JPS5833294B2 - 回転式熱処理装置のガス供給装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は環状の回転式熱処理装置における雰囲気ガス供
給装置に関する。

近時、省エネルギー、省力化を図るため、従来から行な
われて来たバッチ式熱処理方法が、連続式熱処理方法に
代りつつあるが同時に雰囲気ガスの制御を必要とする高
級鋼の熱処理装置では雰囲気ガスの供給方法にも種々の
工夫が要求されている。

とくに方向性電磁鋼板の高温仕上焼鈍は、二次再結晶の
発現、被膜の生成、及び鋼中不純物の除去、等、多目的
熱処理であり、その各処理過程に最適な雰囲気ガスを供
給する必要がある。

また一般的に、これらの雰囲気ガスの組成、露点等は、
その目的により異るのが常であるから、外気もしくは雰
囲気ガス同志が混じり合うことなく、各雰囲気ガスの性
状を維持する必要がある。

しかして、従来の雰囲気ガスの供給においては、一種類
のみを供給するものであって、前記熱処理の各行程にお
ける目的を達成することが困難であった。

本発明はこの要望を充足する装置を提供するものであっ
て下記の通りである。

本発明は、回転式熱処理装置に、複数のガス体を供給す
るために、固定体と回転体間に、複数対のシールリング
で密封されたガス室を構成し、且つ相隣接するシールリ
ング背向間に、外気に通じる通気孔を有する緩衝用空隙
を設けたことを特徴とする回転式熱処理装置のガス供給
装置である。

以下に本発明の詳細を実施例に基いて説明する。

第１図は、本発明によるガス供給装置Ａを使用して、複
数の雰囲気ガスを単独又は同時に供給しながら熱処理を
行なう環状の回転式熱処理炉を示す。

インナカバーＢで覆われた被熱処理材Ｃを載置した回転
台車りを移動させながら、同じく環状に設けた熱処理炉
Ｅの予熱、加熱、均熱及び冷却帯を経てその熱処理過程
を終えるが、その熱処理過程に必要な雰囲気ガスは、中
央部に設けたガス供給装置Ａから各帯に最適の雰囲気ガ
スを連続的に選択供給するものである。

第２図は従来の回転式ガス供給装置を多重式に模したも
のを縦断面図で示したものである。

２種のガスａ、ｂの各のＬ型環孔ｌａ、ｉｂを設けた固
定体１にガスａ、ｂを貯留する為の凹部２ａ。

２ｂを有する回転体２，２′を夫れ夫れベアリング３，
３′を介して嵌合させ回転可能な状態に組合せる。

また、固定体１と回転体２，２′との隙間は夫れ夫れシ
ールリング４で外気と遮断し、２つの密閉ガス室２ａ、
２ｂを構成する。

かくして２種のガス体ａ、ｂは、回転体２．２′の回転
・停止にかかわらず夫れ夫れのガスのＬ型環孔１ａ、ｌ
ｂからガス室２ａ 、２ｂおよび接続管５ａ、５ａ’、
５ｂ、５ｂ’を経て、放射状に、図示しない回転式熱処
理炉の各ベースへ供給される。

しかしこの場合、２種のガスａ、ｂはその差圧に基き、
シールリング部から相互に漏洩混合したり、外気の浸入
によりガスの性状純度が維持されないなどの欠点があっ
た。

第３図は、第２図に示した従来型のガス供給装置に漏洩
ガスの緩衝用空隙を付加したものである。

ガス溜２ａ 、２ｂに滞溜したガス体ａ、ｂが万一シー
ルリング４から漏洩しても緩衝用空隙６から通気孔７を
経て大気中へ放出される為に２種のガス体ａ、ｂが混合
することなく夫々のガス体の純度が維持される。

第４図は第３図に示した緩衝用空隙に強制通気機構を付
加したもので、２種のガス体ａ、ｂのうち１方もしくは
両方が、爆発性ガス（例えばＮ２ガス）、又は有害ガス
（例えばＣＯガス）、あるいは２種のガスａ、ｂの純度
をより高度に維持したい場合には、ａ ｙ ｂ ２種の
ガス相互もしくは外気の侵入を防止するために、緩衝用
空隙６に、固定体１に設けたＬ型環孔１ｃから不活性ガ
スＣ（例えばＮ２ガス）を流通洗浄させる方法を示す。

また、緩衝用空隙６の圧力を検出し、これと洗浄用不活
性ガスＣ供給系に設置した電動弁（図示せず）を連動さ
せ、緩衝用空隙６の内圧が一定値に達すると自動的に洗
浄用ガスＣを緩衝用空隙６内に流入せしめ、緩衝用空隙
６内に滞溜した漏洩ガスを放出させる。

かくして回転式熱処理装置に任意の高純度雰囲気ガスを
、任意に供給することが可能になった。

以上の説明は２種の異なるガス体ａ、ｂの例であるが３
種類あるいはそれ以上のガス体を同時に供給する場合も
これに準じて容易に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明になるガス供給装置を用いた回転式熱処
理炉の実施例を模式的に示す説明図。 第２図は従来の回転式ガス供給装置を多重式に模した縦
断面図。 第３図は本発明緩衝用空隙を備えたガス供給装置の説明
図。 第４図は本発明緩衝用空隙に強制通気機構を付加したガ
ス供給装置の説明図。 １・・・・・・固定体、２・・・・・・回転体、３・・
・・・・ベアリング、４・・・・・・シールリング、５
・・・・・・導管、６・・・・・・緩衝用空隙、７・・
・・・・通気孔。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 回転式熱処理装置に、複数のガス体を供給するため
   に、固定体と回転体間に、複数対のシールリングで密封
   されたガス室を構成し、且つ相隣接するシールリング背
   向間に、外気に通じる通気孔を有する緩衝用空隙を設け
   たことを特徴とする回転式熱処理装置のガス供給装置。 ２ 回転式熱処理装置に、複数のガス体を供給するため
   に、固定体と回転体間に、複数対のシールリングで密封
   されたガス室を構成し、且つ相隣接するシールリング背
   向間に、漏洩ガス体の緩衝用空隙を設け、更にその空隙
   に洗浄（パージ）用ガス体を流通させることを特徴とす
   る回転式熱処理装置のガス供給装置。 ３ 特許請求の範囲第２項に於て、漏洩ガス体の緩衝用
   空隙内の圧力を検出し、該圧力と洗浄（パージ）用ガス
   体の流通とを連動せしめたことを特徴とする回転式熱処
   理装置のガス供給装置。