JPS58210535A - 試料台移動装置 - Google Patents
試料台移動装置Info
- Publication number
- JPS58210535A JPS58210535A JP9389082A JP9389082A JPS58210535A JP S58210535 A JPS58210535 A JP S58210535A JP 9389082 A JP9389082 A JP 9389082A JP 9389082 A JP9389082 A JP 9389082A JP S58210535 A JPS58210535 A JP S58210535A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- base plate
- bar
- reaction tube
- moving device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、試料台移動装置処係シ、特に外界との遮断を
必要とする装置例えは有毒ガス、爆発性ガス逃るいは高
純度ガス等を扱う栴型石英反応管等の内部罠おいて、外
界と接触することなく、試料台の位置を任意に制御する
だめの装置に関する。
必要とする装置例えは有毒ガス、爆発性ガス逃るいは高
純度ガス等を扱う栴型石英反応管等の内部罠おいて、外
界と接触することなく、試料台の位置を任意に制御する
だめの装置に関する。
技術の背景
半導体集積回路素子、光半導体素子等の半導体素子を製
造する際には、シリコン等の半導体基板を石英などから
構成される反応管内へ収容し、加熱しつつ、該反応管内
へ所定の反応ガスを導入して、前記半導体基板上に所望
の皮膜を形成したり、該半導体基板に所疋の不純物を導
入することが行なわれる。
造する際には、シリコン等の半導体基板を石英などから
構成される反応管内へ収容し、加熱しつつ、該反応管内
へ所定の反応ガスを導入して、前記半導体基板上に所望
の皮膜を形成したり、該半導体基板に所疋の不純物を導
入することが行なわれる。
このような気相処理を実施する際には、反応管内におい
て被処理半導体基板を適切な位置へ制御性良く移動させ
−る必要がある。
て被処理半導体基板を適切な位置へ制御性良く移動させ
−る必要がある。
かかる被処理半導体基板（試料）を適切な位置へ移動き
せることは、 （１）、複数の試料に対して、均一な処理を行なうこと
が可能となり、 （Ｉ＋３． 反応速度、状態を連続的に制御すること
が可能となり、 （Ｉｌｌ）、 高温処理が行なわれる装置にあっては
、キャップ（沓）を開けた際に反応管内へ侵入する外界
の窒素（Ｎ、）、酸素（０，）、埃、水分などを十分に
除去してから、試料を高温領域へ移動させることができ
、試料取り出しの際には試料を低温領域へｊ？／ ｈリ
シ、た昏２−に、キャップを開くことができる。
せることは、 （１）、複数の試料に対して、均一な処理を行なうこと
が可能となり、 （Ｉ＋３． 反応速度、状態を連続的に制御すること
が可能となり、 （Ｉｌｌ）、 高温処理が行なわれる装置にあっては
、キャップ（沓）を開けた際に反応管内へ侵入する外界
の窒素（Ｎ、）、酸素（０，）、埃、水分などを十分に
除去してから、試料を高温領域へ移動させることができ
、試料取り出しの際には試料を低温領域へｊ？／ ｈリ
シ、た昏２−に、キャップを開くことができる。
などの利点を有し、俤めてイｊ効である。
促米もこ術とｆｉｌｉ厄点
従来、このような半導体基機債の試別を保詫した試料台
を反応管内において移動する際には、反応ｔ１内を１素
（Ｎ、）等の安全なガスに置換した後、キャップを外し
、石英の引出棒等により行なっている。
を反応管内において移動する際には、反応ｔ１内を１素
（Ｎ、）等の安全なガスに置換した後、キャップを外し
、石英の引出棒等により行なっている。
しかしながら、かかる方法では、
（ＩＪ、 ＆応時に試料の移動が省なえないことから、
目由展が小さくなる。
目由展が小さくなる。
（１す、引出し棒を用いると、装動の前郡傾大きなを間
を必俊とする。
を必俊とする。
（ｉｉｉ）、 引出し棒は外界と接が（するため、台、
層内を汚染する可能性がある。
層内を汚染する可能性がある。
等の問題点が存伍するＣ
発印Ｊの目的
本発明はこのような従来の技術に代えて、反応１内の豚
囲気を破ることなく、試料台を所定の位置へ移動させる
ことができる構成を提供しようとするものである。
囲気を破ることなく、試料台を所定の位置へ移動させる
ことができる構成を提供しようとするものである。
発明の構成
このため、本発明によれば、下面に欠起を有する試料台
と、赳試斜台を支持する架台と、前記試料台の下圧配設
され外周面に前記試料台の突起と係合するらせん状突起
が設けられた試料台移動装置とが反応管内に配置され、
該反応管外に前記計３料台移動用棒を回転する躯動装置
が配設されてなることを特徴とする試料台移動装置が提
供される。
と、赳試斜台を支持する架台と、前記試料台の下圧配設
され外周面に前記試料台の突起と係合するらせん状突起
が設けられた試料台移動装置とが反応管内に配置され、
該反応管外に前記計３料台移動用棒を回転する躯動装置
が配設されてなることを特徴とする試料台移動装置が提
供される。
以下本発明を実施例をもって訃細に説明する。
発明の実施例
本発明によりは、第１図に示される横型加熱炉あるいは
ＩＦｊｈ型気相反応装置における試料台の移動に、第２
図に示される試料台移動装置が適用される。
ＩＦｊｈ型気相反応装置における試料台の移動に、第２
図に示される試料台移動装置が適用される。
第１図において、１１は石英反応管、１２は石英キャッ
プ、１３はガス導入管、１４はガス排出％、１５１１加
熱用ヒーターである０ また、１６は被処理体例えばシリコン半導体基板、１７
は石英製基板ホルダー、１８は試料台である０ 本発す１１によれは、紐被処理体１６が載置された石英
製ＪＥ板ホルダー１７の支持機構として、第２図に示さ
れる試料台移動装置が適用される。
プ、１３はガス導入管、１４はガス排出％、１５１１加
熱用ヒーターである０ また、１６は被処理体例えばシリコン半導体基板、１７
は石英製基板ホルダー、１８は試料台である０ 本発す１１によれは、紐被処理体１６が載置された石英
製ＪＥ板ホルダー１７の支持機構として、第２図に示さ
れる試料台移動装置が適用される。
第２図において、２１ａ、２１ｂは、反応ｔ１１１の管
軸と平行な方向に延びるよう、支持枠２２ａ。
軸と平行な方向に延びるよう、支持枠２２ａ。
２２ｂによって橋絡状Ｋｗ絖された架台であシ、２３で
ある。該試料台移動装置２３の外周面にはらせん状に連
続する突７ｔ！２４が設けられ、また一端には磁石ある
いは磁性体２５が配詐埒れる・また２６は、その４隅に
前記架台２１ａ、２１ｂに当接するガイド２７ａｔ２７
ｂ、２７ｃ、２７ｄが肢けられ、下面に前記試料台移動
装置２３にのらせん状突起２４間に突出するＩ突起２８
が設轢られた試別台で心る０ 前起試斜台移動用朴２８及びＶ、斜台２６の奴面の（（
成を第３（ａ）及び（ｂ）に示す・、このよりに試利合
移動戟「ｆは、第４図に示される如く、反応管１１内へ
、支持台４１を介して配置される。
ある。該試料台移動装置２３の外周面にはらせん状に連
続する突７ｔ！２４が設けられ、また一端には磁石ある
いは磁性体２５が配詐埒れる・また２６は、その４隅に
前記架台２１ａ、２１ｂに当接するガイド２７ａｔ２７
ｂ、２７ｃ、２７ｄが肢けられ、下面に前記試料台移動
装置２３にのらせん状突起２４間に突出するＩ突起２８
が設轢られた試別台で心る０ 前起試斜台移動用朴２８及びＶ、斜台２６の奴面の（（
成を第３（ａ）及び（ｂ）に示す・、このよりに試利合
移動戟「ｆは、第４図に示される如く、反応管１１内へ
、支持台４１を介して配置される。
このように反応管１１内へ配置された試料台移動装置は
、第５図に示されるように、石英キヤ、。
、第５図に示されるように、石英キヤ、。
ブ１２の管壁１２Ａを介して前記磁石又は磁性体２５が
、該石英キャップ１２の外側に配置されたパルスモータ
５１の回転軸５２に取り付けられたマグネット５３と磁
気的に結合される。なお５２は、第２のキャップである
。
、該石英キャップ１２の外側に配置されたパルスモータ
５１の回転軸５２に取り付けられたマグネット５３と磁
気的に結合される。なお５２は、第２のキャップである
。
そして、かかるパルスモータ−５１０回転に伴って試料
台移動棒２３が回転し、咳試斜台移動棒２３の回転によ
って試料台移ｔｉＩＪ祢２３の外周にあるらせん状突起
２４に当接する突起２８に架台２１ａ、２１ｂにほぼ平
行な力が試料台２６に伝達され、この結果、架台２１ａ
、２１ｂＫ支持、案内されて試別台２６は移動される０ すなわち、かかる構成によれば、ノくルスモーター５１
の回転を制御することによって、試料台を、所定の付添
へ高い精度をもって移動することができる〇 なお、前記試料台移戚゛針飢において、支持棒２２ａ。
台移動棒２３が回転し、咳試斜台移動棒２３の回転によ
って試料台移ｔｉＩＪ祢２３の外周にあるらせん状突起
２４に当接する突起２８に架台２１ａ、２１ｂにほぼ平
行な力が試料台２６に伝達され、この結果、架台２１ａ
、２１ｂＫ支持、案内されて試別台２６は移動される０ すなわち、かかる構成によれば、ノくルスモーター５１
の回転を制御することによって、試料台を、所定の付添
へ高い精度をもって移動することができる〇 なお、前記試料台移戚゛針飢において、支持棒２２ａ。
２２ｂを、第６図に示される如く、版状体６１８゜６１
ｂとし、架台２１ａ、２Ｌｂを支持する構成としてもよ
い。
ｂとし、架台２１ａ、２Ｌｂを支持する構成としてもよ
い。
また、前ＭＱ試料台移動装置において、架台２１ａ＋２
１ｂの外径を大きくして、ｍ７図に示される如く、ｆｆ
ｊＪ５管１１内管状１内る際に前記支持台４１を用いる
ことなく該反応管１１内への収容を行ってもよい。かか
る板には試料台２６に設けられるガイド２７は、架台２
１ａ、２１ｂの内側に当接する如く配置して、該ガイド
２７が反応管１１内面へ接すモーター勢の駆動装置と磁
気的に結合てれた試料移動装置の回転によって駆動され
る。
１ｂの外径を大きくして、ｍ７図に示される如く、ｆｆ
ｊＪ５管１１内管状１内る際に前記支持台４１を用いる
ことなく該反応管１１内への収容を行ってもよい。かか
る板には試料台２６に設けられるガイド２７は、架台２
１ａ、２１ｂの内側に当接する如く配置して、該ガイド
２７が反応管１１内面へ接すモーター勢の駆動装置と磁
気的に結合てれた試料移動装置の回転によって駆動され
る。
このため、かかる試料台の移動の際に、反応管内の雰囲
気を破ることなく、該試料台を所定の位置へ移動させる
ことができる。
気を破ることなく、該試料台を所定の位置へ移動させる
ことができる。
また、該試料台の駆動源としてパルスモータ−を用いる
ことによυ、電子計′Ｉ！＃機等を用いての作業を容易
（（行う仁とができ、しがも市い（＋Ｌｆａｔ拓壓をも
って制御することができる。
ことによυ、電子計′Ｉ！＃機等を用いての作業を容易
（（行う仁とができ、しがも市い（＋Ｌｆａｔ拓壓をも
って制御することができる。
第１図は本発明の適用対象の一つとなる横ル炉の構成を
示す断面図、き３２図は本孔り」にょる試イ」移動装置
の構成を示す外観斜視図、第３図はかがる試料台移動装
置の賦斜台＄！−動用肴並ひに眩季ｉ台の構成を示す外
！！斜視図、第４図は本発明による試料移動装置を反応
管内へ配置した状態を示す断面図、第５図は本発明によ
る試料移動＆飯のＩＩＡ動系を示す・断面図、第６図は
本発明による試料移動装＃における架台の構成を示す外
観斜視図、第７図は本発明による試料移動装置の他の実
施例を反応管へ配置した状態を示す断面図である。 図忙おいて、 １１・・・川 反応管 １２・・・・・・ キャップ １８．２６・・・・・・試料台 ２１・・・・・・ｌ架台 ２３・・川・ 試料台移動用件 ２４ ・・・・・・ らせん秋りさ起 ２Ｂ・・・・・・突起 ２５・・・・・・ 磁石又は磁＋／を俳５１・・・・・
・ パルスモータ− ５３・・・・・・磁石 第１図 び 第３ 図 （α）
示す断面図、き３２図は本孔り」にょる試イ」移動装置
の構成を示す外観斜視図、第３図はかがる試料台移動装
置の賦斜台＄！−動用肴並ひに眩季ｉ台の構成を示す外
！！斜視図、第４図は本発明による試料移動装置を反応
管内へ配置した状態を示す断面図、第５図は本発明によ
る試料移動＆飯のＩＩＡ動系を示す・断面図、第６図は
本発明による試料移動装＃における架台の構成を示す外
観斜視図、第７図は本発明による試料移動装置の他の実
施例を反応管へ配置した状態を示す断面図である。 図忙おいて、 １１・・・川 反応管 １２・・・・・・ キャップ １８．２６・・・・・・試料台 ２１・・・・・・ｌ架台 ２３・・川・ 試料台移動用件 ２４ ・・・・・・ らせん秋りさ起 ２Ｂ・・・・・・突起 ２５・・・・・・ 磁石又は磁＋／を俳５１・・・・・
・ パルスモータ− ５３・・・・・・磁石 第１図 び 第３ 図 （α）
Claims (1)
- 下面に突起を壱する試料台と、１ｑｔｔ料台を支持する
架台と、前記試料台の下に配設され外周面にｍｉＪ記試
料台の突起と係合するらせん状突起が設けられた試料台
移動装置とが反応管内に配置され、核反応管外に前起試
料台移動用婦を回転する躯ｌｌｂ装置が配設されてなる
ことを特徴とする試料台移動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9389082A JPS58210535A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 試料台移動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9389082A JPS58210535A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 試料台移動装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58210535A true JPS58210535A (ja) | 1983-12-07 |
Family
ID=14095069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9389082A Pending JPS58210535A (ja) | 1982-06-01 | 1982-06-01 | 試料台移動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58210535A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004925A1 (en) * | 1993-08-04 | 1995-02-16 | Tadahiro Ohmi | Moisture meter having sample surface treatment function |
| CN105319110A (zh) * | 2015-11-09 | 2016-02-10 | 常州大学 | 一种底盘升降与操作端转动配置三氧化钨煤样的串行设备 |
-
1982
- 1982-06-01 JP JP9389082A patent/JPS58210535A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004925A1 (en) * | 1993-08-04 | 1995-02-16 | Tadahiro Ohmi | Moisture meter having sample surface treatment function |
| CN105319110A (zh) * | 2015-11-09 | 2016-02-10 | 常州大学 | 一种底盘升降与操作端转动配置三氧化钨煤样的串行设备 |
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