JPS58209101A - 薄膜抵抗回路 - Google Patents
薄膜抵抗回路Info
- Publication number
- JPS58209101A JPS58209101A JP57092525A JP9252582A JPS58209101A JP S58209101 A JPS58209101 A JP S58209101A JP 57092525 A JP57092525 A JP 57092525A JP 9252582 A JP9252582 A JP 9252582A JP S58209101 A JPS58209101 A JP S58209101A
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- JP
- Japan
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- resistance
- thin film
- film
- adjustment
- films
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この先明は、抵抗値を調整しうる薄膜抵抗回路に関する
。
。
〔発明の技術的背景及びその問題点」
従来、絶縁基板上に第1図に示すようなパターンをもっ
て抵抗膜(Alt形成し、この抵抗膜−のイの部分ある
いは口の部分をレーザービーム等により選択的に切断し
抵抗値を調整するラダー型の薄膜抵抗回路が存する。た
とえば第2図のように切断した場合の上昇した抵抗値Δ
Rは次式で表わされる。
て抵抗膜(Alt形成し、この抵抗膜−のイの部分ある
いは口の部分をレーザービーム等により選択的に切断し
抵抗値を調整するラダー型の薄膜抵抗回路が存する。た
とえば第2図のように切断した場合の上昇した抵抗値Δ
Rは次式で表わされる。
1 0.65
ΔR=R,x2x−+FLoX2X−
W W
である。ただし、第3図において抵抗膜(1)の部分を
示すが、lはハの部分の長さ、Wはパターンの幅、aO
は抵抗膜−の面積抵抗である。ハの部分の抵抗値の上昇
は(Ro X 2 X’ )であるが、ハと二との間の
ホのコーナ部の抵抗値の上昇は(BOX2X0.65 −)であることは経験的に知られている。
示すが、lはハの部分の長さ、Wはパターンの幅、aO
は抵抗膜−の面積抵抗である。ハの部分の抵抗値の上昇
は(Ro X 2 X’ )であるが、ハと二との間の
ホのコーナ部の抵抗値の上昇は(BOX2X0.65 −)であることは経験的に知られている。
このように、ホのコーナ部が存するパターンでは抵抗値
の上昇が大きく、微調整は困難である。
の上昇が大きく、微調整は困難である。
したがって、たとえば荷重を電気信号に変換して出力す
る歪センサにおけるブリッジ回路の温度ドリフトに対す
る零点補正を行なうものとしては精度が粗い。
る歪センサにおけるブリッジ回路の温度ドリフトに対す
る零点補正を行なうものとしては精度が粗い。
すなわち、第4図に示すように、歪センサのブリッジ回
路はそれぞれR1,Rzl R3,R4の抵抗値をもつ
ス、トレンゲージにより形成され、大刀電圧をVg、出
力電圧t−goとすれば、 となる。R1,R2,R3,R4の抵抗値が等しければ
V。
路はそれぞれR1,Rzl R3,R4の抵抗値をもつ
ス、トレンゲージにより形成され、大刀電圧をVg、出
力電圧t−goとすれば、 となる。R1,R2,R3,R4の抵抗値が等しければ
V。
は零となるが各抵抗値にバラツキがあるとVoは零にな
らない。
らない。
たとえば、抵抗fi R11几3.&が等しく、抵抗値
侮のみがΔ8分だけ差がある値、すなわちR,=几十Δ
Rとするときの出力電圧ΔVoは、 となる。ストレンゲージ抵抗体の面積抵抗R,=10Ω
、Vg = IOV、 R= I KQ、 jVg=
1 mV C1とき0JRt−求めると、 したかつて、ΔR−i=0.40 となる。
侮のみがΔ8分だけ差がある値、すなわちR,=几十Δ
Rとするときの出力電圧ΔVoは、 となる。ストレンゲージ抵抗体の面積抵抗R,=10Ω
、Vg = IOV、 R= I KQ、 jVg=
1 mV C1とき0JRt−求めると、 したかつて、ΔR−i=0.40 となる。
ΔR=几・・、−よυ−!−を求めると、ΔR=0.4
Ω、〜=W W 10Ωであるので、−=0− ’ 4 =25となる。
Ω、〜=W W 10Ωであるので、−=0− ’ 4 =25となる。
したがって、ラダー型のパターンでは補正力不可能であ
る。
る。
〔発明の目的」
この発明は上述のような点に鑑みなされたもので、微調
整を可能にする薄膜抵抗回路を提供することを目的とす
るものである。
整を可能にする薄膜抵抗回路を提供することを目的とす
るものである。
〔発明の概要」
この発明に、絶縁基板上に隣接して配列された4を性の
良好な導電膜間を複数の抵抗膜により並列に接続し、抵
抗膜を選択して切断して抵抗調整部の抵抗値を定め、ま
たーブロックがこのようにして形成した抵抗詞整部f:
複数直列に接続しつつ絶縁基板上に形成し、これらの抵
抗調整部の抵抗値の総和(直列の合成抵抗)によっても
設定値が調整され、したがって、調整範囲が広く粗調整
から微調整に至るまで高い精度をもって調整することが
できるように構成したものである。
良好な導電膜間を複数の抵抗膜により並列に接続し、抵
抗膜を選択して切断して抵抗調整部の抵抗値を定め、ま
たーブロックがこのようにして形成した抵抗詞整部f:
複数直列に接続しつつ絶縁基板上に形成し、これらの抵
抗調整部の抵抗値の総和(直列の合成抵抗)によっても
設定値が調整され、したがって、調整範囲が広く粗調整
から微調整に至るまで高い精度をもって調整することが
できるように構成したものである。
この発明の一実施例を第5図ないし第9図に基いて説明
する。(1)は絶縁基板である。この絶縁基板(1)上
には第5図に示すようにNi0r膜(2)(あるいはT
aN膜)が形成され、その上層に4を性のきわめて良好
な人U膜(3)が形成されている。そして、これらのN
i0r膜(2)とAu k (3)とを選択的にエツチ
ングして第6図に示すパターンを形成し、さらに、第3
図に示すようにハンチングした部分について緬a(3)
t−エツチングしてNi0r & (2) を露出させ
る。これにより、絶縁基板(1)上に九膜(3)による
リード電極(4) (5)と複数の導電膜(6)とが形
成されるとともに、Ni0rWk(2)による抵抗膜(
7)と抵抗1m (8) (9)とが形成されている。
する。(1)は絶縁基板である。この絶縁基板(1)上
には第5図に示すようにNi0r膜(2)(あるいはT
aN膜)が形成され、その上層に4を性のきわめて良好
な人U膜(3)が形成されている。そして、これらのN
i0r膜(2)とAu k (3)とを選択的にエツチ
ングして第6図に示すパターンを形成し、さらに、第3
図に示すようにハンチングした部分について緬a(3)
t−エツチングしてNi0r & (2) を露出させ
る。これにより、絶縁基板(1)上に九膜(3)による
リード電極(4) (5)と複数の導電膜(6)とが形
成されるとともに、Ni0rWk(2)による抵抗膜(
7)と抵抗1m (8) (9)とが形成されている。
導電膜(6)は後述する抵抗調整部を複数形成するため
に最少三個必要とし、一端に位置する導電膜(6ンはリ
ード電極(5)と一体化されている。
に最少三個必要とし、一端に位置する導電膜(6ンはリ
ード電極(5)と一体化されている。
他端の導11L膜<ei)は前記抵抗膜(7)?介して
前記リード電極(4)に接続されている。そして、ブロ
ック毎に隣接する導電膜(6)間には抵抗膜(8) (
9)が並列に接続され、これにより、ブロック別に抵抗
調整部叫四が複数形成されている。
前記リード電極(4)に接続されている。そして、ブロ
ック毎に隣接する導電膜(6)間には抵抗膜(8) (
9)が並列に接続され、これにより、ブロック別に抵抗
調整部叫四が複数形成されている。
このような構成において、各抵抗調整部四における合成
抵抗は、抵抗膜(8)の抵抗′Jk5rとし、抵抗膜(
9)の抵抗frとしたときにirである。いずれの抵抗
膜(8) (9) t−レーザービーム等により切断す
ると抵抗の調整が行なわれる。すなわち、第9図(殉の
ように抵抗膜(8)全切断したときは、5 25 sr−Tr=7r の抵抗変化があり粗調整が行なわれ、第9図(Glのよ
うに抵抗膜(9)全切断したときは 1 6 の抵抗変化があり微調整が行なわれる。さらに、このよ
うにして抵抗調整部(ト)毎に調整された抵抗値は直列
の合成抵抗として総和されて変化する。
抵抗は、抵抗膜(8)の抵抗′Jk5rとし、抵抗膜(
9)の抵抗frとしたときにirである。いずれの抵抗
膜(8) (9) t−レーザービーム等により切断す
ると抵抗の調整が行なわれる。すなわち、第9図(殉の
ように抵抗膜(8)全切断したときは、5 25 sr−Tr=7r の抵抗変化があり粗調整が行なわれ、第9図(Glのよ
うに抵抗膜(9)全切断したときは 1 6 の抵抗変化があり微調整が行なわれる。さらに、このよ
うにして抵抗調整部(ト)毎に調整された抵抗値は直列
の合成抵抗として総和されて変化する。
したがって、調整範囲も広く、粗から微に至るまで自由
に抵抗値を調整することが可能である。その抵抗値も理
論値として正確に設定しうる。
に抵抗値を調整することが可能である。その抵抗値も理
論値として正確に設定しうる。
このようにして自由に抵抗値を調整することができる抵
抗を、たとえば歪センサのブリッジ回路の入力側に接続
することによシ、スパン温度補償抵抗として用いられ、
また、ブリッジ回路中に接続すれば、温度ドリフトに対
するブリッジ回路の出力の零点補正抵抗として用いられ
、いずれにしても精度のきわめて高い調整を行なうこと
が可能でめる。
抗を、たとえば歪センサのブリッジ回路の入力側に接続
することによシ、スパン温度補償抵抗として用いられ、
また、ブリッジ回路中に接続すれば、温度ドリフトに対
するブリッジ回路の出力の零点補正抵抗として用いられ
、いずれにしても精度のきわめて高い調整を行なうこと
が可能でめる。
この発明は上述のように構成したので、各抵抗調整部の
切断すべき抵抗膜を選択して抵抗値を理論値の通りに調
整し、また、複数の抵抗調整部を直列に接続することに
より、各抵抗調整部の抵抗値の総和により、レンジが広
く粗から微に至る調整をきわめて正確に行なうことがで
きる効果を有するものである。
切断すべき抵抗膜を選択して抵抗値を理論値の通りに調
整し、また、複数の抵抗調整部を直列に接続することに
より、各抵抗調整部の抵抗値の総和により、レンジが広
く粗から微に至る調整をきわめて正確に行なうことがで
きる効果を有するものである。
第1図ないし第3図は従来の薄膜抵抗回路のパターンを
示す説明図、第4図は歪センサ等におけるブリッジ回路
図、第5図ないし第9図はこの発明の一実施例を示すも
ので、第5図はパターン形成前の絶縁基板の側面図、第
6図及び第7図はパターン形成過糧を示す絶縁基板の平
面図、第8図はパターン形成後の絶縁基板の側面図、第
9図は抵抗調整部の調整状態を示す一部の平面図である
。 1・・・絶縁基板、6・・・導電膜、8〜9・・・抵抗
膜、10・・・抵抗調整部 ハ ハ
示す説明図、第4図は歪センサ等におけるブリッジ回路
図、第5図ないし第9図はこの発明の一実施例を示すも
ので、第5図はパターン形成前の絶縁基板の側面図、第
6図及び第7図はパターン形成過糧を示す絶縁基板の平
面図、第8図はパターン形成後の絶縁基板の側面図、第
9図は抵抗調整部の調整状態を示す一部の平面図である
。 1・・・絶縁基板、6・・・導電膜、8〜9・・・抵抗
膜、10・・・抵抗調整部 ハ ハ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 絶縁基板上に、間隔’t6けて配列された導電性の
良好な4m膜の間t−a択的に切断される複数の抵抗膜
により並列に接続してなる抵抗調整部を形成したこと、
全特徴とする薄膜抵抗回路。 2、 絶縁基板上に、−ブロックが間隔t6けて配列さ
れた導電性の艮好な導’III膜の間を選択的に切断さ
れる複数の抵抗膜により並列に接続してなる複数の抵抗
調整部を直列に接続しつつパターン化して形成したこと
を特徴とする薄膜抵抗回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57092525A JPS58209101A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 薄膜抵抗回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57092525A JPS58209101A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 薄膜抵抗回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58209101A true JPS58209101A (ja) | 1983-12-06 |
| JPS644641B2 JPS644641B2 (ja) | 1989-01-26 |
Family
ID=14056755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57092525A Granted JPS58209101A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 薄膜抵抗回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58209101A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011033939A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Sharp Corp | ヒータ、このヒータを用いた定着装置及び帯電装置、並びにこの定着装置または帯電装置を用いた画像形成装置 |
-
1982
- 1982-05-31 JP JP57092525A patent/JPS58209101A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011033939A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Sharp Corp | ヒータ、このヒータを用いた定着装置及び帯電装置、並びにこの定着装置または帯電装置を用いた画像形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS644641B2 (ja) | 1989-01-26 |
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