原理は周知である。しかしこ
の方法が有利に適用できるのは、一般に当該う老ミ体が
ラセミ混合物を形成する場合に限られ、ラセミ化合物の
場合には適用できないと言われている。

しかしいかなる化合物がラセミ混合物を形成するか、或
いは優先晶出法が適用できるかは不明であり、しかもそ
の規則性もない。即ち、この（６） 光学分割法を適用しうるラセミ混合物を形成しうる場合
はむしろ特殊な場合である。従ってこの様な条件を満足
する化合物を見出すには非常な努力を払わねばならない
。

今まで（４８，５Ｔｔ）−ハーフェステル体とＣ４ｎ、
５８　）−ハーフェステル体との混合物を光学分割し、
光学活性なハーフェステル体を取得するという方法は全
く知られていなかった。

本発明者等は光学活性な（４８，５Ｒ）または（４，ａ
、５８　）−ハーフェステル体の製造方法に関し種々の
方法にて検討した結果、該ハーフェステル体がラセミ混
合物を形成し、優先晶析法による光学分割が可能である
事を見出すに至った。

本発明方法であるハーフェステル体の光学分割では、得
られる光学活性なハーフェステル体は４８．５ｎ配位を
もつものおよび４Ｒ，５８配位をもつものをいずれも得
る事ができる。

続いて任意の配位（４８，５ｎ配位、または４Ｒ９５８
配位）をもつ光学活性なハーフェステル体のカルボキシ
ル基またはメトキシカルボニル基の一方を選択的に還元
し、閉環することにより任意の配位（４ａ８，６ａＲ配
位、または４ａＲ。

６ａＳ配位）をもつ光学活性なラクトン体（１）を得る
ことができる。

即ち、光学活性なハーフェステル体から光学活性なラク
トン体（Ｉ）の製造においては光学活性なハーフェステ
ル体のメトキシカルボニル基を還元し、閉環させた場合
と、カルボキシル基を還元し、閉環した場合とでは得ら
れる光学活性なラクトン体の配位は互に逆のものとなる
のである。

従って、本発明方法により得られる（４８゜５Ｂ）及び
（４Ｒ，５８）−ハ−フェステル体配位をもつ光学活性
なラクトン体（Ｉ）に導びくことができる。

上述の本発明方法と天然型ビオチン製造との関連を下記
に示す。

↓ （９） （天然型ビオチン） 〔上式中、Ｂｚｌは前述のとおりである。〕本本発明法
では光学分割操作で得られる２種類の光学異性体のいず
れをも、次の還元方法を選ぶことにより同一の配位をも
つ光学活性なラクトン体（Ｉ）に変換できるものであり
、この事は一般に光学分割操作を経る製造法では光学分
割操作で得られる２種類の光学異性体の一方だけを利用
し、他方は廃棄するかあるいはラセミ化し再度光学分割
操作に付す事と比べると、本発明方法の大きな特徴であ
り、工業的価値の高い点である。

以下に本発明方法を具体的に説明子る。

本発明方法ば（４８，５Ｂ）−ハーフェステル体と（４
Ｒ，５８）ハーフェステル体の混合物を光学分割する工
程と、光学活性な八−フエ（１０） ステル体を還元し、閉環することにより光学活性なラク
トン体（Ｉ）＃得る工程から成っている。

（４８，５Ｒ）−ハーフェステル体と（４Ｒ。

５８）−ハーフェステル体の混合物を光学分割する工程
では、該混合物の過飽和溶液を調製し、この溶液に光学
活性な（４８，５Ｒ）または（４Ｒ，５８）−ハーフェ
ステル体の結晶を接種する廖により、該光学活性体と同
種の光学活性なハーフェステル体を優先的に晶出させ、
これを採取すれば良い。

（４８，５Ｋ）−ハーフェステル体と（４Ｒ１５８）−
ハーフェステル体の混合物の過飽和溶液の調製方法とし
ては、ラセミ−ハーフェステル体を適当な溶媒に加熱溶
解したのち、冷却する方法、溶液を濃縮する方法、或い
はこのハーフェステル体の溶解度を減少させるような溶
媒を添加する方法など一般の過飽和溶液の調整に常用さ
れる方法を用いる事ができる。

溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピル
アルコール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン系溶媒及びこれらと水との混合溶
媒、あるいはベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系
溶媒を用いる事ができるが、光学分割を効率的に行なう
上ではベンゼン、トルエンが好ましい。

本発明に於けるハーフェステル体の過飽和溶液の溶質が
光学的に純粋なうセミ体である時には、分割に際し外部
より種晶を接種する必要があるが、溶質が光学的に不純
な時、即ち、一方の光学活性体がより多く存在する場合
にあっては、その活性体が自然超高し、これが種晶を接
種したと同様の作用するので、必ずしも外部よりの接種
を必要としない。本発明方法では、この様に自然超高し
外部からの接種と同様に作用する場合であっても接種し
たと称することとする。

接種量は特に制限はなく、多ければ多い程分割が容易に
なり、かつ促進されるが、通常分割溶液中のハーフェス
テル体の１〜１０重量％重量％液種量を用いれば十分で
ある。

目的とする光学活性体が他方に比べ過剰に存在する場合
において、自然超高を待たずに接種する場合には、その
接種量は更に少量で良い。

接種する光学活性体はその使用目的からして高純度であ
ることが望ましい。

本発明方法においては過飽和溶液より一方の光学活性体
のみを晶出させるいわゆる片側分割のみならず、平行又
は直列に連結した２個の分割基、或いは区画を有する分
割槽のそれぞれに相反する光学活性なハーフェステル体
の一方を接種し、これにハーフェステル体の過飽和溶液
を接触させることにより２種の光学活性なハーフェステ
ル体を同時に取得することもできる。

又、本発明方法を実施するに当り、ハーフェステル体の
過飽和溶液に、ジメチルアニリン、ジメチルベンジルア
ミン、トリエチルアミン等の有機塩基あるいは水酸化ナ
トリウム、水酸化′カリウム等の無機塩基を松＃キ瓢ハ
ーフェステル体−に対し０．０５〜０．６モル倍添加し
、過飽和溶液の安定性を増すこともできるが、特に必（
１８） 須の条件ではない。

次に光学活性なハーフェステル体のカルボキシル基また
はメトキシカルボニル基のいずれか一方を選択的に還元
し、次いで閉環することにより光学活性なラクトン体（
Ｉ）を得る工程について説明する。

光学活性なハーフェステル体のカルボキシル基を選択的
に還元する方法としては、一般にカルボキシル基を選択
的に還元する事ができる還元剤、例えばジボランを用い
て還元するか、あるいはカルボキシル基をＮ−ヒドロキ
シコハク酸イ疋ド、ｐ−ニトロフェノール、イソブチル
クロロホルメイト、エチルクロロホルメイト等により対
応する活性エステル基又は混合酸無水物とした後、水素
化ホウ素リチウム等の還元剤を用い還元反応を実施する
事ができる。

反応溶媒としては反応の進行を防げない溶媒であれば特
に制限がないが、好ましい溶媒としてジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコー
ルジメチルエーテ（１４） ル等のエーテル系溶媒、トルエン、ヘキサン等の炭化水
素系溶媒を用いる事ができる。反応温度は室温でも良い
が、室温より冷却するか溶媒の沸点まで加温しても良い
。

光学活性なハーフェステル体のメトキシカルボニル基を
選択的に還元する方法としては、一般にメトキシカルボ
ニル基を選択的に還元するチルアルミニウム（ＤＩＢＡ
Ｌ−Ｈ）、　水素化ジエチルアルミニウムナトリウム（
ＯＭＨ−Ｉ）等、特に好ましくは水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウムを用いる事により、実施する
事ができる。

反応における溶媒、温度条件はカルボキシル基を還元す
る場合と同様の条件下実施する事ができるが、還元剤が
ホウ素系還元剤である場合にはエタノール、イソプロパ
ツール等のアルコール系溶媒、あるいは、これらとテト
ラヒドロフラン、ジオキサン、水等との混合溶媒を用い
る事もできる。還元剤がアルミニウム系還元剤である場
合には反応温度を室温以下に冷却し、実施する事が好ま
しい。

還元反応終了後、反応液を中性または酸性とした後、ク
ロロホルム、ジクロロエタン、酢酸エチル等の有機溶媒
で抽出するが、この時、閉環し光学活性なラクトン（Ｉ
）を得ることができる。

光学活性なラクトンを収率良く得るには還元反応後反応
液を酸性とする事が好ましい。

以下に実施例を挙げ具体的に説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。

実施例１ ラセミ−シス−１，８−ジベンジル−５−メトキシカル
ボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸（
以下ラセミハーフェステル体と略称する）１０．ＯＩＩ
にベンゼン５００−を加え、加温・溶解した。

この溶液を徐々に冷却し、５２℃となったところで（４
８，５Ｒ）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカルボ
ニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸０．
５０１を接種し、５０〜４７℃にて２時間保温・攪拌し
た。

析出した結晶を濾過し、乾燥した。（４Ｓ、５ｕ）−ｘ
、ａ−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキ
ソイミダゾリジン−４−カルボン酸２．０７　ｆｌが得
られた。

融点　１４８〜１４９℃ 〔ａ”ｓ’：ｓ　　−２７，８°（０＝２．ＤＭＦ）光
学純度　９８％ Ｐｉにラセミハーフェステル体８．１０ｆを加え、加熱
・溶解した。この溶液を徐々に冷却し、５２℃となった
ととろで（４Ｒ、５５）−１，８−ジベンジル−５−メ
トキシカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カ
ルボン酸０．５（ｌＦを接種し５０〜４７℃にて２時間
保温、攪拌しすこ。

析出した結晶を濾過し、乾燥した。

（４Ｒ，５８）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカ
ルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸
８．４０１が得られた。

（１７） 融点　　１４８〜１４９℃ ”　　　　　　２Ｇ ［α］Ｂ６．　　＋　２７．０°（Ｃ＝２．ＤＭＦ）光
学純度　９７％ ■　水素化硼素ナトリウム８２０■、イソプロピルアル
コール８５−の混合液に上ｅ　’（４Ｓ　。

５Ｒ）−１，８−ジベンジル−６−メトキシカルポニル
ー２−オキサイミダゾリジン−４−カルボン酸１．２０
ｊ’、テトラヒドロフラン１５−からなる溶液を室温に
て滴下した。次にこの反応液を６０〜７０℃にて７時間
攪拌した。反応液を冷却し、濃塩酸２．５ｇを加え、減
圧にて反応液を濃縮した。残液に水２５〇−を加え、ク
ロロホルム１００−にて２回抽出した。クロロホルム層
を水にて洗浄し、無水硫酸マグネレウムにて乾燥後、減
圧濃縮し、残渣１．０１を得た。

これを含水イソプロピルアル占−ルより再結晶し、（４
ａＳ＋　６”’　）　−１６８ｉｐへ：／ジルヘキサヒ
ドロー１ｎ−フロ［８，４−ｄ：］］イミダゾールー２
，４−ジオン０９０１を得た。

（１８） 融点　　１１５〜１１８℃ 〔α］”　　　＋６１．０°（Ｃ＝　１　、　ＣＨＯｚ
ｓ＋　）■　上記（４Ｒ，５８）−１，８−ジベンジル
−５−メトキシカルボニル−２−オキソイミダゾリジン
−４−カルボン酸１．８４ｆとテトラヒドロフラン１５
１１１ｔの溶液に一２０℃で水素化硼素ナトリウム２２
６Ｉｌｖを少量ずつ加えた。これに三弗化硼素−エーテ
ル錯体１．０６ｇを滴下し、同温度で１時間、室温にて
８時間攪拌した。この反応液を氷水５〇−中に注入し室
温にて１時間攪拌浸炭酸カリウム水溶液にてｐＨ９とし
たのち、酢酸エチル５０ゴにて２回抽出した。有機層を
飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥
後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルにてカラムクロマ
ト精製し、（４８８，６８Ｒ）−１、８−ジベンジルへ
キサヒドロ−１■−フロ〔８゜４−ｄ〕イミダゾール−
２，４−ジオン０．８０１を得た。

融点　　１１４〜１１８℃ 〔α］、　　＋５９．８°（Ｃ＝　ｌ　、　０ＨＣｚ、
ｓ　）実施例２ ラセミ−シス−１，８−ジベンジル−５−メトキシカル
ボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸１
０．Ｏｆにトルエン７００−を加え、加温・溶解した。

この溶液を徐々に冷却し、６２℃となったところで（４
８，５Ｒ）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカルボ
ニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸０．
５１を接種し６０〜６２℃にて２時間保温・攪拌した。

析出した結晶を濾過し、乾燥した。

（４８，５Ｒ）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカ
ルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸
２．２　Ｏｆが得られた。

融点　　１４７．５〜１４８．５℃ ［α］Ｂ６５−２６．７°（ｃ＝２．、ＤＭＦ）光学純
度　９６％ Ｐ液にラセミハーフェステル体８．２０１を加え、加熱
溶解した。この溶液を徐々に冷却１ノ、６２℃となった
ところで（４Ｒ，５８）−１，３−ジベンジル−５−メ
トキシカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カ
ルボン酸０．５９を接種し、６０〜６２℃にて２時間保
温攪拌した。

析出した結晶を濾過し、乾燥した。

（４Ｒ，５８）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカ
ルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸
ｓ、ｓｏｙが得られた。

融点　　１４８〜１４９℃ 〔α〕２０ ．８６．　　＋２７．０°（Ｃ＝２．Ｄλ１Ｆ）光学純
度　９７％ ■　水素化硼素リチウム２１５”ｒ、テトラヒドロフラ
ン１５−の混合物に上ｅ、ｃ　４　Ｓ　、　５　Ｒ）−
１，、ｓ−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−
オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸１．２０１　、
テトラヒドロフラン２０ｙｄからなる溶液を室温にて滴
下した。この反応液を２時間還流したのち、テトラヒド
ロフランを減圧にて留去した。残渣に冷却下メタノ（２
１） 一ル２０−を徐々に加え、次に濃塩酸２．５ｇを加えｊ
コ。この混合物を１時間還流し、減圧濃縮した。残渣を
シリカでルカラムクロマト精製し、０．７２ｆ（Ｄ（４
ａ８．（ｉａＲ）−１，９−ジベンジルへキサヒドロ−
１■−フロ〔８゜４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオ
ンを得た。

融点　　１１６〜１１８℃ 〔α］、　　＋６０．１°（Ｃ＝　ｌ　、　ＣＨＯｔａ
、）■　上記（４Ｒ，５８）−１，８−ジベンジル−５
−メトキシカルボニル−２−オ、キソイミダゾリジンー
４−カルボン酸１．８４ｆ、）すエチル７　Ｅ　ン０．
５１１　、テトラヒドロフラン１０−の混合液に一５℃
にてクロルＪｊ［エチル０．５４　Ｆ　、テトラヒドロ
フラン２−の溶液を滴下した。その後同温度で８０分攪
拌し、析出しているト１す、エチルアミン塩酸塩を濾過
して除去した。Ｐ液を水素化硼素ナトリウム０．２４ｆ
、９０％含水テトラヒドロフラン１゜−の溶液に一１５
℃で滴下し、反応させた。

（２２） その後、希頃酸にて酸性とし、酢酸エチルにて抽出した
。有機層を減圧にて濃縮後シリカケルカラムクロマト精
！１、（４ａＳ、５ａＲ）−１，８−ジベンジルへキサ
ヒドロ−Ｉｎ−フロ［８，４−ｄ〕イミダゾール−２，
４−ジオン１．０４ｇを得た。

融点　　１１４〜１１７℃ ０ 〔α］　　　＋５９．０°（０＝　ｌ　、　ＣＨＯ７ｓ
　）実施例８ ■　ラセミ−シス−１，８−ジベンジル−５−メトキシ
カルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン
酸２．００ｆにアセトニトリル１０−を加え、加温・溶
解した。この溶液を徐々に冷却し、８５℃となったとこ
ろで（４８，５Ｒ）−１，８−ジベンジル−５−メトキ
シカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボ
ン酸０．２０ｆを接種し、２７〜８０℃にて２時間保温
・攪拌した。

析出した結晶を濾過し、乾燥した。

（４８，５Ｒ）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカ
ルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸
０．４（ｌが得られた。

′　融点　　１４８〜１４５℃ 〔α］　　　−２８，９°（０＝２．ＤＭＦ）６６ 光学純度　８６％ ■　水素化硼素ナトリウム５８１１ｖ、イソプロピルア
ルコール６ｍの混合液に上記（４８，５Ｒ）−１，８−
ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソイミ
ダゾリジン−４−カルボン酸２００４．テトラヒドロフ
ラン２．５−からなる溶液を室温にて滴下した。次に反
応液を６０〜７０℃にて７時間攪拌した。

反応液を冷却し、濃塩酸０．４ｇを加え、減圧にて反応
液を濃縮した。残渣に水４０−を加え、クロロホルム２
０−にて２回抽出した。

クロロホルム層を水にて洗浄し、無水硫酸マグネジ゛ウ
ムにて乾燥後減圧濃縮し、残渣１８０■を得た。残渣゛
をシリカゲルカラムクロマト精製し、（４ａＳ　、　５
ａＲ）　　１　＊　８−ジベンジルへキサヒドロ−１■
−フロ［８，４−ｄｌイミダゾール−２，４−ジオン１
４１７１ｖを得た。

融点　　１０８〜１１０℃ ０ ［α］　　　＋　５８．０’　（ｃ＝ｌ　、ＣＨＯｔａ
）実施例４ ■　ラセミ−シス−１，８−ジベンジル−５−メトキシ
カルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン
酸２．５０’ｊにベンゼン５０−、トリエチルアミン７
０ｗＩｔを加え、加温・溶解した。この溶液を徐々に冷
却し、５０℃となったところで（４８，５Ｒ）−１，８
−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソイ
ミダゾリジン−４−カルボン酸０、２５　ｆｌを接種し
、５０〜４８℃にて２時間保温・攪拌した。

析出した結晶を沖過し乾燥した。

（４８，５Ｒ）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカ
ルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸
０．６１１Ｉが得られた。

融点　　１４８．５〜１４５℃ （２５） 〔α］　”　　　−２６，６°（ｃ＝２．ＤＭＩ”　）
６５ 光学純度　９５％ ■　水素化硼素ナトリウム５８ｎｌ！、イソプロピルア
ルコール６−の混合液に上記（４８，５Ｒ）−１，８−
ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソイミ
ダゾリジン−４−カルボン酸２００〜、テトラヒドロフ
ラン２、５　ｄからなる溶液を室温にて滴下した。

以後実施例８の■と同様に処理しく　４ａ８゜５ａＲ）
　−１，８−ジベンジルへキサヒドロ−１■−フロ［８
，４−ｄｌイミダゾール−２゜４−ジオン１４５■を得
た。

融点　　１１４〜１１６℃ 〔α］、　　　＋　５９．１°（Ｃ＝１　、　ＣＨＣｔ
ｓ　）実施例５ ラセミ−１，８−ジベンジル−５−メトキシカルボニル
−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸２．５０
１にトルエン５０−、トリエチルアミン７０■を加え、
加温・溶解した。この溶液を徐々に冷却し、６７℃とな
（２６） ったところで（４８，５Ｒ）−１，８−ジベンジル−５
−メトキシカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４
−カルボン酸０．２６ｆを接種し、６７〜６５℃で２時
間、保温・攪拌した。

析出した結晶を濾過し、乾燥した。

（４８，５Ｒ）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカ
ルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸
０．５２ｆが得られた。

融点　　１４５〜１４６．５℃ ［α］　　　−２７，４°（Ｃ＝Ｊ、ＤＭＦ）６５ 光学純度　９８％ ■　水素化硼素ナトリウム５８■、イソプロピルアルコ
ール６ゴの混合液に上記Ｃ４ｓ、５ｌｔ）−１，８−ジ
ベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソイミダ
ゾリジン−４−カルボン酸２００■、テトラヒドロフラ
ン２．５−からなる溶液を室温にて滴下した。

以後実施例８の■と同様に処理し、（４ａ８゜４１Ｒ）
−１，８−ジベンジルへキサヒドロ−１，ｔｔ−フロ［
８，４−ｄｌイミダゾール−２，４−ジオン１８８キを
得た。

融点　　１１６〜１１８℃

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （４８，５Ｂ）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカ
   ルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸
   〔以下（４８，５Ｒ）−ハーフェステル体と略称する。 〕と（４Ｒ，５８）−１，８−ジベンジル−５−メトキ
   シカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボ
   ン酸［以下（４Ｒ，５８）−ハーフェステル体と略称す
   る。〕とが混在する過飽和溶液に光学活性な（４８，５
   Ｂ）−ハーフェステル体または（４Ｒ，５８）−ハーフ
   ェステル体の結晶全存在せしめ、それと同種の光学活性
   なハーフェステル体を上記過飽和液より優先的に晶出さ
   せ、光学活性な（４８，５Ｒ）−ハーフェステル体また
   は（４Ｒ，５８）−ハーフェステル体を得、次いで得ら
   れたハーフェステル体のカルボキシル基またはメトキシ
   カルボニル基を還元、閉環することを特徴とする式 〔式中、＊およびＢｚｌは前述と同一。４Ｒ位、６８位
   はシス配位である。〕 で示される光学活性なシス−１，８−ジベンジルへキサ
   ヒドロ−ＩＨ−フロ［８，４−ｄｌイ【ダシ−ルー２，
   ４−ジオンの製造方法。