JPS583241A - 半導体ペレツト向き判別方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 仁の発明は半導体装置製造工種で用いる半導体ペレット
向き判別方法に関するものである。

トランジスタ等の半導体装置の半導体ペレット（以下単
にペレットと称す）は、１枚の半導体ウェー−に格子状
に数百、数予測が一括形成されてから、個々に細分割さ
れる。また、半導体ウェー八から細分割され九ペレット
は１枚ずつ位置決めされて、ペレットマウント工程へ順
次に供給される。このペレットマウント工程へのペレッ
ト供給方法の一例を第１図で説明すると、口）はペレッ
ト、偉）は複数のペレットｆｌ）をＸ−Ｙ方向に所定の
間隔で配列して接着したシー）、１ｍ）はシート（りを
張設するリング、（４）はリング（３）を搭載するＸ−
Ｙテーブルである。前記シー　）　＋２１にはリング（
３）に固定される前に半導体ウーハが接着されているの
でシート張設により各ペレット毎に細分割され、その後
シート（！ｌをリング（３）上で放射状に引き伸ばして
各ペレット（１）を互いに離隔させてシート（幻をリン
グ（３）に張設固定している。そして、このリング＋１
１　ヲＸ　−Ｙテーブル１４）上に位置決め固定する仁
とにより、Ｘ−ｘテーブル（４）上に複数のペレッ）　
＋１）がＸ　−Ｙ方向Ｋ並び、且つ表面を上にして配置
される。また＋Ｉｌは定ボジシ１ンムで上下動してシー
ト（！）からペレット（１）を１個ずつ真空吸着して異
なる定ポジションＢに運ぶ第１コレツト、（６）はこの
定ボジシ冒ンＢに配置された中間ステージ、（７）は第
１コレツ）　ｔａｌｌで中間ステージ（６）上の中央部
に供給されたペレット（１）を四方から押圧して位置決
めする位置決め爪である。この中間ステージ（ｓ）での
ペレット位置決めはシート（り上のぺレット（１）に若
干の位置ズレがあるため、これを正確に修正する目的で
行われる。また（８）は定ポジションＢで上下動して中
間ステージ＋１１上で位置決めされたペレット（１）を
真空吸着して取出す第２″：Ｉレットで、第１コレツト
ＩＩＩと同期して動く。この＠８コレット（８）はペレ
ット（１）を吸着すると被ペレットマクント物ｔｉｌｌ
のらる定ポジシ胃ンＣに運び、ここでペレット（１）を
被ベレットマウント物１９１上に半田付けする。

上記ベレット供給方法はシート（り上に位置決めされた
ペレット（１）を取出すため、途中で大幅な位置修正す
る必要がなく、自動化に有利である。しかし、リングｔ
Ｓ）に張設されるシート（２）上のベレツ）　（１１の
数は数百から数十個Ｓ度で、この数百から数千個のペレ
ット（１）の取出しが完了すると、全装置の動きを停め
て、Ｘ−Ｙテーブル１４）からリングｔＳ）を外して新
しいものと交換すゐ必要がある。つまり、１つのリング
＋ｍｌ　Ｋよるペレット供給数が数百から数千個と少な
く、リング交換を頻繁に行う必要がある。また、このリ
ング交換はリング（３）をペレット（１）の配列方向が
Ｘ−Ｙ方向に揃うようにＸ−Ｙテーブル（４）上に位置
決めして行う必要があって、作業性が悪い０ そヒで、上記問題の解決策として、最近は第２図に示す
ようなパーツフィーダ四を用い九ベレット供給方法が多
く採用される傾向にある。

即チ、パーツフィーダ＋１４にベレット口）を任意に多
数個供給しておいて、パーツフィーダーのシュ−）　＋
ＩＩＪヘペレツ）　＋１１を１個ずつ順次に取出す、こ
の場合、ペレット（１）は一般に正方形であるので、対
向する二辺をガイドすることによｐペレツ）　＋１１は
直角方向に位置決めされてシュー）　ＣＩｌ＋の先端部
に供給される。またペレット（川はパーツフィーダＩＩ
（１内にランダムな姿勢で供給されているため、シュー
ト（川の先端部にあるペレットｉｌ＋の表面と裏面は上
下が定まらない。そこで、このペレットｆｉ＋をシュー
ト先端部の定ポジションＰ１かう次の各ポジションＰｇ
％Ｐａ、Ｐａ、Ｐｓ、Ｐａに各ポジション間Ｐ１とＰｗ
、ＰｓとＰ４、？４．！：　Ｐａ、ＦｉトＰａ＆動＜各
コレラ）ｆｏ＋）、　＋Ｊ１、α４１％　（！＠、Ｈで
順次に送シ込んで、上下及び向きの修正を行う。

即ち、ポジションＰｇには位置決めステージＱηとその
上方Ｋ　ＩＴ’Ｖカメッ（１１が配置され、第１コレツ
ト１埠がポジションＰ１からペレット（１）を吸着して
位置決めステージ自力上に供給す石と、このステージ上
の位置決め爪（Ｉ呻が動いてペレット（１）の位置決め
する。するとｘｒｖカメラ９＋１が位置決めされ九ペレ
ット（１）の上面を撮像して、その上面の光量によって
上面がペレッ）　＋１１の表面か裏面かを判別する。つ
まり、通常のペレット（１）は裏面がムＵ蒸着などされ
ているため入射光が乱反射し易い粗面となって暗く、表
面はアルギニラム蒸着膜などの電極パターンが形成され
てぃゐため比較的明るく、従ってＸＴ’ｌカメラ霞で撮
像することによりベレッ）　＋１１の表裏面は簡単に判
別される。この判別が完了すると、ポジションＰＩＩの
ベレッ）　＋１１を上下はそのｉまＫして、第３コレツ
トＱ１で取出して、次のポジションＰｓにある反転板−
上に供給する。仁の反転板−は半円柱状の２枚の板（ε
６ａ）（ＩＯｂ）を合わせたもので、平担間が上に向く
一方の反転板（１０りの平担面上に１例えば表面が上に
向い九ベレット（１）が供給されると、各反転板（ｌｏ
ａＸｉｌｏｂＭ第！図に示す状態のまま保持される。を
九反転板（ＳＯａ）の平担面上に裏面が上に向いたベレ
ッ）　１１＋が供給されると、他の反転板（ｓｏｂ）が
前進してペレット（１）を反転板（ｓｏｎ）と共にナン
ドイツチ式に挾んで、その１１両反転板（ｍｏｓＬ）（
ｇｏｂ）が１８α、。

反転して上下が逆になり、そして上になった反転板（ｇ
ｏａ）が後退する。すると下になり九反転板（ｓｏｂ）
上に表面が１忙なったペレット（１）が残る。

このようにポジションＰ３でペレツシ（１）は必ず表面
が上に壜り、そしてこのペレット（１）は諮８コレット
０４で次のポジションＰ４の合置決めステージ位η上に
供給されて、位置決め爪四で再度位置決めされる。その
後、第４ゴレツト拳呻でペレツ）　（１）は次のポジシ
璽ンＰＩＫ配置され大方肉判定ステージ（２）上の中央
部に供給される。この方向判定ステージ彌上方定位［Ｋ
Ｒペレット（１）看視用の工Ｔｖカメラ−が配置され、
これで屯って方向判定ステージ−上のベレット（りの上
回、即ち表面を操儂してψ面電極パターンの認識や、特
別を狭面のイータ検出などを行ってベレット（１）の同
角を判定する。例えハ、叛ベレットτウント物ｔｌｌｔ
ｃ−ＩＰウントすゐ時のベレット（１）の表−電極パタ
ーンが第３図←）の状態だとし、これに対して被ベレッ
トマウント物（９）に供給するベレット＋１１の向きが
第畠−＆）Ｋ示すように９０’ずれていると、ヒ）の状
態のベレット（１）を９０’回転させて供給する必要が
ちる。そζで、上記ＸＴＶカメラ−でベレット（！）の
表面を撮偉して向像処理を行い、方向利足ステージー上
でのベレット（１）の向暑を判別する。このように同き
が判別されたベレット（ｌは第６ゴレツト拳轡でポジシ
ラン！６に回転自在に配置され大回転テーブルー上に供
給される＠ヒの回転テーブル−はＩＴＶカメラ（財）の
１ｉｋＩ倫処３Ｍ回路からの信号で９０’Ｔｈ１８００
０角度を適宜回転して、供給され九ペレット（１）の向
きをベレットマウント時の内角に修正する。そして、回
転テーブル−上のベレット（１）はペレットマウント用
ツレット彌で取出されて被ベレットマウント物園にマウ
ントされる。

ヒのような各ポジシランＰ１、Ｐａ−１１〒での各作業
社同期して同時に行われ、従ってパーツフィーダーにベ
レット（１）を適当に補充する仁とによって数千、数万
個のベレット（１）の連続マウントが可能となる。また
上記ベレット供給過程において、ポジシランＩ’ｓでの
ベレット表裏面判別は比較的容易で問題ないが、ポジシ
ｇｙｖｅでのベレット向き判別に次の１１）及び（１）
の問題があった。

（亘）、ベレット（１）の同角をベレット（１）の表面
電極（１１のパターンｇｍで行う場合、この表面電極；
１１のパターンが単純で、且つ片寄つ九ものであれば比
較的容易で間違いが少ないが、仁の種の表面電極４１ｒ
のパターンは複ｍｅものが多く、また左右対称に近いも
のも多い。そのため、工τＶカメツーは高感度の−のが
必要でＴｏシ、而−画像処理回路も高価で複雑なものが
必要である。

重大、ベレット（１１０品種が変更されると、その変更
に応じて画侭熟理系のプログツムを変更させたにする手
間を要し、且つペレツ）　（１）の品種毎に異なるソフ
トウェアを開発しておく必要が゛　ある。

本発明はかかるペレット向き判別上の問題点に鑑み、こ
れを鍔決したもので、ベレットの結晶上の特性を利用し
た内角判別方法を提供する。以下本発明の方法を圃面を
参照して説明する本発明の説明の前に上記ベレット（１
）の形状を考える。仁のベレット川はシリコン単結晶で
ある半導体ウェーハを細分割することにより得られるが
、との細分割を容易且つ正確にするため、ベレツｌｌａ
半導体ウェーへの結晶軸方向に沿って格子状に形成され
る。そして、半導体ウェーハをゴＪｉｔ２−ラ畔でブレ
ーキングして細分割すると、ベレット１１）は第４図及
び第す図に示すように−の側面社上向角のへき開面（ｍ
ｌ）となり、これに対向する側面は下向きのへ負開面（
ｍりとなり、残りの二辺の側面は鵬直面（ｍｓ）（ｍ４
）とカる性質がある。

そこで、本発明は例えば第６図及び第１図に示すような
方向判別ステージ鰭の上面中央部に設は九凹部−に表面
が上に向いたベレット（１）を直角方向に位置決めして
供給する。ｔた方向判別ステージ鰭の上方定位置に工Ｔ
Ｖカメラ四を配置する。そして、本発明の場合行方向判
別ステージ−の凹部−の四辺の内面に＄に長尺なスリッ
ト−を開口して、このスリット−からベレット（りの四
辺の側面に向けて光を照射すゐ。この光の照射はベレッ
ト＠面に対し真槽邊、°；“若干俯角気味に行う。

尚、第６図の１３１１は方向判別ステージ（財）の中空
な内部に設置した１つの光源、−及び（至）は光源＠荀
かもの光を反射してスリット−から外部に導出する反射
鏡、（財）は凹部（至）の底面に設けた真空吸着孔で、
ベレット口）を適宜真空吸着する。

このように、ペレット（１）の横から光を照射し、ペレ
ットｉｌ＋の上方のＩＴＶカメヲ四でペレット（１）の
上面（表面）を撮偉すると、得られる画像紘第８図に示
すようになる。つオリ、ペレット（１）の上向きのへ！
！開面（−）Ｋ当った光は乱反射して一部は上方に向っ
て工τＶカメラ四に入り、ヒのへ角開面（鳳りに相当す
る画像（ｎｌ）は明るく写る。を九下向きのへき開面（
ｍりに肖る光は下向きに反射して上に向う光がほとんど
かく、とのへ鳶−面（ＩＩ＝）に相当する画像（ｈりは
暗い。ま九残シの各垂直ＩＮ（ＩＩす（ｍ４）に壱つ走
光は極く一部の光だけが上に向うので、各垂直面（−Ｘ
−）に相当する画＠（ｎｌ）（ｎ４は先の画像（”−）
より十分に暗く、画像（ｎりより少く明悉い。そして、
これら各画像（ｎｌ）（ｎｏ（ｎｏ（ｎ４）は画像処理
面の４つのエリアＩ、ｎ、鳳、夏のいずれかに入る。従
って、この舎エリアＩ、ＩＩ、Ｉ、Ｗでの光量を別々に
電気信号で検出して、基準電圧と比較すれば、最も明る
い＠ｅ（ｎｌ）がどのエリアＩ、ｕ、Ｉ、ＷＫ６石かが
簡単に検出され、これによってペレツ）　ｉｌ＋の方向
が９００の角度単位で検知される。

尚、ペレット（１）の四辺からの反射光０検出祉ＩＴＶ
カメヲ（ロ）以外の光学系で行うことも可能である０ 以上説明したように、本発明はペレッ）　ＩＩＩ　ｍの
へ角開面の反射光を利用するため、ペレット表面の電極
パターン認識やマーク検出などの方法に比べて画像処理
が大幅に簡略化され、内角判別回路が安価になる。ｔた
、ペレットの品種に変更があっても、同じ回路構成のも
のがそのまま使用で角るから、従来のようなペレット蒙
更に伴うプログ２ム変更といった煩わしさが皆無トナυ
、ペレットマウント等のシステムの改善が図れる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は従来の半導体ペレットマウント工程
の各側を説明する概略斜視図、第８図（イ）及び←）は
半導体ベレットのマウント前後を示す平面図、第４図及
び第６図は半導体ペレットの平面図及び正面図、第６１
及び第１図は本発明の方法を実施する＠電の一例を示す
清新面図及びＸ　−Ｘ　ＩＩ［Ｋ　ｒａう平面図、第８
図は第６図の半導体ベレットの画像図である。 （１）・・・半導体ペレツ）、　　（１１１１）（ＩＩ
す・・・側面（へ舞開面）、　（Ｅｌ−Ｘｌ１４）・・
・側面（垂直面）。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）、位置決めされ九半導体ベレットの各側面に光を
   照射して、各側面の反射光量を比較して、半導体ベレッ
   トの向きを検知する仁とを特徴とする半導体ペレット向
   き判別方法。