JPS58206593A - ポリアルキルジアザスピロデカニル酢酸誘導体、その製造方法およびその用途 - Google Patents
ポリアルキルジアザスピロデカニル酢酸誘導体、その製造方法およびその用途Info
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- JPS58206593A JPS58206593A JP58081054A JP8105483A JPS58206593A JP S58206593 A JPS58206593 A JP S58206593A JP 58081054 A JP58081054 A JP 58081054A JP 8105483 A JP8105483 A JP 8105483A JP S58206593 A JPS58206593 A JP S58206593A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D498/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D498/10—Spiro-condensed systems
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D498/12—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains three hetero rings
- C07D498/20—Spiro-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D519/00—Heterocyclic compounds containing more than one system of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring system not provided for in groups C07D453/00 or C07D455/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/35—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having also oxygen in the ring
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
文献から、オキサゾリジノン・タイプの多数の環置換−
および置換ジアザスピロデカンが公知である。例えばド
イツ特許第２．６０６，０２６号および同第２，６３４
，９５７号明細書には、非常に良好な安定剤能力によっ
てｉ越しているこれらの群からの、オキサゾリジノンの
窒素の所で置換されていない化合物が開示されているが
、それらの内の一部は尚重大な欠点を、特に揮発性に関
しおよびまた多くの合成樹脂中への溶解性の不足という
欠点を有している。このことは、これらの生成物が多方
面に使用できないこと、即ち例えば塗料の分野および合
成樹脂の分野のｖｒ］き冬〈の分野で使用して同様の結
果を得ることができない結果をもたらす。
および置換ジアザスピロデカンが公知である。例えばド
イツ特許第２．６０６，０２６号および同第２，６３４
，９５７号明細書には、非常に良好な安定剤能力によっ
てｉ越しているこれらの群からの、オキサゾリジノンの
窒素の所で置換されていない化合物が開示されているが
、それらの内の一部は尚重大な欠点を、特に揮発性に関
しおよびまた多くの合成樹脂中への溶解性の不足という
欠点を有している。このことは、これらの生成物が多方
面に使用できないこと、即ち例えば塗料の分野および合
成樹脂の分野のｖｒ］き冬〈の分野で使用して同様の結
果を得ることができない結果をもたらす。
それ故に分子を太きぐすることによってまたは極性ＮＨ
−基の所をアルキル基で置換することによってか＼る欠
点を除く試みが尽されて米た。
−基の所をアルキル基で置換することによってか＼る欠
点を除く試みが尽されて米た。
例えばヨーロッパ特許第１ス６１７号明細書ではオキサ
ゾリジノンの９奏の所で＃喚されたジアザスピロデカン
類が開示されている。しかしこのものは特に揮発性が高
過ぎる為に工業的に満足されていない。これに対してド
イツ特許出願公開第２．９５”、、７５２号明細書から
公知のＮ−アルキルジアザスピロデカン類の一部が著し
く低い揮発性を有しているが、困帷て且つ不充分な収率
でしか製造できない。
ゾリジノンの９奏の所で＃喚されたジアザスピロデカン
類が開示されている。しかしこのものは特に揮発性が高
過ぎる為に工業的に満足されていない。これに対してド
イツ特許出願公開第２．９５”、、７５２号明細書から
公知のＮ−アルキルジアザスピロデカン類の一部が著し
く低い揮発性を有しているが、困帷て且つ不充分な収率
でしか製造できない。
従って本発明の保題は、良好に作用し、梗発性が低く且
つ安定化すべき゛重合体との相容性が良好であるジアザ
スピロデカン誘導を合成すること、その際に別の判断基
準として高収率を重んすることにある。
つ安定化すべき゛重合体との相容性が良好であるジアザ
スピロデカン誘導を合成すること、その際に別の判断基
準として高収率を重んすることにある。
本発明者は、比較的容易に且つ良好な収率で入手し得る
ジアザスピロデカニル酢酸誘導体が★ろくべきことにこ
れらの要求を十分に満足させることを見出した。
ジアザスピロデカニル酢酸誘導体が★ろくべきことにこ
れらの要求を十分に満足させることを見出した。
この新規化合物は、一般式ＩＩ）
〔式中、Ｘは式（Ｈ）またけ（■）
（式中、指標３および４はジアザスピロデカン系中の環
位を示しそして窒素原子３あるいは４の遊離原子１［ｆ
ｆｌはｒｎ酸基との佑合を生ぜしめる。） で表わされる基を意味し、 Ｒ１は水素、壊素またはＣ１〜Ｃ１，−アルキル基、殊
に水素、酸素またはＣ１〜Ｃ，’ｒアルキル基特に水素
であシ、 Ｒ２は水素またはＣ１〜Ｃ５−アルキル基、殊に水素ま
たはメチル基、特に水素であり、 Ｒ３は水素、Ｃ７〜Ｃ８゜−アルキル基（殊にＣＩ””
Ｃｌ５−１峙にＣ７〜Ｃ５−アルキル基）、塩素または
Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基で２個所まで置換されていても
よいフェニル−寸たはナフチル基（殊にフェニル基）ま
たは１つのＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されていても
よいＣ７〜Ｃ１２−フェニルアルキル基（殊にベンジル
基）であり、Ｒ４Ｂ水素、Ｃ７〜Ｃ８゜−アルキル基（
味にＣ１〜Ｃ１，−１特にＣ１〜Ｃ７３−アルキル基）
、塩素またばＯ，−Ｃ，−アルキル基で２個所まで置換
されていてもよいフェニル−またはナフチル基（珠にＣ
７〜Ｃ４−アルキル基で、實喚されていてもよいフェニ
ル−またけ０７〜Ｃ１，−フェニルアルキル基、しかし
好ましくはベンジル基）を意味し、 Ｒ３とＲ４とは、それらが結合する炭素原子と一部にな
って、４個までのＣ１〜Ｃ４−アルキル基（珠にメチル
基）によって置換されていテモヨいＣ３〜Ｃ＋ａ−シク
ロアルキル基（ＡＫＣ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基）
または式で表わされる基であってもよく、 ｎは１〜６（殊に１〜４、特に１〜６）の整数を意味し
、 Ｒ５は、ｎ＝１の場合には水素Ｃ４〜Ｃｔｓ−アルキル
基（珠にＣ１〜Ｃ１，−アルキル基）、０１〜Ｃ，−ア
ルキル基で２個所まで置換されていてもよい０７〜Ｃ６
−フェニルアルキル基またＦｉ０３〜Ｃ１２−アルケニ
ル基の意味を有するかまたは２．２．６．６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル基であり、ｎ ＝ ２の場合に
は、Ｒ５が０２〜Ｃ５゜−アルキレン４（殊にＣ２〜Ｃ
１６−１特に０２〜Ｃ０−アルキレン基）ま九はＣ４〜
Ｃ３−・アルケニル基またはＣ７〜Ｃ１２−ビス−（プ
ロピルオキシ）−アルケニル基または、４個までのメチ
ル基によって置換されていてもよい（しかし好ましくけ
置換されていない）６〜１８個、殊に６〜１２個のＣ−
原子を有するモノ〜、ジーま−たけトリシクロアルキレ
ン基〜但し最初に挙げた場合には、２つのＣ−原子がプ
ロピレン基を有していてもよいＮ−原子に替えられてい
てもよい−またはＣ９〜Ｃ１１９−了り−レン基（珠に
フェニレン基）またはＣ１〜Ｃ１８−アルアルキレン基
であり、ｎ＝３の場合には、Ｒ５がＣ５〜Ｃ５−アルカ
ントリイル基または式 ％式％ 一トリアミ４基であり、 ｎ＝４〜６の場合には、Ｒ５がエーテル基を有していて
もよい０４〜０１０−アルカン−〇−イル基またはトリ
ー〜ベンターＣ７〜０４−１珠に−０２−アルキレン−
テトラ−ビス−ヘキサアミン基１の場合のＲ５の所に記
した意味を有する。〕酬 に相当する。゛ 本発明のポリアルキルジアザスピロデカニル酢酸誘導体
の例には以下のものがある：ｔ ２，２，７，７，９
．９−へキサメチレン−１−オキ＋ｊ−５．８−ジアザ
ー４−オキツースビローＣ４，５） −デカン−３−イ
ル−酢酸エチルエステル ２、 ２，２，７，７，９．９−へキサメチル−１−オ
キサ−４，８−ジアザ−３−オキツースピロー〔４゜５
〕−デカノー４−イルー酢酸エチルエステル 五 ２，２，７，７，９．９−へキサメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー〔４２５〕
−デカノー５−１ルー酢酸−（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジニル）−エステル 未 エタン−ヒス−（２，２，７，７，９，９−へキサ
メチル−１−オキサ−４，８−ジアザ−６−オキツース
ピロー（４，５）−デカン−４−イル）−酢酸アミド ５、 ７．７．９．９−テトラメチル−２，２−ジエチ
ル−１−オキサ−５，８−ジアザ−４−オキノースピロ
ー（４，５］−デカン−３−イルー酢酸エチルエステル 瓜 １，４−ブタン−ビス−（７，７，９，９−テトラ
メチル−２，２−ジエチル−１−オキチー３，８−ジア
ザー４−オキソーヌピロー〔４，５〕−デカン−５−イ
ル）−酢酸エステル Ｚ １，６−ヘキサン−ビス−（７，７，９，９−テト
ラメチル−２，２−ジエチル−１−オキサ−３゜８−ジ
アザ−４−オキツースピロー（４，５） −デカン−３
−イル）−６１１エステル ８、 １．６−ヘキサン−ビス−（７，７，９，９−テ
トラメチル−２，２−ジエチル−１−オキサ−６゜８−
ジアザ−４−オキツースピロー（ａ、ｓ）、−デカン−
３−イル）−酢酸アミド ９、 ７，７，９．９−テトラメチル−２，２−ジエチ
ル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−Ａピロ
ー（４，５）−デカン−３−イル−酢酸−（２，２，？
Ｓ、６−チトラメチルー４−ピペリジニル）−エステル １［Ｌ ７，７，９．９−テトラメチ／ｌ／ −２−
エチル−２−ペンチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−
４−オキツースピロー（４，５）−デカン−３−イルー
酢酸メチルエステル １１ ２．７．７，９．９−ペンタメチル−２−プロピ
ル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソースビＯ
−（４，５）−デカン−５−イル−酢酸メチルエステル １２、 ２，７，７，９．９−ペンタメチル−２−ウン
デシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツース
ピローＣ４，５）−デカン−３−イルー酢酸メチルエス
テル ｉ３． ２，２，４．４−テトラメチル−１０−答３−
ブチル−７−オキサ−３，１３−ジアザ−１４−オキソ
−ジスピロー（５，１，４，２）−テトラデカン−１５
−イルー酢酸メチルエステル １４、 ２，７，７，９．９−ペンタメチル−２−ウン
デシル−１−オキソ−３，８−ジアザ−４−オキソ−ス
ピロ−（４，５）−デカン−６−イルー酢酸アミド １５、 ビス−（２，２，４，４−テトラメチル−１
ｏ−第３−ブチル−７−オキサ−３，１３−ジアザ−１
４−オキソ−ジスビロー〔５゜１．４．２）−テトラデ
カノー１３−イル）−酢酸グリコールエステル １＆ ビス−（２，７，７，９，９−ペンタメチル−２
−ベンジル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツ
ースビロー（４，５）−デカン−３−イル）−酢酸グリ
コールエステル １７、 ７，７，９．９−テトラメチル−２，２−ジベ
ンジル−１−オキサ−５，８−ジアザ−４−オキノース
ビローＣ４，５）−デカン−５−イル）−酢酸アミド １８、 ２，７，７，９．９−ペンタメチル−２−ベン
ジル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビ
ロー（４，５）−デカン−６−イル）−酢酸アミド １９、 ７，７，９．９−テトラメ、、、−２．２−ジ
ベンジル〜１−オキサ−３，８−ジアザ−４〜オギソー
スピロー（４，５）−デカン−３−イルー酢酸エチルエ
ステル ２ａ ２，２，４．４−テトラメチル−７−オキナー
！Ｉ。
位を示しそして窒素原子３あるいは４の遊離原子１［ｆ
ｆｌはｒｎ酸基との佑合を生ぜしめる。） で表わされる基を意味し、 Ｒ１は水素、壊素またはＣ１〜Ｃ１，−アルキル基、殊
に水素、酸素またはＣ１〜Ｃ，’ｒアルキル基特に水素
であシ、 Ｒ２は水素またはＣ１〜Ｃ５−アルキル基、殊に水素ま
たはメチル基、特に水素であり、 Ｒ３は水素、Ｃ７〜Ｃ８゜−アルキル基（殊にＣＩ””
Ｃｌ５−１峙にＣ７〜Ｃ５−アルキル基）、塩素または
Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基で２個所まで置換されていても
よいフェニル−寸たはナフチル基（殊にフェニル基）ま
たは１つのＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されていても
よいＣ７〜Ｃ１２−フェニルアルキル基（殊にベンジル
基）であり、Ｒ４Ｂ水素、Ｃ７〜Ｃ８゜−アルキル基（
味にＣ１〜Ｃ１，−１特にＣ１〜Ｃ７３−アルキル基）
、塩素またばＯ，−Ｃ，−アルキル基で２個所まで置換
されていてもよいフェニル−またはナフチル基（珠にＣ
７〜Ｃ４−アルキル基で、實喚されていてもよいフェニ
ル−またけ０７〜Ｃ１，−フェニルアルキル基、しかし
好ましくはベンジル基）を意味し、 Ｒ３とＲ４とは、それらが結合する炭素原子と一部にな
って、４個までのＣ１〜Ｃ４−アルキル基（珠にメチル
基）によって置換されていテモヨいＣ３〜Ｃ＋ａ−シク
ロアルキル基（ＡＫＣ５〜Ｃ１２−シクロアルキル基）
または式で表わされる基であってもよく、 ｎは１〜６（殊に１〜４、特に１〜６）の整数を意味し
、 Ｒ５は、ｎ＝１の場合には水素Ｃ４〜Ｃｔｓ−アルキル
基（珠にＣ１〜Ｃ１，−アルキル基）、０１〜Ｃ，−ア
ルキル基で２個所まで置換されていてもよい０７〜Ｃ６
−フェニルアルキル基またＦｉ０３〜Ｃ１２−アルケニ
ル基の意味を有するかまたは２．２．６．６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル基であり、ｎ ＝ ２の場合に
は、Ｒ５が０２〜Ｃ５゜−アルキレン４（殊にＣ２〜Ｃ
１６−１特に０２〜Ｃ０−アルキレン基）ま九はＣ４〜
Ｃ３−・アルケニル基またはＣ７〜Ｃ１２−ビス−（プ
ロピルオキシ）−アルケニル基または、４個までのメチ
ル基によって置換されていてもよい（しかし好ましくけ
置換されていない）６〜１８個、殊に６〜１２個のＣ−
原子を有するモノ〜、ジーま−たけトリシクロアルキレ
ン基〜但し最初に挙げた場合には、２つのＣ−原子がプ
ロピレン基を有していてもよいＮ−原子に替えられてい
てもよい−またはＣ９〜Ｃ１１９−了り−レン基（珠に
フェニレン基）またはＣ１〜Ｃ１８−アルアルキレン基
であり、ｎ＝３の場合には、Ｒ５がＣ５〜Ｃ５−アルカ
ントリイル基または式 ％式％ 一トリアミ４基であり、 ｎ＝４〜６の場合には、Ｒ５がエーテル基を有していて
もよい０４〜０１０−アルカン−〇−イル基またはトリ
ー〜ベンターＣ７〜０４−１珠に−０２−アルキレン−
テトラ−ビス−ヘキサアミン基１の場合のＲ５の所に記
した意味を有する。〕酬 に相当する。゛ 本発明のポリアルキルジアザスピロデカニル酢酸誘導体
の例には以下のものがある：ｔ ２，２，７，７，９
．９−へキサメチレン−１−オキ＋ｊ−５．８−ジアザ
ー４−オキツースビローＣ４，５） −デカン−３−イ
ル−酢酸エチルエステル ２、 ２，２，７，７，９．９−へキサメチル−１−オ
キサ−４，８−ジアザ−３−オキツースピロー〔４゜５
〕−デカノー４−イルー酢酸エチルエステル 五 ２，２，７，７，９．９−へキサメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキツースピロー〔４２５〕
−デカノー５−１ルー酢酸−（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジニル）−エステル 未 エタン−ヒス−（２，２，７，７，９，９−へキサ
メチル−１−オキサ−４，８−ジアザ−６−オキツース
ピロー（４，５）−デカン−４−イル）−酢酸アミド ５、 ７．７．９．９−テトラメチル−２，２−ジエチ
ル−１−オキサ−５，８−ジアザ−４−オキノースピロ
ー（４，５］−デカン−３−イルー酢酸エチルエステル 瓜 １，４−ブタン−ビス−（７，７，９，９−テトラ
メチル−２，２−ジエチル−１−オキチー３，８−ジア
ザー４−オキソーヌピロー〔４，５〕−デカン−５−イ
ル）−酢酸エステル Ｚ １，６−ヘキサン−ビス−（７，７，９，９−テト
ラメチル−２，２−ジエチル−１−オキサ−３゜８−ジ
アザ−４−オキツースピロー（４，５） −デカン−３
−イル）−６１１エステル ８、 １．６−ヘキサン−ビス−（７，７，９，９−テ
トラメチル−２，２−ジエチル−１−オキサ−６゜８−
ジアザ−４−オキツースピロー（ａ、ｓ）、−デカン−
３−イル）−酢酸アミド ９、 ７，７，９．９−テトラメチル−２，２−ジエチ
ル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−Ａピロ
ー（４，５）−デカン−３−イル−酢酸−（２，２，？
Ｓ、６−チトラメチルー４−ピペリジニル）−エステル １［Ｌ ７，７，９．９−テトラメチ／ｌ／ −２−
エチル−２−ペンチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−
４−オキツースピロー（４，５）−デカン−３−イルー
酢酸メチルエステル １１ ２．７．７，９．９−ペンタメチル−２−プロピ
ル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソースビＯ
−（４，５）−デカン−５−イル−酢酸メチルエステル １２、 ２，７，７，９．９−ペンタメチル−２−ウン
デシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツース
ピローＣ４，５）−デカン−３−イルー酢酸メチルエス
テル ｉ３． ２，２，４．４−テトラメチル−１０−答３−
ブチル−７−オキサ−３，１３−ジアザ−１４−オキソ
−ジスピロー（５，１，４，２）−テトラデカン−１５
−イルー酢酸メチルエステル １４、 ２，７，７，９．９−ペンタメチル−２−ウン
デシル−１−オキソ−３，８−ジアザ−４−オキソ−ス
ピロ−（４，５）−デカン−６−イルー酢酸アミド １５、 ビス−（２，２，４，４−テトラメチル−１
ｏ−第３−ブチル−７−オキサ−３，１３−ジアザ−１
４−オキソ−ジスビロー〔５゜１．４．２）−テトラデ
カノー１３−イル）−酢酸グリコールエステル １＆ ビス−（２，７，７，９，９−ペンタメチル−２
−ベンジル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツ
ースビロー（４，５）−デカン−３−イル）−酢酸グリ
コールエステル １７、 ７，７，９．９−テトラメチル−２，２−ジベ
ンジル−１−オキサ−５，８−ジアザ−４−オキノース
ビローＣ４，５）−デカン−５−イル）−酢酸アミド １８、 ２，７，７，９．９−ペンタメチル−２−ベン
ジル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツースビ
ロー（４，５）−デカン−６−イル）−酢酸アミド １９、 ７，７，９．９−テトラメ、、、−２．２−ジ
ベンジル〜１−オキサ−３，８−ジアザ−４〜オギソー
スピロー（４，５）−デカン−３−イルー酢酸エチルエ
ステル ２ａ ２，２，４．４−テトラメチル−７−オキナー
！Ｉ。
２０−ジアザ−２１−オキツースビロー（５，Ｌｌｌ、
２）−ヘンエイフテン−２０−イル−酢酸エチルエステ
ル ２１、 ２，２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−
３゜２０−ジアザ−２１−オキツースビロー系中、１，
１１．２ ）−ヘンエイコサン−２０−イル−酢酸−（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−
エステル ２２、 ２，２，４．４−テトラメチル−７ニオキ丈−
３゜２０−ジアザ−２１−オキツースピロー誘導、’１
．１１．２ ）−ヘンエイコサン−２０−イルー酢酸ヘ
キシルエステル ２五 ２２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−６；
２０−シアザー２１−オキソ−ジスビロー５．′１．１
１．２）−ヘンエイコサン−２０−イル−酢酸−２−二
チルーヘキシルーエステル ２４トリス−（２，２，４，４−テトラメチル−７−オ
キサ−３，２０−ジアザ−２１−オキソ−ジスピロー（
５，１，１１，２）−ヘンエイコサン−２０−イル）−
酢酸プロパントリイルエステル２５、 ビス−（２，
２，４，４−テトラノチル−７−オキサー３，２０−ジ
アザ−２１−オキツースビロー（５，１，１１，２）−
へンエイコサンー２０−イル＞−酢ｅヘキサンジイルエ
ステル ２＆ １．Ｓ−ヘキサン−ビス−（２，２，４，４−
テトラメチル−７−オキサ−５，２０−ジアザ−２１−
オキソ−ジスピロ。−（５，１，１１，２）−ヘンエイ
コサン−２０−イルー酢酸アミド ２７、 Ｎ、Ｎ’−３Ｔ４）、８（９）−ビス−メチ
レン−トリジクロー（５，２，１，０２，ａ ）−デカ
ン−ビス−（２，２，４゜４−テトラメチル−７−オキ
サ−６，２０−ジアザ−２１−オキソ−ジスピロー（５
，１，１１，２） ７ヘンエイコサンー２０−イル）−
酢酸アミド２８トリス−（２，２，７，７，９，９−へ
キサメチルー１−オキサー４．８−ジアザ−６−オキツ
ースピロー（４，５）−デカン−４−イル）−酢酸プＯ
ハントリイルエステル ２９ ト リ ス − （１，３，５−
１−リ − エ チ し ン − ト リアジン
−２，４，６−トリオン）〜（２，２，７，７，９，９
−ヘキサメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オ
キツースビロー（４，５）−デカン−３−イル）−酢酸
エステル ５０、 Ｎ、Ｎ’ −３（４） 、 ８ （９）−ビ
ス−メチレン−トリジクロー（５，：１１．０２．’
）−デカン−ビス−（２，２，７，７，９，９−へキサ
メチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツース
ビロー〔４゜５〕−デカン−３−イル）−酢酸アミド３
ｔ ２．２，４．４−テトラ゛メチル−７−オキサ−
３，１３−ジアザ−１４−オキソ−ジスピロー（５，１
，４，２３−テトラデカン−３−イルー酢酸エチルエス
テル 新規のジアザスピロデカニル酢酸誘導体！−１、ドイツ
特許第２．６０へ０２６号、同第２，６５４．９５７号
および同第２，８５４．９６２号明細書の化合物収）か
ら後記の概略的な図式に従ってハロゲン化酢酸誘導体（
Ｖ）との反応によってルートＡに従う唯−の方法段階に
おいであるいはルートＢに応じて、ルー）Ａに従って得
られるメチル−またはエチルエステル（Ｉａ）からアル
コール性化合物との反応ま−たはアミン基含有化合物（
Ｖｌ）でのアミド化によって得られる。
２）−ヘンエイフテン−２０−イル−酢酸エチルエステ
ル ２１、 ２，２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−
３゜２０−ジアザ−２１−オキツースビロー系中、１，
１１．２ ）−ヘンエイコサン−２０−イル−酢酸−（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−
エステル ２２、 ２，２，４．４−テトラメチル−７ニオキ丈−
３゜２０−ジアザ−２１−オキツースピロー誘導、’１
．１１．２ ）−ヘンエイコサン−２０−イルー酢酸ヘ
キシルエステル ２五 ２２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−６；
２０−シアザー２１−オキソ−ジスビロー５．′１．１
１．２）−ヘンエイコサン−２０−イル−酢酸−２−二
チルーヘキシルーエステル ２４トリス−（２，２，４，４−テトラメチル−７−オ
キサ−３，２０−ジアザ−２１−オキソ−ジスピロー（
５，１，１１，２）−ヘンエイコサン−２０−イル）−
酢酸プロパントリイルエステル２５、 ビス−（２，
２，４，４−テトラノチル−７−オキサー３，２０−ジ
アザ−２１−オキツースビロー（５，１，１１，２）−
へンエイコサンー２０−イル＞−酢ｅヘキサンジイルエ
ステル ２＆ １．Ｓ−ヘキサン−ビス−（２，２，４，４−
テトラメチル−７−オキサ−５，２０−ジアザ−２１−
オキソ−ジスピロ。−（５，１，１１，２）−ヘンエイ
コサン−２０−イルー酢酸アミド ２７、 Ｎ、Ｎ’−３Ｔ４）、８（９）−ビス−メチ
レン−トリジクロー（５，２，１，０２，ａ ）−デカ
ン−ビス−（２，２，４゜４−テトラメチル−７−オキ
サ−６，２０−ジアザ−２１−オキソ−ジスピロー（５
，１，１１，２） ７ヘンエイコサンー２０−イル）−
酢酸アミド２８トリス−（２，２，７，７，９，９−へ
キサメチルー１−オキサー４．８−ジアザ−６−オキツ
ースピロー（４，５）−デカン−４−イル）−酢酸プＯ
ハントリイルエステル ２９ ト リ ス − （１，３，５−
１−リ − エ チ し ン − ト リアジン
−２，４，６−トリオン）〜（２，２，７，７，９，９
−ヘキサメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オ
キツースビロー（４，５）−デカン−３−イル）−酢酸
エステル ５０、 Ｎ、Ｎ’ −３（４） 、 ８ （９）−ビ
ス−メチレン−トリジクロー（５，：１１．０２．’
）−デカン−ビス−（２，２，７，７，９，９−へキサ
メチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキツース
ビロー〔４゜５〕−デカン−３−イル）−酢酸アミド３
ｔ ２．２，４．４−テトラ゛メチル−７−オキサ−
３，１３−ジアザ−１４−オキソ−ジスピロー（５，１
，４，２３−テトラデカン−３−イルー酢酸エチルエス
テル 新規のジアザスピロデカニル酢酸誘導体！−１、ドイツ
特許第２．６０へ０２６号、同第２，６５４．９５７号
および同第２，８５４．９６２号明細書の化合物収）か
ら後記の概略的な図式に従ってハロゲン化酢酸誘導体（
Ｖ）との反応によってルートＡに従う唯−の方法段階に
おいであるいはルートＢに応じて、ルー）Ａに従って得
られるメチル−またはエチルエステル（Ｉａ）からアル
コール性化合物との反応ま−たはアミン基含有化合物（
Ｖｌ）でのアミド化によって得られる。
反応図式ノ各式中、Ｒ” 、Ｒ”、Ｒ”、Ｒ’ 、Ｒ’
、ｎ 、Ｘｈ ヨびＹけ上述の意味を有し、Ｔ（ａｚ
は塩素または臭素である。
、ｎ 、Ｘｈ ヨびＹけ上述の意味を有し、Ｔ（ａｚ
は塩素または臭素である。
この製法の場合群細には、最初に式（■）のジアザスピ
ロデカン＠泰らアルカリ金属水素化物、−アルコレート
または一水酸化物との反応〈よって相応する１全製造し
、次にそれをＡルート＼に従って１００〜２００℃、殊
に１２０〜２００°Ｃ１特に１４０〜２００°Ｃのもと
て不活性有機溶剤、例えばトルエン、Φシレンまたはジ
メチルホルムアミドの如き溶剤中で無加圧または加圧下
にハロゲン化酢酸誘導体（Ｖ）と反応させて所望の式（
１）の化合物とするように行なう。Ａルートに従って得
られる本発明の１部であるメチル−ま念はエチルエステ
ル（Ｉａ）をＢルートニ従ってエステル交換またはアミ
ド化によって本発明の別の生成物に転化することも可能
でありまたそれが多くの場合に有利である。最後の反応
は前述の反応温度のもとて好ましくけ溶剤としての芳香
ｙ＠炭化水素中で通例の触媒（例えばＬｉｘｌＪ 、Ｎ
ａＯＣＨ３，Ｔｉ （０−イノプロピル）４等）の添加
下に実施する。
ロデカン＠泰らアルカリ金属水素化物、−アルコレート
または一水酸化物との反応〈よって相応する１全製造し
、次にそれをＡルート＼に従って１００〜２００℃、殊
に１２０〜２００°Ｃ１特に１４０〜２００°Ｃのもと
て不活性有機溶剤、例えばトルエン、Φシレンまたはジ
メチルホルムアミドの如き溶剤中で無加圧または加圧下
にハロゲン化酢酸誘導体（Ｖ）と反応させて所望の式（
１）の化合物とするように行なう。Ａルートに従って得
られる本発明の１部であるメチル−ま念はエチルエステ
ル（Ｉａ）をＢルートニ従ってエステル交換またはアミ
ド化によって本発明の別の生成物に転化することも可能
でありまたそれが多くの場合に有利である。最後の反応
は前述の反応温度のもとて好ましくけ溶剤としての芳香
ｙ＠炭化水素中で通例の触媒（例えばＬｉｘｌＪ 、Ｎ
ａＯＣＨ３，Ｔｉ （０−イノプロピル）４等）の添加
下に実施する。
本発明のポリアルキル−ジアザスピロデカニル酢酸がヨ
ーロッパ特許第１７．６１７号あるいはドイツ峙許出願
公開第２．９３３，７３２号明細書の相応するアルキル
誘導体よりも明らかに揮発性が低いことは驚ろくべきこ
とであしまた予期できなかった。反対に、はゾ等しい分
子量で類似の分子構造である為に同様の高い揮発性も認
められるだろうと予期されたけずである。更に続いて、
特にエステル誘導体が塗料を安定化するのに引用したア
ルキル化生成物よりもより適しているであろうとは１同
様な極性である為に全く予胡されなかつ友。従って、全
体として従来技術の引用化合物６＝比較しての用途工業
的長所は期待できなかった。それ故にこれら化合物に比
較しての嵐越せる用途工業的全体特性は非常に驚ろくべ
きものと判断せざるを得ない。
ーロッパ特許第１７．６１７号あるいはドイツ峙許出願
公開第２．９３３，７３２号明細書の相応するアルキル
誘導体よりも明らかに揮発性が低いことは驚ろくべきこ
とであしまた予期できなかった。反対に、はゾ等しい分
子量で類似の分子構造である為に同様の高い揮発性も認
められるだろうと予期されたけずである。更に続いて、
特にエステル誘導体が塗料を安定化するのに引用したア
ルキル化生成物よりもより適しているであろうとは１同
様な極性である為に全く予胡されなかつ友。従って、全
体として従来技術の引用化合物６＝比較しての用途工業
的長所は期待できなかった。それ故にこれら化合物に比
較しての嵐越せる用途工業的全体特性は非常に驚ろくべ
きものと判断せざるを得ない。
ｎ＝ｉの新規生成物の低い抛発性は、当業者も特に驚ろ
（に違いない。アルキル化したモノ−ジアザスピロデカ
ン類が非常に高い揮発性を有しているということが、間
違いなくドイツ特許出頒公開第２，９３３，７３２号明
細書で知、られている。
（に違いない。アルキル化したモノ−ジアザスピロデカ
ン類が非常に高い揮発性を有しているということが、間
違いなくドイツ特許出頒公開第２，９３３，７３２号明
細書で知、られている。
新規化合物は一既に記した様に一酸素、熱および元の影
響による萼に対する合゛成樹脂用安定剤として用いられ
る。か＼る合成樹脂およびまた追加的に使用し得る添加
物の例はドイツ特許出願公開第１０４５．８３９号明細
書の第１４〜１９頁に挙げである。
響による萼に対する合゛成樹脂用安定剤として用いられ
る。か＼る合成樹脂およびまた追加的に使用し得る添加
物の例はドイツ特許出願公開第１０４５．８３９号明細
書の第１４〜１９頁に挙げである。
本発明の生成物はエチレン、プロピレン、ブタジェン、
（メタ）アクリル酸誘導体（特にそのエステル）および
スチレンの単一−および共重合体を安定化、するに、一
般に安定化すべき物質に対して０．０１〜５、殊に０．
０５〜２．５、特に０．１〜１．０重量％の量で一場今
によって、ば、安定化作用をする他の物質と共に一用い
た場合に特に遍している。塗料系を安定化する為には、
Ｙ−一〇−である化合物が特に適する。
（メタ）アクリル酸誘導体（特にそのエステル）および
スチレンの単一−および共重合体を安定化、するに、一
般に安定化すべき物質に対して０．０１〜５、殊に０．
０５〜２．５、特に０．１〜１．０重量％の量で一場今
によって、ば、安定化作用をする他の物質と共に一用い
た場合に特に遍している。塗料系を安定化する為には、
Ｙ−一〇−である化合物が特に適する。
以下の実施例によって本発明を更に詳細に説明する。
以下の製逗実施例におりて、方法生成物は第〜 頁に
記した化合物の屑を示す数字で表わしである。
記した化合物の屑を示す数字で表わしである。
４００帷の水不含キシレン中に１０９．２９ （Ｏｊモ
ル）の無水の２．２，４．４−テトラメチル−７−オそ
ブー３．２０−ジアザー２１−オキソ−ジスビロー（４
，５’ｌ−へンエイコサンを最初に入れる。
ル）の無水の２．２，４．４−テトラメチル−７−オそ
ブー３．２０−ジアザー２１−オキソ−ジスビロー（４
，５’ｌ−へンエイコサンを最初に入れる。
９、Ｏｆ （０，３モル）の８０％ａ［ＮａＥＩ−パラ
フィン混合物を添加しそして１時間老流下にカロ熱し、
次に水素の発生が終るまで（更に３侍１間）攪拌する。
フィン混合物を添加しそして１時間老流下にカロ熱し、
次に水素の発生が終るまで（更に３侍１間）攪拌する。
次いで２０ ’Ｑに冷却しそし−Ｃ３０ｙｄの水不含キ
シレンと５１．０２（０，３モル）の臭素化酢酸エチル
エステルとより成る溶液を備前する。次に還流下に８時
間撹拌し、その麦に熱い状態で濾過する（３８ｆのＮａ
Ｂｎ ）。Ｐ液を真空乾燥下にａ＠しそして残流をｎ−
へブタンで再結晶させる。
シレンと５１．０２（０，３モル）の臭素化酢酸エチル
エステルとより成る溶液を備前する。次に還流下に８時
間撹拌し、その麦に熱い状態で濾過する（３８ｆのＮａ
Ｂｎ ）。Ｐ液を真空乾燥下にａ＠しそして残流をｎ−
へブタンで再結晶させる。
収量： １１９．８ ｙ ＝４倫値ノ８８％、沸ａ１５
４°Ｃ０実施例 ２〜１８ 考 〜 頁の方法生成物の一覧表からそれぞれに引
き出し得るスピロデカンおよび以下の表に示したハロゲ
ン化酢酸誘導体の使用下に実施例１と同様に実施する。
４°Ｃ０実施例 ２〜１８ 考 〜 頁の方法生成物の一覧表からそれぞれに引
き出し得るスピロデカンおよび以下の表に示したハロゲ
ン化酢酸誘導体の使用下に実施例１と同様に実施する。
実施例 １９（化合物に７）
１５０ｔの水不含メジチン中で、実施例４に従って製造
した２ ７．．５ ｆ （０，０７７モル）の化合物／
％５．４．６ ｆ （０，０５９％ル）の４，６−ヘキ
サンジオールンよび０．．５ｆのＬｉＮＨ，を置流下に
１５時間撹拌する。その際に１０ｃｍのヴイグレク／Ｃ
（Ｖｉｇｒｓｕｘ ）−カラムを介して３．５２のエタ
ノールが留去される。次に熱い状報で濾過しそして真空
乾燥下に値組する。残留する油状生成物をヘキサンにて
結晶化させろう 収量： ２５．５ ？＝理論値の８９％；融、４１５４
０分子量ニア１５（理論値７６４）。
した２ ７．．５ ｆ （０，０７７モル）の化合物／
％５．４．６ ｆ （０，０５９％ル）の４，６−ヘキ
サンジオールンよび０．．５ｆのＬｉＮＨ，を置流下に
１５時間撹拌する。その際に１０ｃｍのヴイグレク／Ｃ
（Ｖｉｇｒｓｕｘ ）−カラムを介して３．５２のエタ
ノールが留去される。次に熱い状報で濾過しそして真空
乾燥下に値組する。残留する油状生成物をヘキサンにて
結晶化させろう 収量： ２５．５ ？＝理論値の８９％；融、４１５４
０分子量ニア１５（理論値７６４）。
実施例 ２０−３１
実施例１９と同様に実施する。
実施例 ３ｚ
この実施例は、従来技術の生成物に比較して、本発明の
安定剤の揮発性を示している。
安定剤の揮発性を示している。
揮発性は熱電ψ分析の為の装置で測定する。
この目的の為に同じ量（５００■）の本発明の化合物と
比較用物質とを窒素雰囲気下で２に／分の■熱速朋で３
００ ’Ｏにまで加鵡しそして慟・α損失量（、製／ａ
２）を測定する。結果の次の表６３の化合物 実施例 ３五 １７７０Ｆ’、浴融指数ＭＦ１１９０１５＝１．９２７
１０分（ＤＴＮ ５へ５３５に従って測定）〕、０．２
重量部のステアリン酸カルシウム、０．１重量部のペン
タエリスリチル−テトラキス−３〜（３，５−ジー第３
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオ ナートおよび ０．３１童部の試験すべき安定剤 から、夷譲室用高速混合機で製造した混合物を、件で溶
融しそして８つのオンフイスのＭ糸用／ズルを有する紡
糸ポンプを通して単繊維に加工し、次にこれを１：３の
割合で後延伸し、４０ｉｔθＸ の糸を得る為にテンク
スチャート卯−７−シそして試験甲布に加工する。
比較用物質とを窒素雰囲気下で２に／分の■熱速朋で３
００ ’Ｏにまで加鵡しそして慟・α損失量（、製／ａ
２）を測定する。結果の次の表６３の化合物 実施例 ３五 １７７０Ｆ’、浴融指数ＭＦ１１９０１５＝１．９２７
１０分（ＤＴＮ ５へ５３５に従って測定）〕、０．２
重量部のステアリン酸カルシウム、０．１重量部のペン
タエリスリチル−テトラキス−３〜（３，５−ジー第３
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオ ナートおよび ０．３１童部の試験すべき安定剤 から、夷譲室用高速混合機で製造した混合物を、件で溶
融しそして８つのオンフイスのＭ糸用／ズルを有する紡
糸ポンプを通して単繊維に加工し、次にこれを１：３の
割合で後延伸し、４０ｉｔθＸ の糸を得る為にテンク
スチャート卯−７−シそして試験甲布に加工する。
布の試料を、約１５．５ｍの直径の自由開口が残るよう
な友の明いた厚紙上に、張り付ける。
な友の明いた厚紙上に、張り付ける。
この状態で試料を、オリジナル・ノルナラ・クワＡ／
’７ランベン（ＯｒｉｇｉｎａｌＨａｎａｕ Ｏｕａｒ
ｚｌａｍｐｅｎ ）Ｇｍ ｂＨ社＋７） キセ／ テス
ト（Ｘ８ｎｏｔａｓｔ） −１２００装置中で断続光で
の照射に委ねる。この場合光線強度は紫外線−フィルタ
ー（特別フィルター・ガラスｄ＝１．７ｍ）によって調
節する５試験方法はＤＴＮ ５３−５８７（１７分の乾
燥期間、３分の潅注期間、４５′Ｃのブラック・ボディ
温媛および乾・燥期間の相対１妓７０〜７５ Ｑ６’
）に従って試験する。特定の時間間隔で該石の中心に、
６ｎの直径の重りおよび０ 、 Ｉ Ｎ 、／＋＊２の
圧力を負荷する。減衰時点として貢りが破ｉ＃Ｔ頁通す
る点を取る。
’７ランベン（ＯｒｉｇｉｎａｌＨａｎａｕ Ｏｕａｒ
ｚｌａｍｐｅｎ ）Ｇｍ ｂＨ社＋７） キセ／ テス
ト（Ｘ８ｎｏｔａｓｔ） −１２００装置中で断続光で
の照射に委ねる。この場合光線強度は紫外線−フィルタ
ー（特別フィルター・ガラスｄ＝１．７ｍ）によって調
節する５試験方法はＤＴＮ ５３−５８７（１７分の乾
燥期間、３分の潅注期間、４５′Ｃのブラック・ボディ
温媛および乾・燥期間の相対１妓７０〜７５ Ｑ６’
）に従って試験する。特定の時間間隔で該石の中心に、
６ｎの直径の重りおよび０ 、 Ｉ Ｎ 、／＋＊２の
圧力を負荷する。減衰時点として貢りが破ｉ＃Ｔ頁通す
る点を取る。
（１１Ｌ゛イツ特許出願公告第２．９３！、、７３２号
の実施例７０の化合物。
の実施例７０の化合物。
（２）ドイツ特許出願公告第２．９５＆７３２号の実施
例４の化合物。
例４の化合物。
（×）重シがまだ破断貫通してない。
代理人 江 崎 光 好
代理人 江 崎 光 史
Claims (7)
- （１）一般式（１） 〔式中、Ｘは式（ＩＩ）または（ＩＩ）（式中、指標３
および４はジアザスピロデカン系中の環位を示し、そし
て窒素原子３あるいは４の遊離原子価は酢酸基との結合
を生せしめる。） Ｒ１はＨ，ＯまたはＣ１〜Ｃ１□−アルキルＩ基であり
、Ｒ２はＨまたけＣ４〜Ｃ５−アルキル基を意味し、Ｒ
３とＲ４とは同じでも異なっていてもよく、Ｈ，Ｃ４−
〇３０−アルキル基、塩素またはＣ１〜Ｃ４−アルキル
基で置換されていてもよいフェニル−またはナフチル基
、またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されていてもよ
いＣ７〜Ｃ４２−フェニルアルキル基であるかまたは Ｒ５とＲ４とは、それらが結合する炭素原子と一緒にな
って、４個までの０１〜Ｃ４−アルキル基によって置換
されていてもよい０５〜Ｃ１８−シクロアルキル基また
は式 で表わされる基を意味し ｎは１〜乙の整数であ夛、そして Ｒ５は、ｎ＝１の場合にはＨ、Ｃ，〜Ｃ，８−７ルキル
基、Ｃ３〜Ｃ４２−アルケニル基、Ｃ４〜Ｃ４−アルキ
ル基で置換されていてもよい０７〜Ｃ２−フェニルアル
キル基または２，２，６．６−チトラメテルー４−ピペ
リンニル基を意味し、ｎ＝２の場合には、０２〜Ｃ３ｏ
−アルキル基、Ｃ４〜Ｃ８−アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ１
２−ビス−（プロピレンオキシ）−アルキレン基または
、４個までのメチル基によって置換されていてもよい６
〜１８＠１のＣ−原子を有するモノ−、ジーまたはトリ
シクロアルキレン基□但し最初に挙げた場合には２個の
Ｃ−原子がプロピレン基を持ってＡてもよいＮ−原子に
替えられていてもよい−またはＣ６〜Ｃ４８−アリーレ
ン基または０７〜Ｃ１８−アルアルキレン基であり、 ｎ＝５の場合には、０３〜Ｃ６−アルカン） ＩＪイル
基または式 ｎ＝４〜乙の場合には、エーテル基を有していてもよい
Ｃ４〜Ｃ１ｏ−アルカン−ｎ−イル基またはトリーベン
ター０２〜Ｃ４−アルキレン−テトラ−ビス−へキサア
ミン基でありそして Ｒ６ Ｙは一〇−または−Ｎ−であシ、但しＲ６はｎ＝ｉのＲ
５の所に記した意味を有する。〕で表わされるポリアル
キルジアザスビロテカニル酢酸誘導体。 - （２）一般式＋Ｉ） 〔式中、又は式（ｌ［） ４たは（ｊＩ）（式中、指標
６および４はジアザスピロデカン系中の環位を示しそし
て窒素原子６あるいは４の遊離原子価は酢酸基との結合
を生ぞしめる。） Ｒ１はＪＯまたはＣ１〜０１２−アルキル基であり、・
Ｒ２はＨまたはＣ１〜Ｃ５−アルキル基を意味し、Ｒ３
とＲ４とは同じでも異なっていてもよく、Ｈ，０１〜Ｃ
５ｏ−アルキル基、塩素またばＣ１〜Ｃ４−アルキル基
で置換されていてもよいフェニル−またはナフチル基、
またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基で置換されていてもよい
Ｃ７〜Ｃ１２−フエアルキル ｌア￥であるかまたは （ｆヱＲ３と
Ｒ４とは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、
４個までのＣ１〜Ｃ４−アルキル基によって置換されて
いてもよい０５〜Ｃ４８−シクロアルキル基または式 で表わされる基を意味し ｎは１〜６の整数でありそして Ｒ５は、ｎ ＝ １の場合にはＨ、Ｏ，〜Ｃ’、８−ア
ルキル基、Ｃ６〜Ｃ１２−アルケニル基、Ｃ１〜Ｃ４−
アルキル基で置換されていてもよい０７〜Ｃ２−フェニ
ルアルキル基または２，２，６．６−テトラメチル−４
−ピペリジニル基を意味し。 ｎ ＝ ２の場合には０２〜Ｃカーアルキル基、Ｃ４〜
Ｃ８−アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ１２−ビス−（プロピレ
ンオキシ）−アルキレン基または、４個までのメチル基
によって置換されていてもよい６〜１８個のＣ−原子を
有するモノ−、ジーまたはトリシクロアルキレン基□但
Ｌｔ初に挙げた場合には２個のＣ−原子がプロピレン基
を持っていてもよいＮ−原子に替えられていてもよい−
またはＣ６〜Ｃ１８−アリーレ７基または０７〜Ｃ４８
−アルアルキレン基であり、ｎ ＝ ３の場合には０３
〜Ｃ６−アルカン） ＩＪイル基または式 ％式％ で表わされる基またはジー０２〜Ｃ４−アルキ１７ノ ンートリアミ７ムであり、 ｎ ＝ ４〜乙の場合には、エーテル基を有していても
よいＣ４〜Ｃ１ｏ−アル刀ンーｎ−イルー基まだはトリ
ーペンタ−０２〜Ｃ４−アルキレン−テトラビス−へキ
サアミン基でめりそして６ Ｙは一〇−または−Ｎ−であり、但しＲ６はｎ ＝ １
のＲ５の所に記した意味を有する。〕で表わされるポリ
アルキルジアザスピロ７’／１１７ニル酢酸誘導体を製
造するに当って、式Ｗ）Ｈ２Ｒ２ （式中、ＸおよびＲ１−Ｒ４の基は上述の意味を有する
。） で表わされるアザスピロデカンを５０〜１６０℃のもと
て不活性有機溶剤中で当量のアルカリ金属水素化物、−
アルコレート筐たは一水酸化物と反応させてそれのアル
カリ金属塩に転化し、次にこれを式（■） （Ｈａｌ−ＣＨ，、−Ｃ−Ｙ−）−ｎＲ５（ｔ１ （式中、ＨＪはＣ１またはＢｒであり、Ｙ、Ｒ”および
ｎは上記の意味を有する。） で表わせる当量のハロゲン化化合物と１００〜２００℃
のもとて不活性有機溶媒中で反応させることを特徴とす
る、上記ポリアルキルジアザスピロデカニル酢酸誘導体
の製造方法。 - （３）化合物（■）のアルカリ塩を最初に・・ロゲン化
酢酸メチル−または一エチルエステルと反応させて、そ
の際にｎ ＝ １、Ｙ＝−０−そしてＲ５＝ ＣＨ３あ
るいはＣ２Ｈ５である式ＩＩ）の化合物を得、次にこれ
を不活性有機溶媒中で１００〜２００℃のもとてアルカ
リ触媒の一存在下に式１） ％式％）（） （式中、Ｒ５，Ｙおよびｎが特許請求の範囲第２項に記
載の意味を有する。） で表わされる当量の化合物と反応させる特許請求の範囲
第２項記載の方法。 - （４）一般式（１） 〔式中、Ｘは式（Ｉ［）または＠） （式中、指標３および４はジアザスピロデカン系中の壌
位を示し、そして窒素原子３あるいは４の遊離原子価は
酢酸基との結合を生ぜしめる。） Ｒ１はＨ，ＯまたはＣ３〜Ｃ４２−アルキル基であり、 Ｒ２はＨまたはＣ４〜Ｃ５−アルキル基を意味し、Ｒ５
とＲ４とは同じでも異なっていてもよく、Ｈ，Ｃ，、Ｃ
３ｏ−アルキル基、塩素またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基
で置換されていてもよいフェニル−またはナフチル基、
または０１〜Ｃ４−アルキル基で置換されていてもよい
Ｃ７〜Ｃ１２−フェニルアルキル基であるかまたは Ｒ５とＲ４とは、それらが結合する炭素原子と一緒にな
って、４個までのＣ３〜Ｃ４−アルキル基によって置換
されていてもよい０５〜Ｃ１８−シクロアルキル基また
は式 Ｈ２ＯＯＨ。 で表わされる基を意味し、 ｎは１〜６の整数でありセして Ｒ５は、ｎ−１の場合にはＨ、Ｃ，〜Ｃ，８−７／ｌ／
キル基、Ｃ６〜Ｃ１２−アルケニル基、Ｃ１〜ｃ４−ア
ルキル基で直換されていてもよい０７〜０９−フェニル
アルキル基または２，２，６．６−テトラメチル−４−
ピペリジニル基金意味し、ｎ ＝ ２の場合には０２〜
Ｃ５０−アルキル基、Ｃ４〜Ｃ８−アルケニル基、Ｏｒ
Ｃ＋２ −ビス−（プロピレンオキシ）−アルキレン
基または、４個までのメチル基によって置換されていて
もよい６〜１８個ＱＣ−原子を有する七ノー、ジーまた
はトリシクロアルキレン基□但し最初に挙げた場合には
２個のＣ−原子がプロピレン基を持っていてもよいＮ−
原子に替えられていてもよい−またはＣ６〜Ｃ１８−ア
リーレン基またはら〜Ｃ１８−アルアルキレン基であり
、 ｎ ＝ ５の場合には、０３〜Ｃ６−アルカントリイル
基まだは式 ％式％ レンートリアミゝ貴′基であり ｎ ＝ ４〜６の場合には、エーテル基を有していても
よいＣ４〜Ｃ１ｏ−アルカン−〇−イルー基まだはトリ
ーベンター０２〜Ｃ４−アルキレン−テトラビス−へキ
サアミン基でありそして ６ Ｙは一〇−または−Ｎ−であり、但しＲ６はｎ＝ｉのＲ
５の所に記した意味を有する。〕で表わされるポリアル
キルジアザスピロデカ二ル酢酸誘導体をＭ効成分とする
合成重合体用安定剤 - （５）重合体がポリオレフィン、ポリアクリレート、ポ
リメタアクリレートまたはスチレンの単一または共重合
体である特許請求の範囲第４項記載の安定剤。 - （６）重合体に対して０．０１〜５重ｉ％のポリアルキ
ルジアザスピロテカニル酢酸誘導体の他に、場合によっ
ては従来公知の安定化作用物質を含有する、光の置市影
響に対しての特許請求の範囲第４項記載の安定剤。 - （７） 一般式（Ｉ） １１ １、ｏ、ｎ 〔式中、Ｘは式１）または唾） （式中、指標３および４はジアザスピロデカン系中の環
位を示しそして窒素原子３あるいは４の遊離原子価は酢
酸基との結合を生せしめる。） ＲはＨ，Ｏまたは０１〜Ｃ１２−アルキル基であり、 Ｒ２はＨまたは０１〜Ｃ５−アルキル基を意味し、 Ｒ３とＲ４とは同じでも異なっていてもよ＜、Ｈ，Ｃ，
〜Ｃ３０−アルキル基、塩素またはＣ７〜Ｃ４−アルキ
ル基で置換されていてもよいフェニル−またはナフチル
基、または０１〜Ｃ４−アルキル基で置換されていても
よいＣ７〜Ｃ１２−フェニルアルキル基であるかまたは ＲとＲとは、それらが結合する炭素原 子と一緒になって、４個までのＣ４〜Ｃ４−アルキル基
によって置換されていてもよい０５〜Ｃ１８−シクロア
ルキル基または式で表わされる基を意休し ｎは１〜６の整数でありそして Ｒ５は、Ｄ＝１の場合にはｌｉ、Ｃ，〜Ｃ１８−アルキ
ル基、Ｃ３〜Ｃ１２−アルケニル基、Ｃ４〜Ｃ４−アル
キル基で置換されていてもよい０７〜Ｃ９−フェニルア
ルキル基または、２．２，６．６−チトラメテルー４−
ピペリジニル基を意味し、 ｎ ＝ ２の場合には０２〜Ｃ５０−アルキル基、０ｒ
−０８−アルケニル基、″０２〜Ｃ１２−ビスー（プロ
ピレンオキシ）−アルキレン基または、４個までのメチ
ル基によって置換されていてもよい６〜１８個のＣ−原
子を有する′モノー、ジーまたはトリシクロアルキレン
基−但し最初に挙げた場合 には２個のＣ−原子が７０ピレン基を持っていてもよい
Ｎ−原子に替えられていてもよい−または０６〜Ｃｌ８
−アリーレン基または０７〜Ｃ１８−アルアルキレン基
であり、 ｎ ＝ ５の場合には、０３〜Ｃ６−アルカントリイル
基または式 ％式％ キレン−トリアミソ基であり、 ｎ ＝＝ ４〜６の場合には、エーテル基を有していて
もよいＣ４〜Ｃ１ｏ−アルカ７− ｎ−イル−基または
トリーペンタ−０２〜Ｃ４−アルキレンーテトラビスー
へキサアミン基でありそして Ｙは一〇−である。」 で表わされるポリアルキル、ジアザスピロデカニル酢酸
誘導体を有効成分とする塗料用安定剤。 ／′ ／ ／ ７・″
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