JPS5825637A - 投影焼付装置 - Google Patents
投影焼付装置Info
- Publication number
- JPS5825637A JPS5825637A JP56124212A JP12421281A JPS5825637A JP S5825637 A JPS5825637 A JP S5825637A JP 56124212 A JP56124212 A JP 56124212A JP 12421281 A JP12421281 A JP 12421281A JP S5825637 A JPS5825637 A JP S5825637A
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- JP
- Japan
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- mask
- wafer
- guide
- pats
- optical system
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ＩＣ，ＬＳＩ，超ＬＳＩ等の半導体回路素子
製造用の投影焼付装置、特にマスクの一部の偉又は全体
の像をウニ・・一部に形成する結像光学系を使用し、マ
スク，ウェハーを一体として又はこれ等の一方だけを該
結像光学系に対して相対的に移動させ、ウェハー上にマ
スクの像を投影する焼付装置に関するものである。
製造用の投影焼付装置、特にマスクの一部の偉又は全体
の像をウニ・・一部に形成する結像光学系を使用し、マ
スク，ウェハーを一体として又はこれ等の一方だけを該
結像光学系に対して相対的に移動させ、ウェハー上にマ
スクの像を投影する焼付装置に関するものである。
マスクの一部の像をウェハー上に形成し、結像光学系に
対して相対移動させる焼付装置は昭和５２年１０月６日
に本件出願人によって出願され、昭和５４年４月２７日
に特開昭５４ − ５３８６７号として公開されている
。又、マスクの全体縮小像をウェハーの一部に形成し、
結像光学系とマスクを一体にして、これ等に対して相対
的にマスクを段階的に移動させ、多数のマスク像をウェ
ハーに焼付けるいわゆるステッパー投影焼付装置が知ら
れている。
対して相対移動させる焼付装置は昭和５２年１０月６日
に本件出願人によって出願され、昭和５４年４月２７日
に特開昭５４ − ５３８６７号として公開されている
。又、マスクの全体縮小像をウェハーの一部に形成し、
結像光学系とマスクを一体にして、これ等に対して相対
的にマスクを段階的に移動させ、多数のマスク像をウェ
ハーに焼付けるいわゆるステッパー投影焼付装置が知ら
れている。
この様な走査型投影焼付装置において被移動部材をガイ
ド手段で規制する必要がある。
ド手段で規制する必要がある。
このため、例えば前記特開昭５４ − ５５８６７号の
投を移動自在に支持しこれをガイドレールに沿って移動
させるものである。従って、このガイドレールの精度が
悪い場合マスク，ウェハーは光学系に対して場所的に２
次元方向に傾き場所的にマスク像にずれが生じる。この
ため２本のガイドレールの直線性は厳しく精度管理が必
要である。
投を移動自在に支持しこれをガイドレールに沿って移動
させるものである。従って、このガイドレールの精度が
悪い場合マスク，ウェハーは光学系に対して場所的に２
次元方向に傾き場所的にマスク像にずれが生じる。この
ため２本のガイドレールの直線性は厳しく精度管理が必
要である。
又、カイトレールが精度良く製造されていても長年の使
用による経年変化等によってガイドの精度が低下する場
合も生じる。
用による経年変化等によってガイドの精度が低下する場
合も生じる。
本発明はこの点に鑑みなされたもので、その目的バカイ
ドレールの精度に問題があってもマスク。
ドレールの精度に問題があってもマスク。
ウェハー、結像光学系等を正確に移動可能な投影焼付装
置を提供するものである。そして、この目的はガイドレ
ールに沿って移動する摺動子に複数の浮上子を設け、こ
の複数個の浮上子の浮動力を制御し摺動子の姿勢を変え
てガイドレールの非直線性を補償するものである。従っ
て、本発明の投影焼付装置は、マスク、ウェハー、結像
系等の移動ニピッチング、ヨーインクが生ぜず良好なマ
スク像がウェハー上に形成される。
置を提供するものである。そして、この目的はガイドレ
ールに沿って移動する摺動子に複数の浮上子を設け、こ
の複数個の浮上子の浮動力を制御し摺動子の姿勢を変え
てガイドレールの非直線性を補償するものである。従っ
て、本発明の投影焼付装置は、マスク、ウェハー、結像
系等の移動ニピッチング、ヨーインクが生ぜず良好なマ
スク像がウェハー上に形成される。
以下本発明の一実施例を添付した図面を使用して説明す
る。
る。
第１図は本発明の装置の光学配置を示す図で、１はマス
ク照明用光源光学系であり、この光源光学系１は水平な
軸２に沿って、球面ミ２−′５、円弧状水銀ランプ４、
レンズ５．４５度ミラー６、レンズ７が配置されている
。尚、図面に示していないがこの光源光学系はウェハー
に対して感光性を有する光を除法するフィルターを有し
、このフィルターはマスク、ウェハーのアライメント時
にこの照明光路中に挿入される。８は上部水平面上に配
置されたマスクでちる。このマスク８は公知のマスク保
持具（不図示）によって保持されている。９はマスク８
の像をウェハー１０上に形成するミラー結像光学系であ
る。このミラー結像光学系は２枚の４５度ミラー１１．
１２及び凸面鏡１３、凹面鏡１４から構成されている。
ク照明用光源光学系であり、この光源光学系１は水平な
軸２に沿って、球面ミ２−′５、円弧状水銀ランプ４、
レンズ５．４５度ミラー６、レンズ７が配置されている
。尚、図面に示していないがこの光源光学系はウェハー
に対して感光性を有する光を除法するフィルターを有し
、このフィルターはマスク、ウェハーのアライメント時
にこの照明光路中に挿入される。８は上部水平面上に配
置されたマスクでちる。このマスク８は公知のマスク保
持具（不図示）によって保持されている。９はマスク８
の像をウェハー１０上に形成するミラー結像光学系であ
る。このミラー結像光学系は２枚の４５度ミラー１１．
１２及び凸面鏡１３、凹面鏡１４から構成されている。
１５はこれら凸。
四面ｍｉｓ、ｉ４の共通光軸である。この光軸１５は上
、下水平面に平行である。尚、ミラー結像光学系の詳細
は特電１１ｆｆｉ８−１２０！１９に詳細されているの
で説明を省略する。ウェハー１０は公知のウェハー保持
具によって保持されている。そして、このウェハー保持
具は通常の保持具と同様にＸ、Ｙ、θ方向に微調整可能
である。１６はマスク、ウェハー８．１０が所定の位置
関係であるが否かを判断するため、アライメント時にレ
ンズ７とマスク８の間の光路中に挿入される顕微鏡光学
系である。
、下水平面に平行である。尚、ミラー結像光学系の詳細
は特電１１ｆｆｉ８−１２０！１９に詳細されているの
で説明を省略する。ウェハー１０は公知のウェハー保持
具によって保持されている。そして、このウェハー保持
具は通常の保持具と同様にＸ、Ｙ、θ方向に微調整可能
である。１６はマスク、ウェハー８．１０が所定の位置
関係であるが否かを判断するため、アライメント時にレ
ンズ７とマスク８の間の光路中に挿入される顕微鏡光学
系である。
マスク、ウェハー８，１０が所定の関係にない場合、先
に述べたウェハー保持具のＸ、Ｙ、θ調選部材により、
マスクに対してウェハーを調整移動させて所定のｌ；ｌ
係にする様にする。
に述べたウェハー保持具のＸ、Ｙ、θ調選部材により、
マスクに対してウェハーを調整移動させて所定のｌ；ｌ
係にする様にする。
次に本発＋７１’ｌの装置の外観が示された第２図を説
明する。第２図中、２ｏは２ンブハウスでこの中に第１
図の照明光学系が配置されている。２１はアライメント
用顕微鏡が配置されているユニットである。このユニッ
トは紀１図の光軸１５に沿って前後に移動可能に支持さ
れている。２２はマスク支持具、２５はウェハー支持具
である。これ等支持具２２．２５は結合部材２４によっ
て一体的に移動する如く連結されている。ここで支持具
２２．２３は一体的に移動するが、ウェハーは支持具２
６に対して微少移動可能であることに注意すべきである
。２５は結合部材２４に固定されたアームである。この
アーム２５は流体ベアリングを介してガイド手段２６に
よって支持されている。
明する。第２図中、２ｏは２ンブハウスでこの中に第１
図の照明光学系が配置されている。２１はアライメント
用顕微鏡が配置されているユニットである。このユニッ
トは紀１図の光軸１５に沿って前後に移動可能に支持さ
れている。２２はマスク支持具、２５はウェハー支持具
である。これ等支持具２２．２５は結合部材２４によっ
て一体的に移動する如く連結されている。ここで支持具
２２．２３は一体的に移動するが、ウェハーは支持具２
６に対して微少移動可能であることに注意すべきである
。２５は結合部材２４に固定されたアームである。この
アーム２５は流体ベアリングを介してガイド手段２６に
よって支持されている。
従って、ガイド手段２６に沿ってマスク、ウェハー支持
具２２．２！ｌは一体的に水平に、直線的に移動される
。２７はミラー結像光学系を収納する筒である。２８は
基台、２９はターンテーブル、６０はオートフィーダー
である。このオートフィーダーによってウェハーはター
ンテープＡ／２９を介してウェハー支持具上に自動的に
供給される。
具２２．２！ｌは一体的に水平に、直線的に移動される
。２７はミラー結像光学系を収納する筒である。２８は
基台、２９はターンテーブル、６０はオートフィーダー
である。このオートフィーダーによってウェハーはター
ンテープＡ／２９を介してウェハー支持具上に自動的に
供給される。
第５図には第２図の断面略図が示されている。
７−１２５はガイド部材２６に空気ベアリングを介して
浮上している。３１は空気ベアリングのバットである。
浮上している。３１は空気ベアリングのバットである。
このバットは不図示の高圧空気源に接続し高圧空気を流
出する。
出する。
第４図、第５図に浮上したマスク、ウェハー支持具２２
．２３をガイド部材２６に沿って移動させる機構が示さ
れている。マスク、ウェハー支持具２２．２３は錘５２
によって図面の左方向に引張られている。６５はマスク
、ウェハー支持具２２．２３を右方向に移動させるため
の駆動棒である。この駆動棒６６は駆動ロー２５４によ
って右方向に移動される。３５．、！；６は案内ローラ
でローラ６６はスプリング５７によって駆動ロー２方向
に引張られている。
．２３をガイド部材２６に沿って移動させる機構が示さ
れている。マスク、ウェハー支持具２２．２３は錘５２
によって図面の左方向に引張られている。６５はマスク
、ウェハー支持具２２．２３を右方向に移動させるため
の駆動棒である。この駆動棒６６は駆動ロー２５４によ
って右方向に移動される。３５．、！；６は案内ローラ
でローラ６６はスプリング５７によって駆動ロー２方向
に引張られている。
駆動ロー２５４は第５図のモーター６８によって駆動さ
れる。モーター３８の回転力はプーリー３９、ウオーム
４０．ギヤ４１を介して駆動ローラに伝達される。そし
て、このモーター３８はマスク、ウニ・・−支持体２２
．２５に取り付けられた位置検出用のマグネスケールと
ロータリーエンコーダ４５によってそのスピードが制御
される。
れる。モーター３８の回転力はプーリー３９、ウオーム
４０．ギヤ４１を介して駆動ローラに伝達される。そし
て、このモーター３８はマスク、ウニ・・−支持体２２
．２５に取り付けられた位置検出用のマグネスケールと
ロータリーエンコーダ４５によってそのスピードが制御
される。
次に第６図以下を使用してガイド部材、摺動部材につい
て更に詳しく説明する。
て更に詳しく説明する。
アーム２５の摺動部材５０には、第６図に示す如く、バ
ット６１が前後に２個づつ配置されている。説明を簡単
にするために、前後のバット６１の給気圧制御によりピ
ッチング方向の姿勢を制御することを例にとり説明しよ
う。
ット６１が前後に２個づつ配置されている。説明を簡単
にするために、前後のバット６１の給気圧制御によりピ
ッチング方向の姿勢を制御することを例にとり説明しよ
う。
バット６１とガイド２６との間隙はバットの給気圧と移
動部の重量により決定される。移動部の重量が変わらな
い場合、給気圧が増せば間隙は広がり給気圧が下れば間
隙は狭くなる。この原理を利用したのが本発明である。
動部の重量により決定される。移動部の重量が変わらな
い場合、給気圧が増せば間隙は広がり給気圧が下れば間
隙は狭くなる。この原理を利用したのが本発明である。
第７図は本発明の制御をしない場合の摺動部材５０の挙
動である。給気圧の変動がなければバットとガイドの間
隙ｄは移動位置によらず常に一定である。そのため軸受
の移動精度はガイドの精度により決定される。従って、
この第７図の場合、摺動部＃３１は凸状に湾曲したガイ
ドレール２６に沿った凸湾曲状の移動を行う。
動である。給気圧の変動がなければバットとガイドの間
隙ｄは移動位置によらず常に一定である。そのため軸受
の移動精度はガイドの精度により決定される。従って、
この第７図の場合、摺動部＃３１は凸状に湾曲したガイ
ドレール２６に沿った凸湾曲状の移動を行う。
第８図は本発明の制御をした場合の摺動部材５０の挙動
である。ガイド２６の形状が凸湾曲状の場合、移動開始
位置では後バットの給気圧を高く、前バットの給気圧を
低くシ、移動にともなって後バットの給気圧を低く、前
バットの給気圧を高くしていく、すると制御のない場合
は、第７図に示すθという角度のピッチング精度が、こ
の制御によりＯに修正可能である。
である。ガイド２６の形状が凸湾曲状の場合、移動開始
位置では後バットの給気圧を高く、前バットの給気圧を
低くシ、移動にともなって後バットの給気圧を低く、前
バットの給気圧を高くしていく、すると制御のない場合
は、第７図に示すθという角度のピッチング精度が、こ
の制御によりＯに修正可能である。
次にガイドの形状が第９図のように凹湾曲状の場合、移
動開始位置では後バットの給気圧を低く、前バットの給
気圧を高くシ、移動にともなって後バットの給気圧を高
く、前バットの給気圧を低くすればよい。また、ガイド
の形状が凹凸の繰り返しの形状の場合には、第７．第８
図における制御を交互に行えばよい。
動開始位置では後バットの給気圧を低く、前バットの給
気圧を高くシ、移動にともなって後バットの給気圧を高
く、前バットの給気圧を低くすればよい。また、ガイド
の形状が凹凸の繰り返しの形状の場合には、第７．第８
図における制御を交互に行えばよい。
次にバットの給気圧の制御の６つの方法について述べる
。
。
第１０図はバットとガイドの間隙を電気マイクロ５１に
て直接測定して姿勢を制御する第１の方法のブロック図
である。ここで指令値とは、摺動部材５０の位置と姿勢
の関係を前もって測定しておき、姿勢を制御するには移
動位置によりどういう電気マイクロの電圧が必要である
かという指令値である。サーボ弁５２とは電流値により
一次側の圧力が一定でも二次側の圧力を変動できるノズ
ルフシツバ−タイプの流量弁である。電気マイクロ５１
とは空気容量タイプの非接触電気マイクロである出力は
２５μｍ／１ｏｖである。
て直接測定して姿勢を制御する第１の方法のブロック図
である。ここで指令値とは、摺動部材５０の位置と姿勢
の関係を前もって測定しておき、姿勢を制御するには移
動位置によりどういう電気マイクロの電圧が必要である
かという指令値である。サーボ弁５２とは電流値により
一次側の圧力が一定でも二次側の圧力を変動できるノズ
ルフシツバ−タイプの流量弁である。電気マイクロ５１
とは空気容量タイプの非接触電気マイクロである出力は
２５μｍ／１ｏｖである。
その制御方法を詳細に説明すると、マグネスケール５３
により現在の移動部材５０の現在位置を検出し、前もっ
て決めているその位置の制御量を電気マイクロ５１の電
圧になおして何Ｖ必要であるかという指令を出す、現在
その指令値が電気マイクロから出されていなければその
指令値との差分をアンプ５４を通し、サーボ弁５２を作
動することによりバット３１への給気圧を増減し、移動
部材５０の姿勢を目的の値に設定する。
により現在の移動部材５０の現在位置を検出し、前もっ
て決めているその位置の制御量を電気マイクロ５１の電
圧になおして何Ｖ必要であるかという指令を出す、現在
その指令値が電気マイクロから出されていなければその
指令値との差分をアンプ５４を通し、サーボ弁５２を作
動することによりバット３１への給気圧を増減し、移動
部材５０の姿勢を目的の値に設定する。
第１１図は、バットへの給気圧を直接設定して姿勢を制
御する第２の方法のブロック図である。
御する第２の方法のブロック図である。
この方法は前記の電気マイクロを圧力センサー５５に変
えただけである。第６の方法は測定器（レーザー干渉、
オートプリメーター等）により移動体の姿勢を現在情報
で検知し、流量サーボ弁により姿勢を制御する姿勢制御
方法である。
えただけである。第６の方法は測定器（レーザー干渉、
オートプリメーター等）により移動体の姿勢を現在情報
で検知し、流量サーボ弁により姿勢を制御する姿勢制御
方法である。
次いで、この装置の作動を説明する。
マス、マスク８とウェハー１０の相互位置関係のアライ
メントが行われる。このアライメント時されている。又
この際、顕微鏡光学系１６もレンズ７とマスク８の間に
挿入されている。この＃ｒＩｗ！。
メントが行われる。このアライメント時されている。又
この際、顕微鏡光学系１６もレンズ７とマスク８の間に
挿入されている。この＃ｒＩｗ！。
鏡１６によってマスク、ウェハー８．１０のアライメン
トマークを観察し、両ア２イメントマークの調整をウェ
ハー支持具を操作することによって行う。マスク、ウェ
ハーのアライメント終了後、先述のフィルター及び顕微
鏡１６は光路から退避する。これと同時に光源４は消灯
若しくは不図示のシャッタ一手段によって遮光される。
トマークを観察し、両ア２イメントマークの調整をウェ
ハー支持具を操作することによって行う。マスク、ウェ
ハーのアライメント終了後、先述のフィルター及び顕微
鏡１６は光路から退避する。これと同時に光源４は消灯
若しくは不図示のシャッタ一手段によって遮光される。
次いで、光源４の点灯、若しくはシャッターの開きによ
って、感光性の扇形光源像がマスク上に形成される。
って、感光性の扇形光源像がマスク上に形成される。
この扇形光源像によって照明された部分のマスク像が反
射結像光学；ｆ、１３．１４によりウェハー上に形成さ
れる。この状態でモータ−３８カ月Ｃ７１転し、駆動棒
３′５を定速度で移動させる。これによってマスク、ウ
ェハー支持体２２．２３はガイド部２６に沿って移動す
る。この際、左側のガイド２６の精度に問題があったと
して前に述べた方法によって、給気圧をそのガイドの湾
曲度に合せて個別に制御しているためピッチング及びロ
ーリング等は生じない。そして、この移動によってマス
クの全体仰がウエノ・−上に投影される。
射結像光学；ｆ、１３．１４によりウェハー上に形成さ
れる。この状態でモータ−３８カ月Ｃ７１転し、駆動棒
３′５を定速度で移動させる。これによってマスク、ウ
ェハー支持体２２．２３はガイド部２６に沿って移動す
る。この際、左側のガイド２６の精度に問題があったと
して前に述べた方法によって、給気圧をそのガイドの湾
曲度に合せて個別に制御しているためピッチング及びロ
ーリング等は生じない。そして、この移動によってマス
クの全体仰がウエノ・−上に投影される。
以上の実施例では空気浮上子を例に取って説明
第１図は本発明の装置の光学配置図、第２図は本発明の
装置の外観図、第６図は第２図の断面図、第４，５図は
それぞれ移動機構を示す図、第６図はガイドレールと摺
動部材を示す図、第７図はガイドレールに湾曲があった
場合の摺動部材の移動状態を示す図、第８図及び第９図
は本発明の摺動部材の移動状態を示す図、第１０図及び
第１１図は摺動部材の姿勢制御装置のブロック図である
。 図中、１は照明系、８はマスク、９は結像光学系、１０
はウェハー、１６はアライメントスコープ、２２はマス
ク支持体、２５はウェハー支持体、２６はガイド部、６
１は浮上子である。 手ｑに どや
装置の外観図、第６図は第２図の断面図、第４，５図は
それぞれ移動機構を示す図、第６図はガイドレールと摺
動部材を示す図、第７図はガイドレールに湾曲があった
場合の摺動部材の移動状態を示す図、第８図及び第９図
は本発明の摺動部材の移動状態を示す図、第１０図及び
第１１図は摺動部材の姿勢制御装置のブロック図である
。 図中、１は照明系、８はマスク、９は結像光学系、１０
はウェハー、１６はアライメントスコープ、２２はマス
ク支持体、２５はウェハー支持体、２６はガイド部、６
１は浮上子である。 手ｑに どや
Claims (1)
- （１）マスク，ウェハーの少なくとも一方を移動手段に
よって結像光学系の光軸に直角な面内で前記結像光学系
に対して相対的に移動させウェハー上にマスク像を焼付
ける投影焼付装置において、前記移動手段はガイド部材
及び少なくとも１個が浮上力を個別に制御可能である複
数個の浮上子を存する摺動部材を有していることを特徴
とする投影焼付装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56124212A JPS5825637A (ja) | 1981-08-08 | 1981-08-08 | 投影焼付装置 |
| US06/340,843 US4422754A (en) | 1981-08-08 | 1982-01-20 | Projection-printing apparatus |
| GB08202345A GB2115941B (en) | 1981-08-08 | 1982-01-27 | Projection-printing |
| DE19823202887 DE3202887A1 (de) | 1981-08-08 | 1982-01-29 | Projektionsdruckgeraet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56124212A JPS5825637A (ja) | 1981-08-08 | 1981-08-08 | 投影焼付装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5825637A true JPS5825637A (ja) | 1983-02-15 |
Family
ID=14879763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56124212A Pending JPS5825637A (ja) | 1981-08-08 | 1981-08-08 | 投影焼付装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4422754A (ja) |
| JP (1) | JPS5825637A (ja) |
| DE (1) | DE3202887A1 (ja) |
| GB (1) | GB2115941B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4809650A (en) * | 1986-10-09 | 1989-03-07 | Nissan Motor Co., Ltd. | Variable compression control arrangement for internal combustion engine |
| JPH06138265A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Kajima Corp | 絶対水平維持用架台 |
| US5726548A (en) * | 1992-12-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Moving stage apparatus and system using the same |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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