JPS5833014B2 - 触媒組成物 - Google Patents

触媒組成物

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JPS5833014B2
JPS5833014B2 JP56215726A JP21572681A JPS5833014B2 JP S5833014 B2 JPS5833014 B2 JP S5833014B2 JP 56215726 A JP56215726 A JP 56215726A JP 21572681 A JP21572681 A JP 21572681A JP S5833014 B2 JPS5833014 B2 JP S5833014B2
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JP
Japan
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catalyst
nox
oxides
gas
ammonia
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JP56215726A
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JPS57184437A (en
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克彦 荻野
逸生 古尾谷
厚夫 小林
博 西野
一男 浅田
紀夫 相部
公也 藤波
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガス中に含まれる有害成分、特に窒素酸化物(
以下NOxと略すことがある。
)を効果的に除去する触媒組成物に関するものであり、
さらに詳しくは、酸素、硫黄化合物、および/または水
分の存在下においても長時間にわたって効果的にNOx
を還元除去しうる触媒組成物に関するものである。
NOxはボイラー、硝酸プラント、金属加熱炉、石油精
製工場などの廃ガス中や、各種内燃機関の排気ガス中に
含まれており、それ自体、人体に有害であるばかりでは
なく、光化学スモッグの原因物質の一つとされ、その排
出が最近大きな会社問題となっている。
したがってこれらのガス中のNOxを除去することは、
大気汚染防止上きわめて重要であり、その除去技術の開
発は急務となっている。
NOxとしては、N20 、NO,N2O3,NO2゜
N2O4およびN2O5などが知られているが、大気中
に安定に存在しうるのはNOおよびNO2であり、NO
x排出防止に関してもNOとNO2が主な対象とされて
いる。
従来ガス中のNOx除去方法としては、吸収法(湿式お
よび乾式)、吸着法、分解法、および還元法などが知ら
れている。
湿式吸収法は水またはアルカリ水溶液などを用いてNO
xを吸収除去しようとするものであるが、除去効率が低
く、用いた水や水溶液の後処理を十分に行なわないと有
用成分の損失をともなうのみならず、排水による二次公
害をもたらすおそれがある。
乾式吸収法は固体アルカリ性物質などの吸収剤を、吸着
法はシリカゲル、活性炭などの吸着剤をそれぞれ用いて
NOxを除去しようとするものであるが、ガス中に含ま
れている水分によって吸収または吸着が大きな影響を受
け、また吸収剤や吸着剤の再生が容易でないなど工業的
には不利な面がある。
分解法はNOxをその構成4分である窒素と酸素にまで
分解しようとするもので公害対策としては好ましい方法
といえるが、現在のところ触媒を用いてもかなりの高温
と長い接触時間を必要とし、特に大量のガスを処理する
ことは困難である。
還元法は、アンモニア、−酸化炭素、水素、炭化水素類
などの還元剤を用いてNOxを還元して窒素にする方法
である。
特に還元剤としてアンモニアを用いる方法は、反応が比
較的低温で進行するうえに、アンモニアが排ガス中の酸
素と反応しないため還元剤の消費量も少なく、排ガス処
理コストが安価ですむという利点を持っている。
アンモニアを還元剤として用いたNOxの接触還元触媒
としては白金族金属化合物(特公昭38−12308号
、特公昭40−18205号など)鉄族金属化合物(特
公昭37−1701号など)、バナジウム、モリブデン
、タングステンの酸化物(USP 3,279,88
4号など)などが提案されている。
しかしこれらの触媒は処理ガス中に硫黄化合物(亜硫酸
ガスなど)および/または水分が存在すると、NOxの
還元活性が短時間のうちに低下してしまうため、硫黄化
合物および/または水分の存在しないガスに対してのみ
しか使用しえないという欠点をもっている。
通常の燃焼廃ガスの場合にはかならず10容量%前後の
水分と、燃料にもよるが、o、oi〜0.3容量%程度
の主として酸化物よりなる硫黄化合物を含んでいること
が多い。
したがってこれらの硫黄化合物および/または水分の共
存下においても長時間にわたり高活性を維持しうるNO
xの還元触媒の開発が待望されていた。
我々はこの目的にかなう触媒について鋭意探索を続けた
結果、数容量%の酸素、0.1容量%以上の硫黄化合物
および10容量%以上の水分を含むガスに対しても、そ
のなかのNOxをほぼ完全にかつ長時間にわたって還元
除去しうるきわめて実用的な触媒の開発に成功し本発明
を完成するに至った。
すなわち、本発明は第1成分として、(a)スズおよび
チタンの酸化物、第2成分として(b)モリブデンの酸
化物および第3成分として(c)ホウ素およびタンタル
の酸化物の1種を含んでなるガス中の窒素酸化物をアン
モニアの存在下に還元するための触媒組成物に関する。
ここでいう酸化物には、それぞれスズ、チタン、モリブ
デン、ホウ素、タンタルなどの酸化物の単なる混合物、
およびそれぞれの酸化物が均密に混合され、部分的にあ
る種の固溶体を形成しているような混合酸化物が含まれ
る。
本発明の触媒組成物において、第1成分のスズ酸化物に
対するチタン酸化物重量組成比は、好ましくは1:0.
001−1000であり、第1成分に対する第2成分の
重量組成比は、好ましくは1:0.001−50、特に
好ましくは1:0.005−5.00であり、第1成分
に対する第3成分の重量組成比は、好ましくは、0.0
001−201特に好ましくは0.001−1.00で
ある。
NOx還元触媒の触媒作用や、硫黄化合物および/また
は水分の存在下での被毒機構については未だ十分に解明
されていないが、本願触媒の各組成の酸化物単独では、
それらが透体上に担持される、されないにかかわらず、
初期活性が低いか又は活性低下が著しいのに比較して、
本発明の触媒組成物のかたちにすると著しく活性が上昇
し、かつ長時間にわたって高活性を維持できる。
このことは実に驚ろくべきことである。
しかも硫黄化合物、水分、酸素、還元剤などが共存して
いる雰囲気下では、その組成の一部では酸化状態の変化
や、亜硫酸塩、硫酸塩など異種の化合物への変化が起る
可能性があるにもかかわらず、高い触媒活性を維持しう
るのは本発明による触媒組成物が非常にすぐれたもので
あることを示している。
本発明の触媒の製法に関しては、触媒を構成する各酸化
物が相互に十分均密に混和されるような方法でありさえ
すれば、そめ出発原料および調製方法はどのようなもの
でもよい。
たとえば、原料としては触媒を構成する元素を単独また
は二種以上含む各種化合物を用いることができ、その原
料に見合った公知の各種の方法で調製することができる
原料として、スズの化合物としては、たとえば酸化物(
SnO,5n02など)、ハロゲン化物(SnC12,
5nC14、SnBr4など)、硫酸塩(SnS04な
ど)、硫化物(SnSなど)などが、チタンの化合物と
しては、たとえば、酸化物(たとえばTtO2、Tt2
03 、TtOなど)、ハロゲン化物(たとえばT I
Cl 3 、 T t C14など)、硫酸塩(たと
えばTi(SO4)2 、Ti(SO4)a 。
Ti08O,など)などが用いられ、 またモリブデン
の化合物としては、たとえば酸化物(たとえばMoO3
9M002など)、モリブデン酸およびその塩(たとえ
ばH2MoO4,H2MoO4・H2O。
(NH4)6MO7024、(NH4)2Mo04など
)、ノ)ロゲン化物(たとえばMOC15、MoC14
など)などが用いられる。
ホウ素を加える場合にはオルトホウ酸、メタホウ酸、メ
タホウ酸アンモニウムなどが、タンタルを加える場合に
は、酸化物(Tap5など)、ハロゲン化物(TaC1
,)などが原料として用いられる。
また触媒の調製は公知の各種の方法で行うことができる
たとえば、モリブデン酸アンモニウムおよびホウ酸また
は五塩化タンタルをシュウ酸水溶液に混じ、これに酸化
第二スズ粉末および酸化チタン粉末を加えたのち、水を
蒸発させて泥状物とし、これを押し出し成型する方法は
このましい調製法の一つであるが、この他当業者によっ
てよく知られている酸化物混合法、共沈法、含浸法など
の手段によっても調製することができる。
すなわち、出発原料や調製法が異っていても最終的に、
すでに述べた酸化物として得られる限り、触媒の性能に
はほとんど差がなく、また出発物質あるいは調製方法に
よっては、得られる触媒中に不純物程度の金属塩などを
含むこともありうるが、不純物量程度の異物質の存在は
触媒能には大きな影響を与えない。
本発明の触媒組成物は、酸化物のかたちのままでも、あ
るいは担体上に担持して使用してもよい。
担体としてはたとえばアルミナ、シリカ、シリコン−カ
ーバイド、ケイソウ土、カオリン、ベントナイト、シリ
カ−アルミナ、酸化ジルコニウム、軽石、活性炭などを
用いることができる。
触媒は通常加熱下、空気などの酸化性雰囲気下および/
または水素、水蒸気、炭化水素などの還元性雰囲気下で
たとえば300’ −800°C230分−10時間焼
成して使用することができる。
本発明による触媒組成物を用いてNOxを還元除去する
に際して、還元剤としてはアンモニアを用いる。
添加すべきアンモニア量は、たとえば次式 %式% による化学量論的な量の1ないし3倍であることが望ま
しい。
アンモニア量が少なすぎるとNOxの除去率が低下し、
逆にあまりにも多すぎると未反応のアンモニアが系外へ
出るおそれがある。
本触媒組成物を用い、アンモニアによるNOx還元除去
する場合は、固定床式、移動床式、流動層式など各種の
形式の反応器を使用して行なうことができ、反応器へ流
す処理ガス量は空間速度として500〜100,0OO
hr ’が可能であるが、反応器の規模およびNOx
除去率の面から、1000〜50,000hr−1が望
ましい。
反応圧力は減圧、常圧および加圧下のいかなる条件でも
よいが、運転費用の面から常圧もしくはわずかな加圧ま
たは減圧下に反応を行なわせるのがよい。
反応温度は100〜500°Cが可能であるが、低温に
すると各種アンモニウム塩などの析出による触媒活性の
低下現象がおこる可能性があり、高温にするのは熱経済
上好ましくないのでNOx除去率を希望の値にしうる1
50〜400°Cの範囲で反応をおこなわせることが好
ましい。
以下に本発明の詳細な説明するためにいくつかの実施例
をあげるが、これらは本発明の精神を明らかにするもの
であって、実施例によって本発明が限定されるべきもの
ではない。
実施例 1 モリブデン酸アンモニウム14.3S’にホウ酸o、s
oyを加え、これにシュウ酸2.51と水を加えて混合
溶液100−を作った。
混合溶液に酸化第二スズLOPと酸化チタンIOPを加
え、湯浴上で水分を蒸発させて泥状物とし、これを押出
し成型により2朋φ:x:5mmとした。
得られたものを100〜110℃で乾燥した後、空気雰
囲気下で500℃、3時間焼成した。
得られた触媒を触媒Mと呼ぶ。
実施例 2 ホウ酸に代えて、五塩化タンタル2.86Pを用い、ま
た混合液調製において水の代りにエチルアルコールを用
いる以外は実施例1と全く同様にして触媒を調製した。
得られた触媒を触媒Pと呼ぶ。比較例 1 酸化第二スズ粉末に水を加えて均一な泥状物とし、これ
を押出し成型により2朋φX511の形状とした。
得られたものを110℃で乾燥した後、空気雰囲気下5
00’C,3時間焼成した。
得られた触媒を触媒Wと呼ぶ。
比較例 2 酸化第二スズと酸化チタンの等重量混合物を原料として
比較例1と全く同様にして触媒を調製した。
得られた触媒を触媒Xと呼ぶ。比較例 3 メタバナジン酸アンモニウム2.40Pにシュウ酸2.
52と水とを加えて混合溶液1001rLlを作り、こ
れに10〜20メツシユに粒度を揃えたシリコーンカー
バイド20Pを加えて浸漬させ、湯浴上で蒸発乾固した
得られた粒状物を空気雰囲気下で500°G、4時間焼
成した。
この触媒を触媒Yと呼ぶ。
比較例 4 さらにモリブデン酸アンモニウム1.07fを加えたこ
と以外は比較例3と全く同様にして触媒を調製した。
得られた触媒を触媒Zと呼ぶ。実験例 1 実施例1,2および比較例1〜4で得られた触媒を用い
て、第1表に記した条件下でアンモニアによるNOx還
元性能の試験を行った。
反応開始直後、48時間後、および120時間後におけ
るNO除去率を調べた結果を第2表に示した。
第2表から硫黄化合物、水分および酸素の共存下におけ
るアンモニアによるNOx還元能について、個個の酸化
物では活性が低くとも、本発明の触媒組成物は活性およ
び耐被毒性が著しく向上している。
第1表 触媒試験条件 反応器入口ガス組成(%はいずれも容量%)二NO0,
03% SO20,05% O25,0% H2O10,0% N2残 反応器入口へのアンモニア添加量: 入口ガスの0.03容量% 反応器 パイレックスガラス製:固定層式反応器ガス空
間速度: 10,000 hr−1反応圧カニ常圧 反応温度: 220.280°C NO濃度測定:ザルツマン法(JIS K−0104に
準する。
)NO除去率 入口ガス中のNO(%)−出口ガス中のNO(%)入口
ガス中のNO(%)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1(a)スズおよびチタンの酸化物、(b)モリブデン
    の酸化物および(c)ホウ素およびタンタルの酸化物の
    1種を含んでなるガス中の窒素酸化物をアンモニアの存
    在下に還元するための触媒組成物。
JP56215726A 1981-12-28 1981-12-28 触媒組成物 Expired JPS5833014B2 (ja)

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JP56215726A JPS5833014B2 (ja) 1981-12-28 1981-12-28 触媒組成物

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JPS57184437A JPS57184437A (en) 1982-11-13
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6363453A (ja) * 1986-09-04 1988-03-19 株式会社 吉田製作所 歯科用治療装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6363453A (ja) * 1986-09-04 1988-03-19 株式会社 吉田製作所 歯科用治療装置

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