JPS58215621A - １「あ」１プロジエクシヨンアライナ - Google Patents
１「あ」１プロジエクシヨンアライナInfo
- Publication number
- JPS58215621A JPS58215621A JP57097671A JP9767182A JPS58215621A JP S58215621 A JPS58215621 A JP S58215621A JP 57097671 A JP57097671 A JP 57097671A JP 9767182 A JP9767182 A JP 9767182A JP S58215621 A JPS58215621 A JP S58215621A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser light
- mirror
- mask
- arcuate
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
- G02B26/126—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane including curved mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザー光を用いて等倍１象の露光？竹なう１
：ｌプロジェクションアライナ（等倍像反射投彰露元装
置）に関する。
：ｌプロジェクションアライナ（等倍像反射投彰露元装
置）に関する。
近年、半導体製品の製造′ｉ！！程において半褥体基板
に露光処理を施こ丁場合、尚照度ｒ傅るためにレーザー
光音用いて露光？行なうことが提案ｇｎ、ている。レー
ザー光は高輝度照明光の巾？十分狭く絞れ、従来の水銀
ランプ光源の場合に比して高い輝度および解像度？得る
ことが可能であり、良好な露光用の光として注目を集め
ている。
に露光処理を施こ丁場合、尚照度ｒ傅るためにレーザー
光音用いて露光？行なうことが提案ｇｎ、ている。レー
ザー光は高輝度照明光の巾？十分狭く絞れ、従来の水銀
ランプ光源の場合に比して高い輝度および解像度？得る
ことが可能であり、良好な露光用の光として注目を集め
ている。
しかしながら、従来のレーザー光露プし方式にレーザー
光の特長？未た十分に活かしうるまでには至っておらず
、レーザー光源から放出嘔ｔするレーサー元ケより有効
に使用して、＾Ｍ１＃！度の露光処理ケ実現下ることが
型筒れている。
光の特長？未た十分に活かしうるまでには至っておらず
、レーザー光源から放出嘔ｔするレーサー元ケより有効
に使用して、＾Ｍ１＃！度の露光処理ケ実現下ることが
型筒れている。
したがって、本発明の目的は、前記した腺組に鑑み、レ
ーザー光を用いて＾照度、高解像度の露光ケ行なうこと
のできる１：１プロジエクシヨンアライナ紮提供下るこ
とにある。
ーザー光を用いて＾照度、高解像度の露光ケ行なうこと
のできる１：１プロジエクシヨンアライナ紮提供下るこ
とにある。
この目的ケ運成するため、本発明のＩ：１プロジエクシ
ヨンアライナはレーザー光源から放出さｔまたレーザー
元？円弧状照明として反射投影する元学手Ｊ！ｉ？ｔ［
していること？特徴とするものでめる。
ヨンアライナはレーザー光源から放出さｔまたレーザー
元？円弧状照明として反射投影する元学手Ｊ！ｉ？ｔ［
していること？特徴とするものでめる。
以下、本発明を図面に示す実Ｍｌガにしたがって杵細に
峠明Ｔる。
峠明Ｔる。
第１図は本発明による１：１プロジエクシヨンアライナ
の一実施例ケ示す概略的説明図である。
の一実施例ケ示す概略的説明図である。
本実施例において、レーザー光源（レーザー発揚器）１
は露光用のレーサー光？発生下る。
は露光用のレーサー光？発生下る。
このレーザー光？円弧状照明に変えるための光学手段と
して、本実施例でに、回転可能な角錐型のポリゴンミラ
ー６と、回転曲面ｖ＃（たとえば回転球面ψ）７とがｌ
１ｍ４次設置されでいる。テなわら、ポリゴンばシー６
ｉ’！ハーフミラー５ｒ通過したレーサー光七回転曲ｒ
ｊｎ伊７に反射し、該回転曲面−７はそのレーザー光？
円弧状の照明とし、円弧状スリット〒待つマスク８に対
して反射投影する。
して、本実施例でに、回転可能な角錐型のポリゴンミラ
ー６と、回転曲面ｖ＃（たとえば回転球面ψ）７とがｌ
１ｍ４次設置されでいる。テなわら、ポリゴンばシー６
ｉ’！ハーフミラー５ｒ通過したレーサー光七回転曲ｒ
ｊｎ伊７に反射し、該回転曲面−７はそのレーザー光？
円弧状の照明とし、円弧状スリット〒待つマスク８に対
して反射投影する。
マスク８に入射したレーザー光にミラー９、ミラー１０
工りなる光学系を経て、該マスク８の円弧状スリットと
同じ半径ｒｏの円弧内に置かれた牛専体ウェハ１１のレ
ジスト面に来光して結１象し、露光処理ｗｈなう。
工りなる光学系を経て、該マスク８の円弧状スリットと
同じ半径ｒｏの円弧内に置かれた牛専体ウェハ１１のレ
ジスト面に来光して結１象し、露光処理ｗｈなう。
仄に、本実施例の作用について説明する。
レーザー光′ＯＭｌから放出されたレーザー光に角錐型
のポリゴンミラー６に投射される。このポリゴンミラー
６は角錐型の回・献口Ｊ能なミラーであるので、レーザ
ー光＃１１からのレーザー光？回転曲面榊７に同けて反
射する。この場合、第１図における回転曲面−７上の点
Ａに第２図に一点釦巌で示すような円弧状の軌跡となる
。その舶来、回転曲面儒７はポリゴンミラー６からのレ
ーザー−Ｋｋ円弧状の照明としてマスク８に反射投影下
る 凹面鏡９．凸面鏡ｌＯから成るｌ二１結像元平系に
ある半径ｒ６の円弧に対し非点収差が零であるので、マ
スク８上Ｖこ十分集光して円弧状照明の巾才狭くして付
くことにより該円弧状照明の非点収差？零に近づけるこ
とができ、露光処理はれる焼付現１砿パターンのＭ像度
は非常［簡くなる。
のポリゴンミラー６に投射される。このポリゴンミラー
６は角錐型の回・献口Ｊ能なミラーであるので、レーザ
ー光＃１１からのレーザー光？回転曲面榊７に同けて反
射する。この場合、第１図における回転曲面−７上の点
Ａに第２図に一点釦巌で示すような円弧状の軌跡となる
。その舶来、回転曲面儒７はポリゴンミラー６からのレ
ーザー−Ｋｋ円弧状の照明としてマスク８に反射投影下
る 凹面鏡９．凸面鏡ｌＯから成るｌ二１結像元平系に
ある半径ｒ６の円弧に対し非点収差が零であるので、マ
スク８上Ｖこ十分集光して円弧状照明の巾才狭くして付
くことにより該円弧状照明の非点収差？零に近づけるこ
とができ、露光処理はれる焼付現１砿パターンのＭ像度
は非常［簡くなる。
したがって、前記円弧状照明？マスク８の円弧状スリッ
トから凹面鏡９．凸面５１Ｏ１，Ｘび凹面１ｌＩＦ９才
弁して牛導体つエノ・１１のレジスト面に結像ちせると
、惨めて尚照度、高哨稼度の露光処理を短時間で行なう
ことができ、スルーフットも同上する。
トから凹面鏡９．凸面５１Ｏ１，Ｘび凹面１ｌＩＦ９才
弁して牛導体つエノ・１１のレジスト面に結像ちせると
、惨めて尚照度、高哨稼度の露光処理を短時間で行なう
ことができ、スルーフットも同上する。
！また、本実施例では、回転曲面−７から反射投影はれ
たρ刊１［（状のレーザー光？直接マスク８に入射てる
ので、回転曲面ｗ７からマスク８までの光学系ｒ省略で
き、コンパクトかつ低コストで、光量ロスの少なめｇ４
造である。
たρ刊１［（状のレーザー光？直接マスク８に入射てる
ので、回転曲面ｗ７からマスク８までの光学系ｒ省略で
き、コンパクトかつ低コストで、光量ロスの少なめｇ４
造である。
第３図は本発明によるプロジェクションアライナの他の
１つの実施例牙示す。
１つの実施例牙示す。
この実励例は第１図の実施例エリもレーザー光（照明Ｌ
）のコヒーレン、ト性、ニューメリヵル會アパチャ（
Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ａｐｅｒｔｕｒｅ ） ｆ良好に
下るために、レーザー光源１とポリゴンミラ−６とのｆ
ｆ１ｌに、ハーフミラ−２、全反射ミラー３．４および
ハーフミラ−５よりなるピラー系ケ設けて干渉性ケ弱め
ると共に、このばラー系とポリゴンミラー６との開にビ
ームエクスパンダ１２ｋｅけ、６らにこのビームエクス
パンダ１２がらのレーサー元ケ集光するための回転曲面
鏡７Ａｉ回転放物囲鏡としたものである。
）のコヒーレン、ト性、ニューメリヵル會アパチャ（
Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ａｐｅｒｔｕｒｅ ） ｆ良好に
下るために、レーザー光源１とポリゴンミラ−６とのｆ
ｆ１ｌに、ハーフミラ−２、全反射ミラー３．４および
ハーフミラ−５よりなるピラー系ケ設けて干渉性ケ弱め
ると共に、このばラー系とポリゴンミラー６との開にビ
ームエクスパンダ１２ｋｅけ、６らにこのビームエクス
パンダ１２がらのレーサー元ケ集光するための回転曲面
鏡７Ａｉ回転放物囲鏡としたものである。
また、回転曲面−７Ａとマスク８との間には、円Ｉｊ瓜
状スリッ１ｔ−ｒｉつスリット板１３と照明光学系１４
とが配置されている。
状スリッ１ｔ−ｒｉつスリット板１３と照明光学系１４
とが配置されている。
本実施例では、レーザー光源１から放出されたレーザー
光は、ハーフミラ−２′に通過した光と、該ハーフミラ
−２から反射式ｔ″した後、全反射ピラー３．４に経て
反射σｒして来た光とがハーフビラ−５のところで一緒
になり、光路長の異なるレーザー元トシてビームエクス
パンダ１２に入射さ１するー、Ｅ７たがって、このレー
ザー光は干渉性のない、良好なレーザー光となる。
光は、ハーフミラ−２′に通過した光と、該ハーフミラ
−２から反射式ｔ″した後、全反射ピラー３．４に経て
反射σｒして来た光とがハーフビラ−５のところで一緒
になり、光路長の異なるレーザー元トシてビームエクス
パンダ１２に入射さ１するー、Ｅ７たがって、このレー
ザー光は干渉性のない、良好なレーザー光となる。
ざらに、本実施例でに、ビームエクスパンダ」２？設け
たこと等によｐｌ ニューメリ力ルアパチャの大きい、
高Ｍ像度の露光？行なうことができる。
たこと等によｐｌ ニューメリ力ルアパチャの大きい、
高Ｍ像度の露光？行なうことができる。
第４図は本発明のきらに他の１つの実施例？示すもので
ある。
ある。
この実施例では、レーザー光＃Ｌｌとビームエクスパン
ダ１２との間に非干渉光学系１５ヶ設け、かつ該ビーム
エクスパンダ１２とポリゴンミラー６との間にニューメ
リ力ルアバチャを大きくするための集光用レンズ１６に
設け、また回転曲面椰７Ｂ金回転円錐鏡としたものであ
る。
ダ１２との間に非干渉光学系１５ヶ設け、かつ該ビーム
エクスパンダ１２とポリゴンミラー６との間にニューメ
リ力ルアバチャを大きくするための集光用レンズ１６に
設け、また回転曲面椰７Ｂ金回転円錐鏡としたものであ
る。
４ｔ４しｌの実施例の場合、レーザー元（照明光）の非
干渉性に加えて、ニューメリ力ルアパチャｒさらに大き
くすることができる。
干渉性に加えて、ニューメリ力ルアパチャｒさらに大き
くすることができる。
なお、本発明は前記実施例に限定ζｎ−るものではなく
、次とえは回転曲面神としては回転楕円面悦等ｒ用いる
こともでき、捷たミラー２．３．４．５は干渉性勿弱め
るための任意の光学ブロックに＠き換えることができる
。さらに、本発明は、１：１結ＩＩ元字系が凹面瀞９、
凸面儒１０以外の任鴬の平面ミラー、台形ミラー、屋根
型ミラー等の元学素子ゲ言む場合にも】肉用できる。
、次とえは回転曲面神としては回転楕円面悦等ｒ用いる
こともでき、捷たミラー２．３．４．５は干渉性勿弱め
るための任意の光学ブロックに＠き換えることができる
。さらに、本発明は、１：１結ＩＩ元字系が凹面瀞９、
凸面儒１０以外の任鴬の平面ミラー、台形ミラー、屋根
型ミラー等の元学素子ゲ言む場合にも】肉用できる。
以上説明したように、本発明によれは、レーザー光牙有
効に利用して高照度かつ高解像度の霧光処理？１もスル
ーブツトで実埃できる。
効に利用して高照度かつ高解像度の霧光処理？１もスル
ーブツトで実埃できる。
第１図は本発明による冨、１プロジエクシヨンアライナ
の一実施例の概略的駅明図、 第２図はホリゴンばラーと回転曲面−との関係？ボ丁半
開図、 第３図は本発明の他の１つの実施例の概略的説明図、 第４図は本発明のさらに他の実施例の順路的偶ψ明図で
ある。 １・・・レーザー光源、６・・・ボリコ゛ンミラー、７
・・・回転曲面ψ、８・・マスク、１１・半導体ウエノ
・。 代理人 弁理士 薄 １）利！′辛 ；・ノ Ｊ Ｉｆ 第 １ 図 第 ３ 図
の一実施例の概略的駅明図、 第２図はホリゴンばラーと回転曲面−との関係？ボ丁半
開図、 第３図は本発明の他の１つの実施例の概略的説明図、 第４図は本発明のさらに他の実施例の順路的偶ψ明図で
ある。 １・・・レーザー光源、６・・・ボリコ゛ンミラー、７
・・・回転曲面ψ、８・・マスク、１１・半導体ウエノ
・。 代理人 弁理士 薄 １）利！′辛 ；・ノ Ｊ Ｉｆ 第 １ 図 第 ３ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、 レーザー光？用いて等倍像の露光ケ行なうＩ：１
プロジエクシヨンアライナにおいて、レーザー光臨から
のレーザー光を円弧状照明として反射投影する光学手段
？備えてなること’に％徴とする１：１プロジエクシヨ
ンアライナ。 ２、 前記光学手段は、レーザー光源からのレーザー元
ケ受けて反射する角錐型ポリゴンミラーと、この角錐型
ポリゴンミラーかＤＪ２射きれたレーザー光紮円弧状照
明として反射投影する回転曲面−とからなることに％徴
とする特許請求の範曲第１項Ｉ己載の１．１プロジエク
シヨンアライナ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57097671A JPS58215621A (ja) | 1982-06-09 | 1982-06-09 | １「あ」１プロジエクシヨンアライナ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57097671A JPS58215621A (ja) | 1982-06-09 | 1982-06-09 | １「あ」１プロジエクシヨンアライナ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58215621A true JPS58215621A (ja) | 1983-12-15 |
Family
ID=14198483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57097671A Pending JPS58215621A (ja) | 1982-06-09 | 1982-06-09 | １「あ」１プロジエクシヨンアライナ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58215621A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61112121A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-30 | Ushio Inc | 露光装置 |
| JPS61117554A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-04 | Ushio Inc | 露光装置 |
| US4974919A (en) * | 1986-10-30 | 1990-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Illuminating device |
| US5091744A (en) * | 1984-02-13 | 1992-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system |
| US5225381A (en) * | 1989-11-02 | 1993-07-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Vacuum switch contact material and method of manufacturing it |
| JP2008233932A (ja) * | 2003-06-30 | 2008-10-02 | Asml Holding Nv | フラットパネルディスプレイ製造用露光システムおよびフラットパネルディスプレイ製造用ユニット拡大環状光学系 |
| JP2019101361A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 株式会社ユメックス | スキャン式露光装置 |
-
1982
- 1982-06-09 JP JP57097671A patent/JPS58215621A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5091744A (en) * | 1984-02-13 | 1992-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system |
| JPS61112121A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-30 | Ushio Inc | 露光装置 |
| JPS61117554A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-04 | Ushio Inc | 露光装置 |
| US4974919A (en) * | 1986-10-30 | 1990-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Illuminating device |
| US5225381A (en) * | 1989-11-02 | 1993-07-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Vacuum switch contact material and method of manufacturing it |
| JP2008233932A (ja) * | 2003-06-30 | 2008-10-02 | Asml Holding Nv | フラットパネルディスプレイ製造用露光システムおよびフラットパネルディスプレイ製造用ユニット拡大環状光学系 |
| JP2019101361A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 株式会社ユメックス | スキャン式露光装置 |
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