JPS5835925B2 - 過酸化水素附加化合物 - Google Patents
過酸化水素附加化合物Info
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- JPS5835925B2 JPS5835925B2 JP5443978A JP5443978A JPS5835925B2 JP S5835925 B2 JPS5835925 B2 JP S5835925B2 JP 5443978 A JP5443978 A JP 5443978A JP 5443978 A JP5443978 A JP 5443978A JP S5835925 B2 JPS5835925 B2 JP S5835925B2
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Landscapes
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- Detergent Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は硫酸カリウム、硫酸水素カリウム、過酸化水素
からなる新規な過酸化水素附加化合物に関するものであ
る。
からなる新規な過酸化水素附加化合物に関するものであ
る。
これまでに、無機化合物に過酸化水素の附加した化合物
は、多数知られているが、実際に利用されているものは
、その性質、製造の難易さなどから数種類にすぎない。
は、多数知られているが、実際に利用されているものは
、その性質、製造の難易さなどから数種類にすぎない。
過酸化水素附加化合物の利用を制約する大きな要因は、
附加した過酸化水素の安定性および母体となる蕪機化合
物自身の示す性質である。
附加した過酸化水素の安定性および母体となる蕪機化合
物自身の示す性質である。
現在、利用されている過酸化水素附加化合物の多くは、
その水溶液が高いアルカリ性を示すことから、固型過酸
化水素の用途は制約されている。
その水溶液が高いアルカリ性を示すことから、固型過酸
化水素の用途は制約されている。
固型過酸化水素の利用を広範囲なものとするためには、
安定でしかも特性の異なる新しい附加化合物を求める必
要があり、それ自身が酸性を示す附加化合物もその一つ
である。
安定でしかも特性の異なる新しい附加化合物を求める必
要があり、それ自身が酸性を示す附加化合物もその一つ
である。
本発明者等はこのような観点に立ち、研究を重ねた結果
、簡単な方法によって安定な過酸化水素を含有する新規
な過酸化水素附加化合物を見出し本発明を完成した。
、簡単な方法によって安定な過酸化水素を含有する新規
な過酸化水素附加化合物を見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は過酸化水素（Ｈ２０２）、硫酸カリウム
（Ｋ２８０４ ）、および（Ｈ２ＳＯ４）あるいは硫酸
水素カリウム（ＫＨＳＯ３）を含む溶液より得られる、
Ｋ４ ）Ｔ２ （８０４）３・Ｈ２Ｏ２なる組成を有す
る新規な過酸化水素附加化合物（以下本物質と称す）に
関するものである。
（Ｋ２８０４ ）、および（Ｈ２ＳＯ４）あるいは硫酸
水素カリウム（ＫＨＳＯ３）を含む溶液より得られる、
Ｋ４ ）Ｔ２ （８０４）３・Ｈ２Ｏ２なる組成を有す
る新規な過酸化水素附加化合物（以下本物質と称す）に
関するものである。
本物質の生成は、Ｈ２Ｏ２、Ｋ２ＳＯ４、Ｈ２ＳＯ４の
各濃度および反応温度に依存し、濃度と温度との両条件
を満さない限り附加化合物は生成しない。
各濃度および反応温度に依存し、濃度と温度との両条件
を満さない限り附加化合物は生成しない。
Ｈ２ＳＯ４の代りにＫＨＳＯ３を用いても本物質は生成
される。
される。
本物質の生成手段としては、冷却晶析のような溶解度勾
配によって得る方法、反応溶液中にに２ＳＯ４、ＫＨＳ
Ｏ３、Ｈ２ＳＯ４等の原料をあとから添加懸濁させて晶
析する方法等があり、必要により濃縮等の手段も用いら
れる。
配によって得る方法、反応溶液中にに２ＳＯ４、ＫＨＳ
Ｏ３、Ｈ２ＳＯ４等の原料をあとから添加懸濁させて晶
析する方法等があり、必要により濃縮等の手段も用いら
れる。
目的物である本物質を回収したのちの反応炉液は、酸性
であるためＨ２Ｏ２の安定性は良好で、Ｋ２ＳＯ４、Ｈ
２ＳＯ４、Ｈ２Ｏ２の各成分の濃度を調整して循環使用
することができる。
であるためＨ２Ｏ２の安定性は良好で、Ｋ２ＳＯ４、Ｈ
２ＳＯ４、Ｈ２Ｏ２の各成分の濃度を調整して循環使用
することができる。
本物質を生成する温度範囲は、特に限定されるものでは
なく任意の温度を選ぶことができるが、一般に、Ｏ〜４
０℃程度の温度範囲で反応を行うほうが便宜である。
なく任意の温度を選ぶことができるが、一般に、Ｏ〜４
０℃程度の温度範囲で反応を行うほうが便宜である。
Ｈ２Ｏ２濃度を一定とした場合のに２ＳＯ４、Ｈ２ＳＯ
４の濃度範囲は、低温になるに従って広がり、高温にな
るにつれ逆に狭くなる。
４の濃度範囲は、低温になるに従って広がり、高温にな
るにつれ逆に狭くなる。
また、温度を一定とした場合のに２ＳＯ４、Ｈ２ＳＯ４
濃度範囲は、Ｈ２Ｏ２濃度が高くなるに従って広くなる
。
濃度範囲は、Ｈ２Ｏ２濃度が高くなるに従って広くなる
。
上記０〜４０℃の温度範囲で本物質を生成するためには
、Ｈ２Ｏ２濃度は少なくとも１３０ｙ７ｔあるいはそれ
以上必要であり、好ましくは２００〜４００ ｆ／ｌで
ある。
、Ｈ２Ｏ２濃度は少なくとも１３０ｙ７ｔあるいはそれ
以上必要であり、好ましくは２００〜４００ ｆ／ｌで
ある。
温度０〜４０℃、Ｈ２Ｏ２濃度２００〜４００ ？／ｌ
の範囲で反応を行う時のに２ＳＯ４およびＨ２ＳＯ４の
濃度範囲は、それぞれ２８０ ｆ／を以上および６０
ｆ／Ａ以上、２６０ ｆ／を以下である。
の範囲で反応を行う時のに２ＳＯ４およびＨ２ＳＯ４の
濃度範囲は、それぞれ２８０ ｆ／を以上および６０
ｆ／Ａ以上、２６０ ｆ／を以下である。
以上のような方法で得られた生成結晶を、Ｈ２Ｏ２が不
必要に失われない様に７０℃程度以下で乾燥することに
よってＨ２Ｏ２７重量φ前後を含有する安定な過酸化水
素附加化合物を得ることが出来る。
必要に失われない様に７０℃程度以下で乾燥することに
よってＨ２Ｏ２７重量φ前後を含有する安定な過酸化水
素附加化合物を得ることが出来る。
本物質の５０℃に於ける放電安定性は第１表に示したよ
うに、特に安定剤を用いなくても十分使用に耐える安定
性を有している。
うに、特に安定剤を用いなくても十分使用に耐える安定
性を有している。
また水溶液のｐＨは１および３俤溶液でそれぞれ１．５
および１．８と強い酸性を示す。
および１．８と強い酸性を示す。
この新規な過酸化水素附加化合物は、一般的な漂白、殺
菌を目的とした用途の他、各種表面洗浄等の用途にも利
用できる。
菌を目的とした用途の他、各種表面洗浄等の用途にも利
用できる。
尚、本物質は単品で用いてもよく、又配合組成分の成分
として用いてもよく、各種目的に応じて有利に使用でき
る。
として用いてもよく、各種目的に応じて有利に使用でき
る。
本発明の製造例および実施例を以下に示す。
製造例 Ｉ
Ｈ２０２３９７ｆ ／ ４ Ｋ２ ＳＯ４４３４Ｖ ／
ｌ。
ｌ。
Ｈ２ＳＯ４１４３ｔ／ｌｃＤ濃度を有する溶液５００−
を５℃に保ち、この溶液によく粉砕したに、８０４結晶
７５？を添加懸濁させ、１時間攪拌後結晶を炉別し、５
０〜６０℃で約３時間乾燥を行いＨ２Ｏ２７，１２重量
多を含有する白色結晶８９Ｖ（化合物Ａ −（１） ’
）を得た。
を５℃に保ち、この溶液によく粉砕したに、８０４結晶
７５？を添加懸濁させ、１時間攪拌後結晶を炉別し、５
０〜６０℃で約３時間乾燥を行いＨ２Ｏ２７，１２重量
多を含有する白色結晶８９Ｖ（化合物Ａ −（１） ’
）を得た。
製造例 ２
Ｈ２Ｏ２３９４１７１％に２ＳＯ４４６５ｔ／ｌ。
Ｈ２５ｏ４１０９ ｆ／ｌの濃度を有する溶液５００−
を５℃に保ち、この溶液によく粉砕した 本＊ＫＨ
８０４結晶１２５？を添加懸濁させ２時間攪拌後結晶を
炉別し、５０〜６０℃で約３時間乾燥を行いＨ２Ｏ２６
，７２重重量型含有する白色結晶１３７グ（化合物Ａ−
（２））を得た。
を５℃に保ち、この溶液によく粉砕した 本＊ＫＨ
８０４結晶１２５？を添加懸濁させ２時間攪拌後結晶を
炉別し、５０〜６０℃で約３時間乾燥を行いＨ２Ｏ２６
，７２重重量型含有する白色結晶１３７グ（化合物Ａ−
（２））を得た。
製造例 ３
３０℃でＨ２Ｏ２２０５？／１． Ｋ２５Ｏ４４６７グ
／ｌ、 Ｈ２ＳＯ４２２２？／ｌの濃度を有する溶液５
００ｍ１を攪拌を行いながら０℃まで冷却し、１時間攪
拌の後、晶析した結晶を炉別し、製造例１と同じように
処理を行って、Ｈ２０２６，９１重量φを含有する結晶
１２２Ｐ（化合物Ａ−（３））を得た。
／ｌ、 Ｈ２ＳＯ４２２２？／ｌの濃度を有する溶液５
００ｍ１を攪拌を行いながら０℃まで冷却し、１時間攪
拌の後、晶析した結晶を炉別し、製造例１と同じように
処理を行って、Ｈ２０２６，９１重量φを含有する結晶
１２２Ｐ（化合物Ａ−（３））を得た。
製造例 ４
Ｈ２０□２８６ ｆ／ｌ、 Ｋ２８０４４２０ ？／ｌ
。
。
Ｈ２ＳＯ４１４１ｆ／ｌの濃度を有する溶液５００−を
１０℃とし、この溶液に粉砕したに２ＳＯ４結晶８３４
ｖと９５ ％Ｈ２８０４２４，７ｙとを加え、１時間攪
拌後炉別し製造例１と同じように処理を行ってＨ２０□
７．００重重量型含有する結晶１２６ｆ？（化合物Ａ
−（４） ）を得た。
１０℃とし、この溶液に粉砕したに２ＳＯ４結晶８３４
ｖと９５ ％Ｈ２８０４２４，７ｙとを加え、１時間攪
拌後炉別し製造例１と同じように処理を行ってＨ２０□
７．００重重量型含有する結晶１２６ｆ？（化合物Ａ
−（４） ）を得た。
製造例 ５
４０℃に加温されたＨ２Ｏ２４０５？／ｌ。
Ｋ２５ｏ４５５８ ｆ？／ｌ、Ｈ２ＳＯ４１６７ｔ／ｌ
（Ｄ濃度を有する溶液５００−を攪拌を行いながら５℃
まで冷却し、１時間攪拌の後、晶析した結晶を炉別して
製造例１と同じように処理を行ってＨ２Ｏ２７，０２重
量多を含有する結晶９６グ（化合物Ａ −（５） ）を
得た。
（Ｄ濃度を有する溶液５００−を攪拌を行いながら５℃
まで冷却し、１時間攪拌の後、晶析した結晶を炉別して
製造例１と同じように処理を行ってＨ２Ｏ２７，０２重
量多を含有する結晶９６グ（化合物Ａ −（５） ）を
得た。
実施例 １
（１）製造例１乃至５に於いて、それぞれ得られた化合
物Ａ −（１）乃至Ａ−（５）の化学分析結果を第２表
に示す。
物Ａ −（１）乃至Ａ−（５）の化学分析結果を第２表
に示す。
（２）
化合物Ａ
（５）の示差熱分析計による分解温度
は、
■
４０℃であった。
（３）化合物Ａ−（５）のＸ線回折パターンを第１図に
示す。
示す。
又、併せてに２Ｓ０４（試薬）、ＫＨＳＯ３（試薬）、
Ｋ２ＳＯ４・ＫＨＳＯ３（出願人調整品）および２ Ｋ
ＨＳＯ３・Ｋ２ＳＯ４−ＫＨＳＯ３（０ＸＯＮＥ ；
申イー・アイ・デュポン社製商品）のＸ線回折パターン
をそれぞれ第２図乃至第５図に示す。
Ｋ２ＳＯ４・ＫＨＳＯ３（出願人調整品）および２ Ｋ
ＨＳＯ３・Ｋ２ＳＯ４−ＫＨＳＯ３（０ＸＯＮＥ ；
申イー・アイ・デュポン社製商品）のＸ線回折パターン
をそれぞれ第２図乃至第５図に示す。
更に、それぞれの回折図に於けるピーク強度の強いもの
５本の面間隔ｄ（４）を第３表に示す。
５本の面間隔ｄ（４）を第３表に示す。
第１図乃至第５図は、
それぞへ本発明品。
Ｋ２ ＳＯ４＊ ＫＨＳＯ３、Ｋ２ Ｓ ０４・ＫＨＳ
Ｏ３および０ＸＯＮＥのＸ線回折パターンを示す。
Ｏ３および０ＸＯＮＥのＸ線回折パターンを示す。
Claims (1)
- １ Ｋ４Ｈ２（ＳＯ４）３・Ｈ２Ｏ２なる組成を有する
過酸化水素附加化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5443978A JPS5835925B2 (ja) | 1978-05-10 | 1978-05-10 | 過酸化水素附加化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5443978A JPS5835925B2 (ja) | 1978-05-10 | 1978-05-10 | 過酸化水素附加化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54147194A JPS54147194A (en) | 1979-11-17 |
| JPS5835925B2 true JPS5835925B2 (ja) | 1983-08-05 |
Family
ID=12970732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5443978A Expired JPS5835925B2 (ja) | 1978-05-10 | 1978-05-10 | 過酸化水素附加化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5835925B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3427119A1 (de) * | 1984-07-23 | 1986-01-23 | Peroxid-Chemie GmbH, 8023 Höllriegelskreuth | Verfahren zur herstellung von kaliumpermonosulfat-tripelsalz |
-
1978
- 1978-05-10 JP JP5443978A patent/JPS5835925B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54147194A (en) | 1979-11-17 |
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