JPS58221200A - 荷電粒子加速器のビ−ム引出し装置 - Google Patents

荷電粒子加速器のビ−ム引出し装置

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JPS58221200A
JPS58221200A JP10411282A JP10411282A JPS58221200A JP S58221200 A JPS58221200 A JP S58221200A JP 10411282 A JP10411282 A JP 10411282A JP 10411282 A JP10411282 A JP 10411282A JP S58221200 A JPS58221200 A JP S58221200A
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JP
Japan
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septum
plate
septum plate
charged
extraction device
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山田 輝雄
兵吾 吉田
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Japan Steel Works Ltd
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Japan Steel Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は加速箱内の加速領域で加速したビームを、帯電
体とセプタム板間の逆井電場中を通して偏向させ、荷電
粒子加速器外のターゲットにビームを導くだめのビーム
引出し装置に関する。
一般に荷電粒子加速器、例えばサイクロトロンは、イオ
ン源よ多荷電粒子を加速箱内に導入して加速箱内の加速
領域で最高エネルギーまで加速し、これによって得られ
た加速ビームを、帯電体とセプタム板間の逆靜′#を場
(−mkV/s關)中を通して偏向させ、サイクロトロ
ン外のターゲットにビームを導き、例えば放射性同位元
本の生産に使用するものである。
第1図は従来のこのような荷電粒子〃口速器のビーム引
出し装置の一例を示す平面図、第2図は第1図のn−m
5矢視萌面図でろる。
第1図及び第2図において、】は信′成体、2は**体
1を油冷するための油冷却パイプ、3はセプタム板、4
はそのセプタム、5はセプタム4t−水冷するだめの水
冷却パイプである。そしてビームを偏量するためアース
側のセプタム板3に対シて帯電体1には−ffikVの
電圧が加えられ、洪dすれば帯電体1とセプタム飯3間
の電場は一閏kV15m+の逆靜を場となっている。
このような従来のビーム引出し装置では、ビームが逆#
電場中を通過する際、ビームの半数以上がセプタム板3
に衝突し、ターゲットに入射するビーム菫は加速ビーム
の50s楊度、即ちビームの取出し効率が50%程度と
極めて悪くなっている。
またビームの衝突によυセプタム板30入口にかなプの
高熱が加わるため、セプタム板3が徐々にf1損してビ
ームの取出し効率を更に悪化させている。
具体的に述べると、加速箱内の加速領域で最大エネルギ
ーまで加速されるビーム童は100〜300μAで、引
出し装置入口でのビームの直径はl關程度である。ビー
ムの取出し効率が関優の場合、例えばビームのエネルギ
ーを20M@V、ビーム量t−300μムとすると20
 M e V×300 X O−5−2tOOOWの熱
がセプタム板3に加えられるためセプタム板3のビーム
ラインに対向するラインの上下所定部分、具体的にビー
ムラインに対向するラインよシ上下方向にl■程度づつ
合#1′2IIllI程度の範囲の部分が溶損する。こ
の′a損部は運転時間に比例して徐々に進展し、ビーム
の取出し条件(磁場、ディー電圧、デフレクタ−電圧等
)が変わシ、ビームの取出し効率も減少していく。
従来はこのため数十時間の運転ごとにこのセプタム板3
を取替える必要があるばか夛でなく、セプタム板3は、
ビームによシ放射化され、長半減期の誘導放射能を含ん
でいるため、被曝のおそれがあって危険でめ夛取扱いが
困難である。
本発明は上記の点に織みてなされたものであって、セプ
タム板のd道を回避してセプタム板の交換を不要にし、
かつビームの取出し効率を向上し、しかも一定に維持す
ることができるビームの引出し装置全提供することを目
的とする。
以下上記の目的を達成する本発明を図面に示す実施例に
ついて説明する。
第3図はその第1実施例の断面図を示し、この第1実施
例においては、セプタム板3のビームラインに対向する
ラインの上下所定部分を切取ってセプタム板3をビーム
ラインに対し上、下部セプタム板3a、3bに2分11
uシ、この上、下部セプタム板3 a 、 31+の間
に所要の間隔d=21程度を設ける0間ll1liid
は$i#電場の分布に悪形豐を及ぼし、電場のしみ込み
影#(第2図の従来装置では、帯電体1とセプタム板i
との間のビーム通過頭載における!楊がセプタム板3に
平行でおるが、セプタム板を第3図のように2分、#0
した場合、′電場が上、下部セプタム板3a、3b間に
入夛込むようにわん曲して平行wL場でなくなる。この
ような#を場の変化を”しみ込み″という)等によシミ
場強度が低下するので、この態形qI金できるだけ少な
くする値に抑えることは勿論である。
第1実施例は上記のような構成であるから加速箱内の加
速領域で加速されたビームは#′成体1とセプタム飯3
間の逆靜区場中を通して1向されるが、この際、セプタ
ム板3が上、下部セプタム板3a、3bに2分割されて
いてその間に間隔dが設けられているため、加速ビーム
がセプタム板3に衝突することがない、そのためビーム
の取出し効率を大幅に向上でき、理論的には100%ま
で同上することができるばか9でなく、セプタム板3が
4撰することがないから、ビームの取出し効4を悪化さ
せるおそれがなく、一定に維持することができる。また
、セプタム板3が4損することがないから、セプタム板
3を交換する必要がないばか)でなく、セプタム板3は
ビームの衝突によシ放射化することがなく、扱4のおそ
れがないからその取扱いが容易になる等の効果がある。
しかし、第1実施例は土、下部セプタム板3a。
3b間の間隔dのため、この間隔di設けない従来の場
合よりも電場強度が低下することは避けられない。
第4図はこの点全改良するためになされた第2実施例の
nt面図を示し、第2夾流例では、第3図において、上
部セプタム板3aの下14都と下部セブーム板3bの上
端部にそれぞれ帯電体1側に突出する突出部6a、6b
を設ける暴 このようKすることによシ間4aの存在による電場のし
み込み影響を低減し、電場強度の低下を改良することが
できる。
具体的に述べると、帯電体1とセフツム板3との間隔(
この間隔に−so kV /s 、、程度の逆静電場を
作る)を基準長さLとし、上、下部セプタム板3m、3
b間に設けた間隔dをねtとした場合、第1.第2実施
例によるビーム引出し装置をモデル化し、有限要素法を
用いた電場解析グ目グラムで電場のしみ込みを#を算し
たところ、第3図の第1実施例ではビームラインにおけ
る電場のしみ込みはIO俤であったものが、第4図の第
2実施例では高さ几を程度の突出部61.61)を設け
ることによυ電場のしみ込みを5−程度に改良すること
ができた。そしてセプタム板3に対する帯電体1の電圧
を5〜104程度高くすることKよセ従来の電場強度に
改良することができたー 実際、帯電体1とセプタム板3との間隔tは実施例の場
合、上、下部セプタム板3a*3b間の間隔d=4は2
1111となシ、引出し装置入口でのビームの直径1m
lを充分に満している。また電場のしみ込みが51の第
2実施例の場合Nt=4目。
C1=2m+で突出部5a、5bの高さは%t=o、s
■程度でよいことKなる。
上述のように第2実施例によれば、第1実施例と全く同
様の効果を奏する以外に上、F部セプタム板3a 、3
bにそれぞれ微小高さの突出部6’t6bを設けること
によって電場強度の低下を改良することができる効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来装置の一例を示す平面図、第2図は第1図
の■−IIm矢視断面図、第3図は本発明装置の第挾施
例の断面図、第4図は第2実施例の断面図である。 1・・・・・・・・・帯電体、3・・・・・・・・・セ
プタム板、3a。 3b・・・・・・・・・上、下部セプタム板、(la、
5b・・・・・・・・・突出部、d・・・・・・・・・
間隔。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)加速箱内の加速領域で加速したビームを、帯電体
    とセプタム板間の逆静電場中を通して偏向させ、荷電粒
    子加速器外のターゲットにビームを導くためのビーム引
    出し装置において、前記セプタム板をビームラインに対
    し上、下部セプタム板に2分割し、この上、下部セプタ
    ム板の間に所要の間隔を設けて構成した荷電粒子加速器
    のビーム引出し装置。
  2. (2)加速箱内の加速領域で加速したビームを、帯電体
    とセプタム板間の逆#嵐場中を通して偏向させ、荷電粒
    子加速器外のターゲットにビームを導くためのビーム引
    出し装置において、前記セプタム板をビームラインに対
    し上、下部セプタム板に2分割し、この上、下部セプタ
    ム板の間に所要0間14を設けると共に1、この上部セ
    プタム板の下端部及び下部セプタム板の上端部に1それ
    ぞれ帯電体側に突出する突出部を設けて構成した荷電粒
    子加速器のビーム引出し装置。
JP10411282A 1982-06-16 1982-06-16 荷電粒子加速器のビ−ム引出し装置 Granted JPS58221200A (ja)

Priority Applications (1)

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JP10411282A JPS58221200A (ja) 1982-06-16 1982-06-16 荷電粒子加速器のビ−ム引出し装置

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Publication Number Publication Date
JPS58221200A true JPS58221200A (ja) 1983-12-22
JPS6245520B2 JPS6245520B2 (ja) 1987-09-28

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ID=14372040

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JP10411282A Granted JPS58221200A (ja) 1982-06-16 1982-06-16 荷電粒子加速器のビ−ム引出し装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62112899U (ja) * 1985-11-28 1987-07-18

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JPS62112899U (ja) * 1985-11-28 1987-07-18

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