JPS5826427B2 - 無電解銅めっき方法 - Google Patents
無電解銅めっき方法Info
- Publication number
- JPS5826427B2 JPS5826427B2 JP7182080A JP7182080A JPS5826427B2 JP S5826427 B2 JPS5826427 B2 JP S5826427B2 JP 7182080 A JP7182080 A JP 7182080A JP 7182080 A JP7182080 A JP 7182080A JP S5826427 B2 JPS5826427 B2 JP S5826427B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- replenisher
- copper
- plating
- electroless copper
- copper plating
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無電解銅めっき液の連続運転に使用される無電
解銅めっき方法に関するものである。
解銅めっき方法に関するものである。
従来、印刷配線板は銅張積層板を使用して不要な部分を
蝕刻して取り去り配線パターンを形成していたが、省資
源、省エネルギーの面から基板上の必要なパターンのみ
に銅をめっきすることが要求されるようになった。
蝕刻して取り去り配線パターンを形成していたが、省資
源、省エネルギーの面から基板上の必要なパターンのみ
に銅をめっきすることが要求されるようになった。
このような要求に対処するため開発されたのが無電解銅
めっきで声る。
めっきで声る。
無電解銅めっきはアルカリ性の銅イオン錯体溶液であり
、ホルマリンを還元剤としてめっき触媒（ｐｄなと）あ
るいは銅表面上に金属銅を析出させるものである。
、ホルマリンを還元剤としてめっき触媒（ｐｄなと）あ
るいは銅表面上に金属銅を析出させるものである。
無電解銅めっき液を安定に連続的に運転するためには、
銅の析出によって消費された成分を新たに高濃度補充液
によって補充し、組成を一定に保つ必要がある。
銅の析出によって消費された成分を新たに高濃度補充液
によって補充し、組成を一定に保つ必要がある。
第１図〜第３図は、従来の無電解銅めっき装置を示すも
ので（第２図、第３図は第１図Ａ部の拡大図である。
ので（第２図、第３図は第１図Ａ部の拡大図である。
）、図中、１はめっき槽、２は循環パイプ、３は循環ポ
ンプ、４はフィルタ、５は補充液添加ポンプ、６は補充
液導入管、７は□キサー１８は補充液タンク、９はコン
トローラ、１゜は補充液、１１は補充液とめっき液の静
止界面である。
ンプ、４はフィルタ、５は補充液添加ポンプ、６は補充
液導入管、７は□キサー１８は補充液タンク、９はコン
トローラ、１゜は補充液、１１は補充液とめっき液の静
止界面である。
従来はこのような装置によって断続的に必要量の補充液
を補充していたため、補充液が吐出されない期間に、第
２図に示したような高濃度補充液とめつき液の静止した
接触界面１１が形成されて局所的な暴走反応が発生し、
第３図に示すように補充液導入管の先端部に銅が析出す
る１２、酸化銅が付着する１３、あるいは水酸化銅が形
成して補充液導入管が目詰１りする１４などの現象が発
生した。
を補充していたため、補充液が吐出されない期間に、第
２図に示したような高濃度補充液とめつき液の静止した
接触界面１１が形成されて局所的な暴走反応が発生し、
第３図に示すように補充液導入管の先端部に銅が析出す
る１２、酸化銅が付着する１３、あるいは水酸化銅が形
成して補充液導入管が目詰１りする１４などの現象が発
生した。
またこのような酸化銅および水酸化銅はめつき槽に持ち
込まれた場合鋼ぷりとして知られる暴走反応のひきがね
となるものである。
込まれた場合鋼ぷりとして知られる暴走反応のひきがね
となるものである。
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、Ａ 必
要に応じてめっき液を循環する循環パイプを備えた Ｂ めつき液中に開口した補充液導入管を有す補充液供
給装置 とよりなる無電解銅めっき装置に於て、補充液導入管に
理論平均消費量より少ない一定量の補充液を流しつづけ
ると共に、更に必要量の補充液を断続的に、前記補充液
導入管を定常的に流れる補充液の流路に追加するように
したことを特徴とするものである。
要に応じてめっき液を循環する循環パイプを備えた Ｂ めつき液中に開口した補充液導入管を有す補充液供
給装置 とよりなる無電解銅めっき装置に於て、補充液導入管に
理論平均消費量より少ない一定量の補充液を流しつづけ
ると共に、更に必要量の補充液を断続的に、前記補充液
導入管を定常的に流れる補充液の流路に追加するように
したことを特徴とするものである。
すなわち、本発明の無電解めっき装置は、補充液を連続
添加と断続添加に２分し、めっき液への供給口を同一に
するようにしたものである。
添加と断続添加に２分し、めっき液への供給口を同一に
するようにしたものである。
第４図は、本発明の無電解めっき方法で用いられる補充
液供給装置の配管を示す系統図であり、２は循環パイプ
、５は補充液添加ポンプ、６は補充液導入管、８は補充
液タンク、９はコントローラ、１５は補充液添加ポンプ
である。
液供給装置の配管を示す系統図であり、２は循環パイプ
、５は補充液添加ポンプ、６は補充液導入管、８は補充
液タンク、９はコントローラ、１５は補充液添加ポンプ
である。
補充液添加ポンプ１５は常時Ｏｎになっており、補充液
導入管に理論平均消費量より少ない一定量の補充液が常
時供給されている。
導入管に理論平均消費量より少ない一定量の補充液が常
時供給されている。
補充液添加ポンプ５は必要に応じてＯｎとなり、必要量
の補充液が補充液導入管に追加されるように作動する。
の補充液が補充液導入管に追加されるように作動する。
以上の説明では、補充液導入管は循環パイプ内のめつき
液中に開口していたが、すなわち、補充液は循環パイプ
内へ添加されるものであったが、補充液導入管はめつき
槽中のめつき液に直接挿入され、補充液をめっき槽に直
接添加する場合にも本発明は使用し得るものである。
液中に開口していたが、すなわち、補充液は循環パイプ
内へ添加されるものであったが、補充液導入管はめつき
槽中のめつき液に直接挿入され、補充液をめっき槽に直
接添加する場合にも本発明は使用し得るものである。
実施例
第４図に示した補充液供給装置を使用して無電解銅めっ
き液を２４時間連続運転した。
き液を２４時間連続運転した。
管内流速は１００ Ｕｍｉｎ−、常時供給される補充液
の量は１０ｄ／ｌ、断続的に供給される補充液は最大１
００７７２７１！／ｍ１ｎｓ全めっき液量は７０ｏｔで
あり、めっき液組成はＰＨ１２０ＸＣｕＳＯ４・５Ｈ２
゜１０ ？／ ４ ＥＤＴＡ ３０ ？／ｌ、 ＮａＣ
Ｎ３０７ｎｆ；７１／ＡＧＡＦＡＣ−ＲＥ−６１０（東
邦化学工業■製商品名、界面活性剤）０．２５ｔｄ／ｌ
、ＨＣＨＯ６ｄ／ｌ で温度は７２℃である。
の量は１０ｄ／ｌ、断続的に供給される補充液は最大１
００７７２７１！／ｍ１ｎｓ全めっき液量は７０ｏｔで
あり、めっき液組成はＰＨ１２０ＸＣｕＳＯ４・５Ｈ２
゜１０ ？／ ４ ＥＤＴＡ ３０ ？／ｌ、 ＮａＣ
Ｎ３０７ｎｆ；７１／ＡＧＡＦＡＣ−ＲＥ−６１０（東
邦化学工業■製商品名、界面活性剤）０．２５ｔｄ／ｌ
、ＨＣＨＯ６ｄ／ｌ で温度は７２℃である。
運転終了後補充液導入管先端部を調べたが、水酸化銅、
酸化銅の付着および銅の析出は全く見られず、昔ためつ
き液全体でも銅ふりは発生しなかった。
酸化銅の付着および銅の析出は全く見られず、昔ためつ
き液全体でも銅ふりは発生しなかった。
従来の補充液添加方法では補充液導入管先端部に水酸化
銅、酸化銅が付着しあるいは銅が析出するなどして、補
充液出口が目詰１りするあるいは水酸化銅、酸化銅の微
粒子が液中に浮遊し、暴走反応の核となって液の安定性
を低下させるなどの問題があった。
銅、酸化銅が付着しあるいは銅が析出するなどして、補
充液出口が目詰１りするあるいは水酸化銅、酸化銅の微
粒子が液中に浮遊し、暴走反応の核となって液の安定性
を低下させるなどの問題があった。
高濃度補充液を２分間補充し、１０分間補充を停止して
供給した場合、１．５時間後には補充液供給管、特に、
硫酸銅溶液、アルカリの供給管先端に水酸化銅、酸化銅
の析出がみられた。
供給した場合、１．５時間後には補充液供給管、特に、
硫酸銅溶液、アルカリの供給管先端に水酸化銅、酸化銅
の析出がみられた。
しかしながら、以上説明したような本発明の方法によれ
ば、補充液とめつき液の静止した界面がなくなり、補充
液導入管先端部における局所的暴走反応がなくなるので
、この部分の目詰捷りが全く発生せず、液の安定性も改
善された。
ば、補充液とめつき液の静止した界面がなくなり、補充
液導入管先端部における局所的暴走反応がなくなるので
、この部分の目詰捷りが全く発生せず、液の安定性も改
善された。
第１図〜第３図は従来の無電解銅めっき装置の断面図、
第４図は本発明の無電解銅めっき装置で使用される補充
液供給装置配管の系統図である。 符号の説明 １・・・めっき槽、２・・・循環パイプ、
３・・・循環ポンプ、４・・・フィルタ、５・・・補充
液添加ポンプ、６・・・補充液導入管、７・・・□キサ
ー１８・・・補充液タンク、９・・・コントローラ、１
０・・・補充液、１１・・・補充液−めつき液静止界面
、１２・・・析出銅、１３・・・付着した酸化銅、１４
・・・目詰１りした水酸銅、１５・・・補充液添加ポン
プ。
第４図は本発明の無電解銅めっき装置で使用される補充
液供給装置配管の系統図である。 符号の説明 １・・・めっき槽、２・・・循環パイプ、
３・・・循環ポンプ、４・・・フィルタ、５・・・補充
液添加ポンプ、６・・・補充液導入管、７・・・□キサ
ー１８・・・補充液タンク、９・・・コントローラ、１
０・・・補充液、１１・・・補充液−めつき液静止界面
、１２・・・析出銅、１３・・・付着した酸化銅、１４
・・・目詰１りした水酸銅、１５・・・補充液添加ポン
プ。
Claims (1)
- １ めつき液中に開口した補充液導入管によりめっき液
中に高濃度補充液を供給しながら連続運転する無電解銅
めっき方法に於て、補充液導入管に理論平均消費量より
少ない一定量の補充液を流しつづけると共に、更に必要
量の補充液を断続的に前記補充液導入管を定常的に流れ
る補充液の流路に追加するようにして高濃度補充液を供
給することを特徴とする無電解銅めっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7182080A JPS5826427B2 (ja) | 1980-05-28 | 1980-05-28 | 無電解銅めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7182080A JPS5826427B2 (ja) | 1980-05-28 | 1980-05-28 | 無電解銅めっき方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56169765A JPS56169765A (en) | 1981-12-26 |
| JPS5826427B2 true JPS5826427B2 (ja) | 1983-06-02 |
Family
ID=13471563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7182080A Expired JPS5826427B2 (ja) | 1980-05-28 | 1980-05-28 | 無電解銅めっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5826427B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0640507B1 (en) * | 1992-05-12 | 2003-04-16 | Seiko Epson Corporation | Electric vehicle |
| JP4736798B2 (ja) * | 2005-12-27 | 2011-07-27 | 国産電機株式会社 | アクチュエータ |
-
1980
- 1980-05-28 JP JP7182080A patent/JPS5826427B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56169765A (en) | 1981-12-26 |
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