JPS5829448Y2 - 発光表示装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、表面の少くとも一部の反射率を任意に変えて
その部分の明度釦よび色彩あるいはそのいずれかを変化
させるための装置を含む発光表示装置に係る。

本装置は反射率が変化する表面の部分に対応したパター
ンの表示を行なうものである。

また、所与の光学的厚さをもつ二つの部分的に反射する
面の間に固く保持された透明フィルムから成り、干渉フ
ィルターを形成する反射層を生成または除去することに
より、一般的に言う反射率を変化させることができる。

数字表示装置および文字数字表示装置は二つの範ちゅう
に入れることができる、すなわち発光装置（発光ダイオ
ード、放電装置、白熱装置）と液晶のような補助光線を
必要とする装置、電気クロマトグラフィーおよび電解装
置がそれである。

暗闇中では見えない光学上受動的な可視表示装置で、後
者の範ちゅうに属するものは、遥かにエネルギーの消費
が少く、その可視性が高度の照射によって増大されるも
ので、それは高い発光度の環境で観察する場合に利点を
あたえている。

電気クロマトグラフィーおよび電解装置の他の特性は、
表示される情報が変化する時にのみエネルギーを消費す
るという事実にある。

そのような装置は本質的に内部メモリーをもっており、
それらを使用することは切換周波数が低い値で、利用可
能の動力が制限されているあらゆる場合に有利に応用で
きる。

電解装置の範ちゅうに入る従来の表示装置においては、
有色金属筐たは有機金属のフィルム層が、電気分解によ
って観察側から遠い面上に形成される時にガラス板の反
射率の変化が生じる。

それは明らかに反射と透過の双方について作用を行うこ
とができる。

しかし金属フィルム層について得られるコントラストは
、数百オングストロームの厚さの場合のみに十分なので
あって、金属フィルム層を表示すべきパターン上に形成
するためには多酸の電力を伴う。

先行技術の電解表示装置は干渉フィルターの特徴を成す
構造的干渉現象を使用しない。

本考案は補助光源をもち、厚さの小さい金属デポジット
材に対して高いコントラストを示す発光表示装置を目的
とする。

本考案による発光表示装置は本質的に、 光源Ｓと、 厚さの小さい、光源Ｓによって照射される半反射物質の
均一層Ｃａと。

層Ｃａ上に形成された屈折率ｎと厚さｅをもつ透明物質
の層ｃｂで、その層ｃｂが、一定で、その平らな表面に
対して直角に創った場合ｎｅに等しい光学的厚さをもつ
層と、 層ｃｂの少くとも一部の上に形成された反射層Ｃｃで、
好ましい場合層ｃｂに対して層Ｃｃの他の側にいる観察
者が読取ろうとするパターンを形成する層 とを含んでいる。

本考案の１実施例では、層Ｃａは透明板りによって保護
されている。

層Ｃａはそこで層り上に形成され、層ｃｂは層Ｃａ上に
、層Ｃｃは層Ｃｂ上に形成される。

光源Ｓはランプ、ネオンランプ、レーザーのような人工
光源筐たは日光のような自然光源である。

干渉フィルターは三つの層Ｃａ、ＣｂおよびＣｃによっ
て構成される。

干渉フィルターを構成するファプリーペローのエタロン
はｎ＋ｅの光学的厚さ、すなわち二つの半反射層Ｃａと
Ｃｃ間の層ｃｂの厚さをもっている。

層ＣｃＯ形成または抑制はフィルターの反射特性をかな
りの程度１で変える。

層Ｃｂの反射率と厚さは光源Ｓから発する光が層ｃｂ内
で構造的に干渉しく強めあう干渉を起し）、それによっ
て所与の波長に対する観察者の方向における構造的干渉
によって反射の最高度を確実に生ずるように事実上選ば
れている。

この波長は第１層Ｃａ、すなわち例えば金属フィルムに
よって透過されたスペクトラムの部分内で選ばれる。

従って層Ｃｃが存在する時に認められる色は層Ｃｃが存
在していない時に認められる色とは異る。

ＩＣｃの存在と関連したこの異る色またはいわゆる干渉
色は、層Ｃａによって直接反射される光の色とは明白に
異る。

この干渉現象は層Ｃａが存在しない場合よりも、また層
ｃｂが観察可能な構造上の干渉現象を生じないような不
定で非均−の厚さの場合よりも、遥かに良いコントラス
トを生じさせる。

干渉現象の存在しない場合は、本装置の反射率の変化は
、唱Ｃｃからの鏡面反射のような非干渉性の反射のみに
よるもので、この場合はすでに解っているように良好な
解像度を確保するためにはこの最後の層Ｃｃの金属の厚
さを大きくする必要が生じる。

このため所与の光学的厚さの層上に層Ｃａおよび金属材
Ｃｃが存在することは、三つの層Ｃａ、ＣｂおよびＣｃ
で構成された干渉フィルターを反射現象が生じるところ
に形成することによって本装置の反射を、全体としてか
なりの程度まで変化できるようにする。

反射中のこの急激な変化は反射された光の色と強度に変
化をもたらし、従って遠隔表示のため、または光線また
は色彩の変化の他の装置用にも利用できる。

本考案の１実施例においては、板りは観察者に最も近い
側に艶消し面をもつ。

艶消し桶は観察角度の如何に係らず、コントラストを保
持しながら一層好ましい観察を行わせる。

これは点状の光源によって照射する場合に観察を容易に
させるもので、艶消し面が干渉フィルターから発する着
色光に影響をあたえることなく前面から反射される光を
分散するからである。

本考案の他の実施例に訃いては、非反射絶縁デポジショ
ンによって得られた非反射フィルムは、研磨板りの前面
に形成される。

層ｃｂは厚さが薄く、従って層Ｃａ上に行当って層ｃｂ
を通った後１層Ｃｃから反射される光線の傾斜の大小の
程度の結果としてもたらされた二つの光線間の通路の差
に僅かな変化をもたらす。

その結果、観察の角度または監視角度は表示されるパタ
ーンの色彩にはほとんど影響をあたえない。

フィルム層の厚さを減じ、それによって吸収を対応程度
に減じ、普た監視角度により色彩の変化を減らすため、
第１次の方法が普通採用される。

本考案の任意の実施例においては、層Ｃａは金、プラチ
ナ、パラジウム、ロジウムおよびイリジウムのような金
属から造られるか、または他の場合には金属ホウ化物、
窒化物または炭化物によって形成される。

層Ｃａの厚さはその場合光の波長より明らかに小さくな
ければならないが、それは、標準的光学分野を現在考察
中の場合に適用すると仮定して、光学的波長が消え易い
波の形態をもつ前記金属層を確実に通過できるようにす
るためである。

本考案の更に他の実施例に訃いては、層Ｃａは絶縁性で
特に多重絶縁性半反射フィルムである。

層Ｃｃが存在していない時は、層Ｃａによって反射され
、層ｃｂの存在によって雀かに変化された光源Ｓから導
かれた光を認めることができる。

層Ｃｃが存在する時は干渉現象が生じ、観察者によって
受取られた光は本質的に干渉によって得られた光である
。

層Ｃｃの存在を制御しようとする本考案の任意の実施例
にかいては、その装置は、 層Ｃａが導電性の時これとともに第１電極Ｅａを構成す
る導電層Ｃｂと接触している電解質Ｅと、電解質と接触
する第２金属電極Ｅｂと、 電極ＥａとＥｂとの間に電位差を加えるための制御電圧
源であって、層ｃｂの一部上に形成される反射層Ｃｃが
、電極Ｅａが負バイアスされる時形成（固化）され、電
極Ｅａが正バイアスされる時再溶解されるようにする制
御電圧源 とを含んでいる。

本考案のこの実施例においては、層Ｃｃは干渉フィルタ
ーの第２面を構成するため、制御作用の下で電解により
少くとも層ｃｂの一部上に形成される。

電解槽にトいては、電極の一つは透明で（層Ｃｂ）フィ
ルターの干渉層の機能を行い、後面の反射層は電解によ
って形成されるか除去され。

前面の半反射層は永久に残る。

層Ｃａは半反射性（半透明）でなければならないし最低
吸収能力をもたねばならない。

既述のように、透過率が確実に７０多と２０％との間で
変化するように５０乃至２５０Ａの範囲内の厚さをもつ
金属フィルムを簡単に使用することができる。

元素の周期表の４ａ、５ａ＞よび６ａから選ばれた金属
のホウ化物、窒化物、炭化物のような金属特性をもつ耐
火物質の層を使用することは、透明層Ｃｂの形成時に利
点をあたえるような成る程度の硬度と安定性をもつ層を
形成させる。

更にこれら耐火物質は数百オングストロームの厚さで使
用できるが、同じ透過率をもつ金属層は明らかにより薄
（、そのため一層繊細である。

以下あたえられた例から明らかになるように、採用され
る方法と材質は薄いフィルムが接着性をもち層ｃｂのそ
の後のデポジットに対し抵抗性をもつようなものである
。

層ｃｂは使用されるスペクトラム区域内で非吸収性で、
その全面上に均一の電解を行うため十分導電的なものが
選ばれる。

例としては、錫をドープしたインジウムの酸化物または
アンチモンをドープした酸化第２錫が使用されている。

この層の厚さは、二つの層ＣａとＣｃの存在下で反射上
有利な干渉最高度を示すように選ばれる。

視覚上の観察の場合は、前記最高度の波長は、前記最高
度が層Ｃｃが存在しない場合反射されたスペクトラムに
ついて感知される強度および色度の双方について、良好
なコントラストを確実に示すように可視スペクトラムの
窓内で選ばれる。

更に注意すべき重要な点は、透明層Ｃｂの導電性は、層
Ｃａの存在によって、それが金属性かまたは金属型のい
づれかで電気回路中に平行に置かれた時に増大されると
いう事実である。

この現象は低導電性をもつ物質で形成された層ｃｂの使
用を可能にしている。

同じ結果を得るためには、層Ｃａを導電性基体上に、少
くともその表面に形成することができる。

層Ｃｃの形成に適した物質は、層Ｃｂと化学的に反応し
ない、電解によって形成され再溶解されるすべての金属
および半反射化合物である。

層Ｃａ、および層Ｃｃと共に干渉フィルターを形成する
適当な層Ｃｂの存在は、非常に薄い層Ｃｃ（例えば１０
０Ａ以下の厚さをもつ金属フィルム）のみを使用できる
ようにする。

層Ｃｃは透明電極（層Ｃｂ）の特性に影響をあたえるこ
とな（、溶液中のこの金属のＭｎ＋イオンを含む電解質
からデポジットし再溶解される金属Ｍによって構成され
る。

層Ｃｃを形成するために使用される金属はＭ／Ｍｎ＋対
の酸化−還元電位が下記のものより高いものの方がよい
。

すなわち（イ）酸化物が金属の形成中に環元されないよ
うにするため普通酸化物から成る電極Ｅａの還元電位。

（→ 水素の寄生的発生を防ぐために水性電解質が用い
られるならばＨ＋イオンの還元電位。

層Ｃｃとして使用するため特に適した金属の１例は銀で
ある。

電極Ｅｂは層Ｃｃを形成するものと同じ金属の箔オたは
薄フィルムで構成されている。

この型の装置の利点は、電極ＥａとＥｂに起る電気化学
的反応に均衡が取れている事実である。

すなわち←フ 層ＣｃＯ形戒形成化）中電極Ｅａにおけ
る反応は、 Ｍ ｎ＋＋ ｎ ｅ −＋ Ｍ で、電極ｇｂにおける反応は Ｍ−Ｉ−Ｍ ｎ＋＋ ｎ ｅ であり、層Ｃｃの溶解中の電極Ｅａにおける反応は Ｍ −＋ Ｍ ｎ＋＋ ｎ ｅ で、電極Ｅｂにおける反応は Ｍｎ＋＋ ｎ ｅ −＋ Ｍ である。

電解槽の平衡電位は零である。

すなわち作用中型’Ｆｌｉ−ＥａとＥｂ間の電位差は、
専ら電気化学的反応の過電モと、電解質と導電体中の抵
抗の低下によるものである。

電解質が十分中さい深さの場合には、装置は約３００ミ
リボルトの電圧で作用を始めることができる。

槽の作用電圧は専ら電流密度に関連する、すなわち形成
の速度に関連がある。

電解質の選択により下記の２つの装置が決まる。

すなわち、（イ）液体電解質、すなわち層Ｃｃを構成す
る金属のイオンを単体または化合物の形態で含む水性渣
たは有機性溶液。

電解質中に溶解された他の物質は、電流密度と電圧の所
定条件の下で、電極Ｅａが負バイアスされた時に層Ｃｃ
が得られ（固化され）、電極Ｅａが正バイアスされた時
に前記層Ｃｃが再溶解されるようにして添加される。

形成物を改良するため肢体電解質中に例えばプライドナ
ーを添加することもできる。

（ロ）固体電解質、Ｍｎ＋イオン（および特にＡｇ＋イ
オン）により室温で非常に良好な導電性を示す固体電解
質を使用することは、全体的に固体の電気化学的表示装
置を製造できるようにする。

これら電解質は、例えば蒸着やスパッタリングのような
真空蒸着技術によって薄いフィルムに形成され、それに
よってそれらの内部抵抗を減少させ、簡単な製作技術を
利用できるようにする。

液体電解質の場合に既に述べたように、固体装置の長期
の有用な寿命を得たい場合は、層Ｃｃの金属は以下の不
等式を満足させるものがよい。

すなわち Ａ ＜Ｍ ／Ｍｎ＋ 前式中Ａは電極Ｅａを構成する物質の酸ｆヒ÷還元電位
でありｖＩ／Ｍｎ＋は金属Ｍの酸化−還元電位である。

銅、銀、パラジウムおよび一般的にすべての貴金属はこ
の不均等性を満足させる。

液体電解質は、商業的に入手可能な溶液を使用すること
によって、フィルムの形態におけるこれらの金属を形成
できるようにする。

固体電解質の使用を必要とする装置においては、使用さ
れる電解質は、すべて透明電極の特性に影響をあたえる
ことなく、スイッチング速度が十分な電流密度によって
形成と再溶解を得させるものである。

層Ｃｃが銀から成る場合は、使用される固体電解質は、
Ａｇ＋イオンによるイオン導電性が所望の電流密度を低
電匡により室温で得るのに十分なすべてのこれら電解質
にすることができる。

例を挙げると、これら物質は以下の通りである。

（イ）別々にまたは混合物として考えた銀ハロゲン化物
ＡｇＣｌ、Ａｇ Ｂｒ ｊ Ａｇ’ｌ ｔ（ロ）硫酸
銀ハロゲン化物Ａｇ ３ Ｓ １およびＡｇ５ＳＢｒ。

←→ ＲｂＡｇ４Ｉ５およびＫＡｇ ４ Ｉ ５のよう
な銀ハロゲン化物とアルカリ−・ロゲン化物、 に）式Ａｇｌ−４−ｘｌ？１１０１７ 中Ｘが約０．１
６に等しいものをもつＡｇ＋イオンでドープされた酸化
アルミニウム。

本考案の池の実施例によれば、本装置は電解質と層ｃｂ
間に形成され、表示区域、すなわち反射層Ｃｃが形成さ
れる区域を限定するようにした絶縁層を含む。

形成された絶縁層を形成する物質は、シリカ、アルミナ
釦よびシリコン窒化物のような無機絶縁物トよび樹脂、
ポリマー等のような有機絶縁物から選ばれる。

本考案の他の実施例によれば、電極Ｅｂは電極ａｂによ
って形成された像の反対に置かれた層ｃｂの部分上に層
Ｃｃを金属形成することにより、表示された像を構成す
るように切断される。

本考案によれば、電極ＥｂｔたはＥａへの電流供給は相
互に絶縁された電極ＥａｔたはＥｂの異る部分を異る電
位にもたらす役をする。

本考案の他の特徴と利点とは、添付図面を参照した説明
により何ら限定的意味をもたない構造の数例に関する以
下の記載から容易に明かになるであろう。

第１図の一般的な略図では、光源Ｓは光線２のような光
線を艶消し前面１５をもつガラス板り上に向ける。

反射層Ｃｃの存在する場合、２のような光線は層Ｃａの
出口に構造的干渉（強め合う干渉）を生ずるように６，
８，１０および１２のような通路に沿って数回反射され
る。

反対にｌ１ＪＣｃが存在しない場合は、２のような光線
から導かれる唯一の反射光線は光線１４である。

この例では、層ＣｃはＭの形状をもつ。

ガラス板りの崩１５は研磨されるか艶消しになっている
。

第２図は、小室１６内に含まれた液体電解質Ｅ用の設備
をした本考案の１実施例を示す。

乾電池１８（または他の適当な電圧源）によって作り出
された電位差は、層ｃｂによって構成された電極Ｅａと
金属材Ｅｂとの間に加えられる。

Ｃｃのような金属材を置くことが望昔しくない層ｃｂの
、すべての部分に絶縁層が形成される。

この型の絶縁層は２０に示しである。

２２に示した電圧逆転スイッチは電極ＥａとＥｂのそれ
ぞれの極を変える役目をする。

電極Ｅｂは、例えば銀から成る。電極Ｅａが負バイアス
される時、銀のフィルム層Ｃｃが層ｃｂ上に形成される
。

層Ｃｃの位置は導電層Ｃｂ＄−よび必要に応じ層Ｃａの
エツチングによって限定される。

溝２３のような溝がこのためこれら層内に設けられる。

前記溝の幅は、それらの溝が層内に永久的非同質性に導
き入れるので、できる限り見え難くするように狭くしな
ければならない。

第３図には、相互に絶縁され、参照数字２４゜２６．２
８−ｆｆｉたは３０によって示された電極Ｅａの所定部
分のみに電極を構成できるようにする２０′のような電
流供給リード線が示されている。

図面に示されていない装置と関連したこれら異る電極要
素の組合わせは、前記のような区域に電解質を形成し、
それによって所望のアラビヤ数字を示すことができるよ
うにしている。

第４図には、二つのガラス板りとＬ′との間に含普れた
液体電解質Ｅおよび後部板Ｌ′に形成された絶縁体３４
によって電解質Ｅから分離された電極Ｅｂをもつ本考案
の実施例が示されている。

層Ｃｃの形成は、絶縁物質で覆われていない電極Ｅｂの
部分に対向して置かれた層ｃｂの部分上の電極Ｅｂから
行われる。

第５図は、内部から見た電極Ｅｂへの電流の供給を示し
、前記電極は層ｃｂ上に層材Ｃｃを形成するために溶解
が望ましくない電極の部分上で絶縁体３４によって一部
覆われている。

第６図には、固体電解質Ｅおよび電解質Ｅから絶縁体３
４によって分離された電極Ｅｂのための設備をもつ本考
案の実施例が示されている。

層ＣｃＯ形成は、電極Ｅｂと反対に置かれた層ｃｂのこ
れら部分上の電極Ｅｂから行われる。

板りは非反射絶縁材３５で覆われている。

第１図は、層ｃｂ上に層材Ｃｃを形成するため溶解する
ことが望ましくない電極のこれら部分上で絶縁体３４に
よって一部覆われた電極Ｅｂへの電流供給を示す。

本考案を説明するため、以下その中の二つが液体電解質
で作用し、他の二つが固体電解質で作用する装置の四つ
の完全な例を記載する。

第１例 前面にエツチングを施した液体−電解質装置の例。

層Ｃａを艶消しガラス板り上に形成するために金フィル
ムが蒸着普たはスパッターリングによって形成される。

その装置は第２図に示した通りである。

金フィルムの透過率は波長約５１０ＯＡで５５％である
。

次いで金層Ｃａ上にｌ１００Ａの厚さをもつ層ｃｂを形
成するために反応性スパッターリングにより、錫でドー
プした酸化インジウムの層が加えられる。

酸化インジウムの屈折率は約２であるから、作用は第１
次干渉で行われる。

連続した背景に表示区域を限定し、これらを相互に電気
絶縁するため、エツチング後（化学的なエツチングある
いはイオンを用いたエツチング）、絶縁材が、電解質と
の接触から電流供給リード線を保護する。

絶縁物質は、選択的化学エツチング、芽たはイオンエツ
チング、４たは他の公知装置により、表示が生ずるこれ
ら場所から除かれる。

有機または無機の絶縁物質をこの目的のために使用でき
る。

こうして完成された前面は、所望の厚さをもつ電解槽の
前部壁を形成し、その後部面は電極Ｅｂを形成するよう
に例えば銀の層で覆われる。

槽は液体電解質を充たされ、これから銀材を得ることが
できる。

例えば取下の浴が使用される。溶媒：メチルアルコール 塩 ：硝酸銀 １０′？／７ チオシアン酸ナトリウム ４００ｆｔ７１電解質の深
さと電極Ｅａの導電性によるが、使用電圧は、平方セン
ナ当り５０ミリアムペアの電流の通過を許す程度である
。

少くとも１秒の１０分の１流されるこの電流は銀を５Ｏ
Ａデポジツトする。

この厚さは十分なコントラストを得るための最低の厚さ
であると思われる。

所要の電気の最低量は平方センチ当り５Ｘ１０−３クー
ロンである。

この場合薄い金フィルムからの反射に対応する薄い黄金
色の背景に対して暗青色表示区域が得られる。

第２例 前面にエツチングを施した固体−電解質装置の例。

第１例に述べた通り前面が準備されると、完成組立体は
真空蒸着によって固体電解質、すなわち臭化銀の層で覆
われる。

臭化銀は微細結晶状である。

その厚さは電極ＥａとＥｂ間のいかなる短絡をも防ぐだ
け十分（薮ミクロン）でなければならない。

次いで電極Ｅｂは蒸着され、これによって十分な厚さの
銀フィルムが生ずる。

表示に必要な銀の５ＯＡの厚さの形成は、第１例におけ
ると同量の電気量を必要とする。

第３例 後面にエツチングを施した液体−電解質装置の例。

この装置は第４図と５図に示しである。

前面はエツチングしない層ＣａとＣｂによって専ら構成
されている。

後面は例えば蒸着によって形成された銀リード線をもち
、渣た所望の表示の幾何に対応するように限定された形
状寸法をもっている。

次いで有機または無機絶縁物質の層が電解質と接触しな
い□ようにした電流供給区域を覆つリード線に加えられ
、絶縁層の形状寸法は何らかの公知装置で得られる。

銀のリード線は他の隣接リード線と明らかに関連させら
れる。

この例では、電解槽は表示されたパターンの限定が、液
体中を通る銀イオンの分散によって不当に影響されない
ようにするため薄（しなければならない。

所望の限定によって厚さ１０〜２０μをもつ槽が使用さ
れる。

第４例 後面にエツチングを施した固体−電解質装置の例。

第６図と７図に示したこの装置は固体電解質Ｅを利用す
る。

層ＣａとＣｂの形成後、前面は第２例に記載したような
、例えば臭化銀のような固体電解質の層で覆われている
。

次いで有機昔たは無機絶縁層が３４で固体電解質に加え
られる。

絶縁層の性質、形成の状態および形状寸法の限定の方法
は固体電解質を劣化させないように選ばれる。

最後に銀の層が第７図に示したように表示さるべきパタ
ーンに対応した幾何に従って加えられる。

前記の記載した本考案が、数字や文字に限定されること
な（、本考案による装置のすべての他の応用例にも及ぶ
ことは容易に明らかであって、その装置は電着を使用す
ることにより、干渉フィルターの特性を利用することに
よって１局部的または全面的に物質の反射性に変化をあ
たえることが可能である。

更に本考案は、透明な支持板りが層の積重ね組立体の後
ろに置かれるため１層Ｃａが前記組立体の外側に現われ
るような構造の形態を含む。

最後に、成る構造は後方から認めることができるもので
、その場合表示の出現が前部から見たものとは逆になる
もの１である。

また電解質Ｅ、電極Ｃｂ釦よびすべで絶縁コーティング
は確実に透明であればよく、電解質は普通透明である。

電極については電解作用を行うのに十分な透明グリッド
の形態でこれを作成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の原理を図示する略図。 第２図は液体電解槽を含む装置の構造略図。 第３図はアラビヤ数字を表示するための電極Ｅａへの電
流供給の一つの型を示す略図。 第４，５図は液体電解槽とその電流供給の図。 第６図は電極ｇｂが表示さるべきパターン上にのみ作用
する本考案の実施の一形態を示す図。 第７図は前部の電極Ｅｂへの電流供給の詳細図。 図面中、符号Ｓは光源、２は光線、６，８゜１０．１２
は通路、１４は光線、１５はガラス板面、１６は小室、
１８は乾電池、２０は絶縁層、２３は溝、Ｃａは層、ｃ
ｂは層、Ｃｃは反射層、Ｅａ、Ｅｂは電極、Ｌはガラス
板をそれぞれ示す。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 光源Ｓと、半反射性物質の均一層Ｃａと、屈折率ｎおよ
   び厚さｅをもち前記半反射性物質層上に形成されていて
   面に垂直に測った光学的厚さがｎＸｅ一定である透明か
   つ導電性の物質の均一層Ｃｂと、観察者が読むためのパ
   ターンを形成すべく前記透明かつ導電性物質層の一部の
   上に形成されしかも前記２層ＣａｊｓよびＣｂと共に干
   渉フィルターを威す反射層Ｉｃｅと、前記導電性物質層
   ｃｂに接触する電解質Ｅおよび前記導電性物質層ｃｂに
   接触する第１の電ｆｆＥａと、前記電解質に接触する第
   ２の金属電極Ｅｂと、前記導電性物質層Ｃｂの少なくと
   も一部に形成された前記反射層Ｃｃが前記第１の電極が
   成る方向にバイアスされたときに固化してパターンを形
   成し、前記第１の電極が逆方向にバイアスされたときに
   前記反射層が成る制御のもとに再溶解されることを確実
   とするため前記第１および第２の電極Ｅａ、Ｅｂ間に電
   位差を与える制御電圧源とを有する１発光表示装置。