JPS5838433B2 - フエニル置換ｐｇｆ↓２−型化合物類の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプロスタグランジン類の類似体をつ《る方法に
関する。

更に詳しくは、本発明は日本特許出願公開番号昭４７−
９４６５号（昭和４７年５月１６日）に記載されたフエ
ニル置換プロスタグランジンＥ２（ＰＧＥ２）型および
プロスタグランジンＦ２α（ＰＧＦ２α）型化合物類の
製造法に関する。

こレラのフエニル置換プロスタグランジン類似体類は次
の式の一つ、又はその式とその鏡像との組合せによって
表わされる。

式■はＰＧＦ２α型のフエニル置換化合物類を表わす。

であり、Ｒ３とＲ４は水素である。

−Ｃ ｔＨ２ ｔ一部分は（ａ）低級アルキレンである
。

記号Ａは低級アルキレンを表わす。

れか、すなわち側鎖ヒドロキシがＳ（アルファ）又はＲ
（エビないしベータ）立体配置にある場合の別々の異性
体類を包含する。

プロスタン酸原子の番号付げについて、結合点はＣ−１
５に対応し、本明細書においてはＣ−１ないしＣ−７の
炭素鎖に変化があるにもかかわらず、これらのエピマー
類はＣ−１５エピマーと呼ばれる。

Ｃ−１３からＣ−１４への二重結合を含む化合物類の全
部において、この炭素一炭素二重結合はトランスの立体
配置にあり、またＲ４ を含む連鎖は式■に包含される
化合物類においてはシクロペンタン環に対してベータ立
体配置で結合される。

上記の天然プロスタグランジン類のように、これらのフ
エニル置換プロスタグランジン化合物類は幾つかの非対
称中心をもっている。

これらの化合物類は（ａ）天然に生ずるプロスタグラン
ジン類と同じ立体配置をもつ化合物類、および（ｂＸａ
）＋その光学活性のエナンチオマー型のラセミ化合物類
を包含する。

これらのラセミ化合物類を正確に定義するには二つの構
造式が必要である。

式■は、天然に生ずるプロスタグランジンと同じ絶対立
体配置をもつ光学活性プロスタン酸類似体を表わすこと
が意図されている。

しかし本明細書の図では便宜上、光学活性型ばかりでな
く、一般に同じ反応を行なうラセミ化合物を定義するの
に使われている。

式■に包含されるフエニル置換ＰＧＦ２α化合物類は下
記の反応によってつくられる。

？Ａは三環式ラクトンアルデヒド■をこの技術で知られ
た手順によってつくる反応系統を図示している。

米国特許第３７１１５１５号を参照。この米国特許にお
いて、三環式ラクトンアルデヒド■をつくる反応順序は
以下のとおりである。

（ａ） 式ｍ（式中〜はアルファまたはベーター立体
配置での結合を表わす）の光学活性又はラセミ体〔３・
１・Ｏ〕へキス−２−エンー６−カルボキサルデヒドを
、式■の光学活性アセタノール、又はその鏡像、又はこ
の式とその鏡像とのラセミ化合物に転化する〔式中Ｒ２
とＲ２２は１〜４個の炭素原子のアルキルであり、一緒
に合わせると （ここでＲ２３、Ｒ ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７お
よびＲ２８は水素、１〜４個の炭素原子のアルキル、又
はフエニルであるが、但し１個を越えないＲ／はフエニ
ルであり、全炭素原子数が２〜１０であることを条件と
し、Ｘは０又は１）であり、カつ〜は上に定義されたと
おりである〕。

（ｂ） 光学活性体又はラセミ体アセタール■を式■
の光学活性三環式モノ又はジノ・ロケトン、又はその鏡
像、又はこの式とその鏡像とのラセミ化合物へ転化する
〔式中Ｒ２１、Ｒ２２、および〜は上に定義されたとお
りであり、Ｒ３０はブロモ又はクロロであり、かつＲ３
１は水素、ブロモ、又はクロロである〕。

（ｃ） 光学活性体又はラセミ体三環式モノ又はジノ
・ロケトン■を式■の光学活性体三環式ケトン、又はそ
の鏡像、又はこの式とその鏡像とのラセミ化合物へ転化
する〔式中Ｒ２、、Ｒ２２、および〜は上に定義された
とおり〕 （ｄ） 光学活性又はラセミ体三環式ケトン■を光学
活性三環式ラクトンアセタール■、又はその鏡像、又は
この式とその鏡像とのラセミ化合物へ、酸化する〔式中
Ｒ２１、Ｒ２２、および〜は上に定義されたとおり〕。

（ｅ） 光学活性体又はラセミ体三環式ラクトンアセ
タール■を式■の光学活性三環式ラクトンアルデヒド、
又はその鏡像、又はこの式とその鏡像とのラセミ化合物
へ加水分解する〔式中〜は上に定義されたとおり〕。

図Ａの式■の二環式アルデヒドは多数の異性体型で存在
する。

−ＣＨＯ基の結合に関しては、これは二つの異性体型、
エキソとエンドで存在する。

また一ＣＨＯ基に対するシクロペンテン二重結合の位置
については、エキン型とエンド型の各々が二つの光学活
性（ｄ一又は１−）型で存在し、全部で４異性体となる
。

これらの異性体の各々が別個に又はそれらの混合物がプ
ロスタグランジン中間体および生成物をつくる反応を受
ける。

ラセミ体生或物には分割していない異性体を使用する。

光学活性プロスタグランジンには、アルデヒド又はその
後の中間体異性体類は米国特許第 ３７１１５１５号に明らかにされた方法で分割され、光
学活性生戒物をつくるのに使われる。

段階ａを実施するには、二環式アルデヒド■をこの技術
に知られた方法によってアセタール■へ転化させる。

このようにアルデヒド■を１〜４個の炭素原子のアルコ
ール、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、
又はブタノール、又はそれらの異性体型、又はそれらの
アルコール類の混合物、又は好ましくは式 ？グルコールと反応させる。

式中Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２、およびＲ
２８は水素、１〜４個の炭素原子のアルキル、又はフエ
ニルであるが、但し１個を越えないＲはフエニルであっ
て、全炭素原子数は２〜１０であることを条件としてお
り、かつＸはゼロ又は１である。

適当なグリコール類の例ハエチレンクリコール、１・２
−プロパンジオール、１・２−ヘキサンジオール、■・
３ −７”タンジオール、２・３−ペンタンジオール、
２・４−ヘキサンジオール、３・４−オクタンジオール
、３．５一ノナンジオール、２・２−ジメチル−１゜３
−プロパンジール、３・３−ジメチル−２・４−へブタ
ンジオール、４−エチル−４−メチル３・５−へブタン
ジオール、フエニル−１・２−エタンジオール、および
１−フェニル−１・２−プロパンジオールである。

段階ａの反応は、一般にこの技術に知られた手順を使用
して種々の条件下に実施される。

こうして反応体をベンゼン中に溶解し、混合物を加熱し
て、共沸的に形成される水分を除去する。

反応を早めるには、ｐ一トルエンスルホン酸、トリクロ
ロ酢酸、塩化亜鉛等のような酸触媒を加える。

その代わりに反応体を酸触媒およびオルトぎ酸トリメチ
ルのような水分除去剤と一緒に、ベンゼン、トルエン、
クロロホルム、又は四塩化炭素のような不活性溶媒中で
４０〜１００℃まで暖める。

アルデヒドのグリコールとの比は１：１ないし１：４が
好ましい。

アセタール■をケトン■へ転化するには、類似化合物類
に対してこの技術に知られた反応を使用する。

段階ｂを実施するには、アセタール■をケテンＲ３ｏＲ
３１Ｃ＝Ｃ＝０１例えばＨＢｒＣ＝Ｃ＝Ｏ、ＨＣＩ＝Ｃ
＝Ｏ，Ｂｒ，Ｃ＝Ｃ＝０，又はＣｌ２Ｃ一Ｃ＝Ｏと反応
させる。

便宜上ケテンＣ１Ｃ＝Ｃ＝Ｏが好ましい。

これは、０．５ないし２．０倍過剰量のジクロロアセチ
ルクロライドを第三級アミン、例えばトリエチルアミン
、トリブチルアミン、ピリジン、又は１・４−ジアザビ
シクロ〔２・２・２〕オクタンの存在下に、ｎ−へキサ
ン、シクロヘキサン、又は異性体ヘキサン類混合物（ス
ケリソルブＢ）のような溶媒中で、Ｏ０ないし７０℃の
温度で反応させることによってその場で発生せしめるの
が好ましい。

（例としてコリー（ Ｃ ｏｒｅｙ ）等、テトラヘド
ロンレターズ（ Ｔ ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅ
ｒｓ ）第４号、３０７−３１０頁、１９７０年を参照
。

）その代わりにケテンＣｌ２Ｃ＝Ｃ＝０は、第三級アミ
ンを省略して、反応容器内に懸濁された亜鉛粉末へトリ
クロロアシルハライドを加えることによってつくられる
。

段階Ｃを実施するには、モノー又はジノ・ロケトン■を
メタノール、エタノール、エチレングリコール等中で酢
酸、塩化アンモニウム、重炭酸ナトリウム、又はりん酸
二水素ナトリウムの存在下に、Ｚｎ：２Ｃ１の化学量論
比以上の、２ないし５倍過剰量の亜鉛粉末によって還元
する。

その代わりに、メタノールージエチルエーテルー水、テ
トラヒドロフランー水、又はジオキサンー水のような水
を含有する溶媒中で約０〜５０゜Ｃでアルミニウムアマ
ルガムによって反応を行なう。

段階ｄを実施するには、三環式アセタールケトン■はこ
の技術に知られた方法によって、例えばアルカリ水酸化
物、重炭酸塩、又はオルトリん酸塩のような塩基の存在
下に、酸化剤とケトンとの１：１の好ましいモル比を使
用して、過酸化水素、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ
過安息香酸等との反応によって、ラクトンへ転化される
。

段階ｅを実施するには、ラクトンアセタール■は、希鉱
酸、酢酸、又はぎ酸等を使用して、この技術に知られた
酸加水分解によってアルデヒド■へ転化される。

図Ｂは三環式ラクトンアルデヒド■を二環式ラクトンジ
オールＸ■へ転化させる反応系列を示している。

ａを実施するには、アルデヒド■は、例えばウイテイツ
ヒ反応におけるようなイリドによって、式■アルケンへ
転化される。

ある有機ハライド類、例えばクロライドとブロマイド類
は、三環式ケトン■の一般部分一ＣＨ一ＣＨＱを発生さ
せるのに使用されるウィティッヒ試薬をつくるのに必要
である。

これらの有機ハライト゛類、例えばＱＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ
とＱＣＨ２ＣＨ２Ｂｒはこの技術に知られているか、又
はこの技術に知られた方法でつくることができる。

ウイテイツヒ試薬は既知のやり方でこれらの有機ハライ
ド類をトリフエニルホスフインと反応させてつくられる
。

例エば１−プロモー３−フエニルプロパンヲトリフエニ
ルホスフインと反応させると、３−フエニルプロパント
リフエニルホスホニウムブロマイドを生ずる。

段階ｂを実施するには、アルケン■がこの技術に知られ
た手順によってグリコールＸヘヒドロキシル化される。

１９７０年７月３日公布された南アフリカ特許第６９／
４８０９号を参照。

それぞれエンド又はエキソアルケン類のヒドロキシル化
には、■中の一ＣＨ＝ＣＨ一部分がシスかトランスであ
るか、またシス又はトランスヒドロキシル化試薬が使わ
れているかどうかという因子によって、種々の異性体の
グリコール類が得られる。

このように、エンドーシスオレフィンは、シスヒドロキ
シル化剤、例えば四酸化オスミウムによって式Ｘの二つ
の異性体エリスログリコール類の混合物を与える。

同様にエンドートランスオレフインは、トランスヒドロ
キシル化剤、例えば過酸化水素によって同じ二つのエリ
スログリコール類の同様な混合物を与える。

エンドーシスオレフィン類とエンドトランスオレフイン
類はそれぞれトランスおよびシスヒドロキシル化試薬に
よって、二つのスレオグリコール異性体類の同様な混合
物を与える。

これらの種々のグリコール混合物はシリカゲルクロマト
グラフイによって、個々の異性体類へ分離される。

しかし、この分離は通常必要ではない。

なぜならば各々の異性体エリスログリコールと各々の異
性体スレオグリコールは本発明と図Ｂに略述された方法
に従って式Ｘ■の中間体生戒物をつくり、次に図Ｃに従
って本発明のその他の最終生成物をつくる中間体として
有用であるためである。

このように式■に包含される種々の異性体オレフイン類
からつ《られる式Ｘに包含される種々の異性体グリコー
ル混合物は、すべてこれらの同じ目的に有用である。

段階Ｃを実施するには、光学活性体三環式ラクトングリ
コールＸ又はこの式とその鏡像とのラセミ化合物を、式 〔式中Ｒ４１は水素、１〜１９個の炭素原子のアルキル
、又は（Ｏ〜３個のハロゲン原子で置換された）７〜１
２個の炭素原子のアラルキルであり、またＲ４２はメチ
ル又はエチルである〕のオルトエステルと反応させると
、式Ｍの光学活性体環式オルトエステル又はこの式とそ
の鏡像とのラセミ化合物を生ずる。

段階ｄを実施するには、環式オルトエステルＭをぎ酸と
反応させて、式■の光学活性ジオールジエステル又はこ
の式とその鏡像とのラセミ化合物を生ずる。

段階ｅの実施では、上記ジオールジエステル■のアシル
基が水素で置換されて、二環式ラクトンジオールｘｍを
生ずる。

これまでにグリコールＸをジオールＸ■へ転化する段階
は、１９７３年１月１６日公布の米国特許第３７１１５
１５号に明らかにされている。

例えばグリコールＸのグリコール水素原子をアルキルス
ルホニル基と置換し、生成物を加水分解にかげる。

その代わりに異性体グリコール類Ｘ混合物は１００％ぎ
酸中で二環式ラクトンジオールＸ■のジホルメートへ転
化され、次にメタノール中の重炭酸カリウムによってジ
オールＸ■へ転化される。

グリコールＸからジオール■への転化は、立ｉ異的に達
成でき、このため環式オルトエステルを経て望む異性体
の高収量が得られる。

図Ｂの段階ｃ，ｄ、およびｅを参照すると、これを達成
する方法が明らかとなろう。

図Ｂの段階Ｃで、三環式ラクトングリコールＸは環式オ
ルトエステル■に転化される。

グリコールＸは二つのエリスロと二つのスレオ型で存在
する。

これらの種々のグリコール類は、例えば上に参照された
米国特許第３７１１５１５号に明らかにされているよう
に、対応するアルケン又はアルケニンのヒドロキシル化
によって利用できる。

図Ｂを参照すると、式Ｍ環式オルトエステルは、段階Ｃ
でグリコールＸと式 〔式中Ｒ４１とＲ４２は上に定義されたとおり〕のオル
トエステルとの反応によって得られる。

反応は一５０℃ないし＋１００℃の温度範囲で順調に進
むが、但し都合上０℃ないし＋５０℃が一般的に好まし
い。

酸触媒と共に１．５ないし１０モル当量のオルトエステ
ルを使用する。

触媒量は普通にはグリコール重量の小部分、例えば１％
であり、典型的な触媒はピリジン塩酸塩、ぎ酸、塩酸、
ｐトルエンスルホン酸、トリクロロ酢酸、又はトリフル
オロ酢酸を包含する。

反応は溶媒、例えばベンゼン、ジクロ口メタン、酢酸エ
チル又はジエチルエーテル中で実施するのが好ましい。

反応は既して数分で終丁し、ＴＬＣ （塩基性シリカ
ゲル板上の薄層クロマトグラフイ）で追跡するのが好都
合である。

オルトエステル試薬はこの技術に知られている？、又は
この技術で知られた方法によって容易に入手できる。

例えば、適当なニトリルから出発するエス・エム・マク
エルベイン（Ｓ，Ｍ，ＭｃＥ１ｖａｉｎ ）等、ジャー
ナル オブ アメリカンケミカル ソサエテイ（ Ｊ．
ｏｆ ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ，Ｓｏｃ．）６４巻１９
２５頁（１９４２年）を参照。

有用なオルトエステル類の例は以下を含む。

トリメチルオルトホルメート トリエチルオルトアセテート トリエチルオルトプロピオネート トリメチルオルトブチレート ト１エチルオルトバレレート トリメチルオルトオクタノエート トリメチルオルトフエニルアセテート、およびトリメチ
ルオルト（２・４−ジクロロフエニル）アセテート。

好ましいのは、Ｒ４、が１〜７個の炭素原子のアルキル
である場合のオルトエステル類である。

特に好ましいものは、Ｒ４が１〜４個の炭素原子のアル
キルの場合のものである。

式■ジエステルは段階ｄで、式Ｍ環式オルトエステルと
無水ぎ酸との反応で得られる。

「無水ぎ酸」とは、これが０．５％を超えない水分を含
有することを意味する。

反応は過剰量のぎ酸と共に行なわれ、ぎ酸自体が反応溶
媒として働く。

溶媒は、例えばジクロロメタン、ベンゼン、又はジェチ
ルエーテルが、普通にはぎ酸の２０容量％を越えない量
で存在してもよい。

ぎ酸の乾燥剤として有用である有機酸無水物、例えば無
水酢酸、又はアルキルオルトエステル類、例えばトリメ
チルオルトホルメートも存在してよい。

反応は広範囲の温度で進むが、約２０〜３０℃で実施す
るのが好都合であり、普通には約１０分以内に終了する
。

そのあと生成物を回収し、所望によりこの技術に知られ
た方法で精製する。

式■ジオールは段階ｅで、塩基の存在下におげろ式■ジ
エステルのアルコリシスによって得られる。

塩基の例は、炭酸ナトリウム又はカリウム、又はメトキ
シド類又はエトキシド類を含めたナトリウム又はカリウ
ムアルコキシド類である。

反応は過剰の加溶媒分解試薬、例えばメタノール又はエ
タノール中で実施するのが好都合である。

温度範囲は−５０℃ないし１００℃である。

反応終了の時間はＲ４１と塩基の性質によって変わり、
アルカリ炭酸塩の場合には、Ｒ４１が水素の時には数分
で進行するが、Ｒ４１が例えばエチルの時には数時間ま
でかかる。

図Ｃを参照すると、ジエステル■からジオールｘ■への
もう一つの経路が示してある。

段階ａで、ジエステル■はトリオール酸■へ加水分解さ
れて、ラクトンが開裂する。

加水分解は炭酸又は水酸化ナトリウム又はカリウムのよ
うな塩基の存在下に生ずる。

アルカリ炭酸塩の場合、水を含有する溶媒、例えばメタ
ノールー水又はテトラヒドロフランー水を使用するが、
アルカリ水酸化物の場合には水を加える必要がない。

そのあとでトリオール酸Ｘ■は段階ｄで、酸例えばピリ
ジン塩酸塩、塩化水素、ｐ−｝ルエンスルホン酸、酢酸
等の存在下に、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン又
はクロロホルムのヨウナ溶媒中で還流温度でラクトン化
によって、ジオールＸ■へ転化される。

１００℃より上の温度、例えば還流するトルエン中で、
ラクトン化は酸触媒なしに進む。

ラクトン形成はＴＬＣ で追跡するのが好都合である。

その代わりにＲ４１が水素でない時には、式Ｘ■のモノ
エステルは段階ｂで、ジエステル■のホルミル基の選択
的加アルコール分解によって得られる。

この目的には、重炭酸カリウム又は炭酸カリウムによる
メタノリシスが有用である。

この中間体Ｘ■は、段階Ｃで上述のアルカリ加水分解に
よＯ Ｉ｛ るか又は一Ｃ Ｒ４１部分を除くに足る時間の間、ア
ルカリアルコール分解によるかのいずれかでトリオール
酸Ｘ■をつくるのに有用である。

図Ｃに示す諸段階は式Ｘ■の３Ｓジオール類に関するも
のである。

Ｃ−３への結合がベータ立体配置にある場合の式■に対
応する３Ｒジエステルで出発して、同じ化学転化が式Ｘ
■に対応する３Ｒジオール類を生ずる。

図Ｂの諸段階によって式ｘｂ又はＸｄの２Ｒグリコール
類は３Ｒの式Ｘ■ジオールを生ずる。

３Ｓの式Ｘ■ジオールを望む時には、２Ｒグリコール類
のいずれかから２８グリコールへのエピマー化手順を利
用できる。

ＲとＳの命名法の論議には、例としてアール・エス・チ
ャン（ Ｒ． Ｓ．Ｃｈａｎ）、Ｊ． Ｃｈｅｍ．Ｅｄ
， ４ １巻１１６頁（１９６４年）を参照。

ここでの２８の表示は、環から数えて側鎖の第二炭素で
あるＣ−２のＳ立体配置を指すことに注目されたい。

図Ｄには、グリコールＸＶＩがグリコールＸＸヘエピマ
ー化される諸段階が示されている。

グリコールＸＶＩにおいては、２−ヒドロキシはＲ立体
配置にあり、１−ヒドロキシはＲ又はＳ立体配置にある
。

グリコールＸＸにおいては、２−ヒドロキシはＳ立体配
置にあり、１−ヒドロキシはＸＶＩと同じ立体配置にあ
る。

このように図Ｄにおいては〜はアルファ又はベータ立体
配置のいずれかにおけるその部分の側鎖に対する結合を
示す。

更に図Ｄにおいては、Ｒ４３とＲ４４は１〜１０個の炭
素原子のアルキル、７〜１２個の炭素原子のアラルキル
、フエニル、又は（１ないし２個のノ）ロ、又は１〜４
個の炭素原子のアルキルで置換された）フエニルである
。

Ｒ４３がアルキルの場合には、これは３個ないしそれ以
上の炭素原子のものが好ましい。

Ｒ４３とＲ４４は同じ又は別のものでありうる。例とし
てＲ４４がメチルの時には、Ｒ４５はｎ−ブチルであり
うる。

式ＸＩＸでビとＡ′の一方は水素であり、他方は式一Ｃ
（０ ） Ｒ４４のアシル基である。

式Ｘ■が米国特許第３７１１５１５号に記載された方法
によって得られるグリコールｘｂおよびグリコールＸｄ
の両方を包含し、式ＸＸは図ＢとＣの諸段階によるジオ
ールＸ■の製造に有用なグリコールＸａとグリコールＸ
ｃの双方を含むことが理解されよう。

図Ｄについて続けると、式Ｘ■スルホネートは、Ｒ４３
が上に定義された場合の式Ｒ，３−ＳＯ２−ＣＩのスル
ホニルクロライドとグリコールＸＶＩとの反応によって
段階ａで得られる。

Ｃ−２ヒドロキシルの選択的活性化を達成するには、Ｒ
４３基が３個又はそれ以上の炭素原子を含有すること、
例えばｎ−ブチル、フエニル、又はｐ − ｝ ！Ｊル
が好ましい。

反応は第三級アミンの存在下に約３モル当量のスルホニ
ルクロライドで行なわれる。

約３３容量％の第三級アミン例えばピリジンを含有する
ジエチルエーテル又はジクロロメタンの溶媒系を使用す
るのが好ましい。

反応は約Ｏ℃で実施され、ＴＬＣ で示されるように一
般に５日以内に終了する。

ジエステル■は段階ｂで、式（Ｒ４４）２０の酸無水物
、又は式Ｒ４４ハロ（ここでハロはブロモ又はクロロ）
のアシルハライドとスルホネートＸ■との反応によって
得られる。

この目的に特に有用なのは、Ｒ４４が１〜３個の炭素原
子のアルキルであるようなアシル化剤、例えば無水酢酸
又は無水プロピオン酸である。

混合モノエステルＸ■ は段階Ｃで、ジエステルＸ■を
４モル当量の酢酸ナトリウムを含有する９０％酢酸水溶
液で９０℃で処理することによって得られる。

反応は概して数時間で終了する。アール・ビー・ウツド
フード（ Ｒ． Ｂ．Ｗｏｏｄｗａｒｄ ）等、Ｊ．
Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ， ８ ０巻２０９頁（１
９５８年）を参照。

最後に、グリコールＸＸは段階ｄで、アシル基の除去に
よって得られる。

これは、無水メタノール中でナトリウムメトキシドによ
って行ない、続いて酢酸水溶液中で急冷するのが好まし
い。

その代わりにメタノールー水中の２Ｎ水酸化ナトリウム
を使用すると、ラクトン開裂とアシル基の加水分解が同
時に生ずる。

ｐＨ３へ酸性化するとラクトン環が回復し、グリコール
ＸＸが回収できる。

図Ｄに示す諸段階は式ＸＸの２８グリコール類に関する
ものである。

その代わりに式ＸＶＩに対応するがＣ−２でＳ立体配置
をもつ２Ｓグリコールで出発すると、同じ化学転化によ
って、式ＸＸに対応するがＣ−２でＲ立体配置をもつ２
Ｒグリコールを生ずる。

ラクトンジオールＸ■はこの技術に知られた段階によっ
てＰＧＥ２又はＰＧＦ２α型化合物に転化される。

イー・ジエー・コリー（ Ｅ， Ｊ， Ｃｏｒｅｙ ）
等、Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ， Ｓｏｃ ， ９ １巻
５６７５頁（１９６９年）を参照。

図ＥにはラクトンジオールＸ■から式ＸｘＩＶＰＧＦ２
α化合物と式ＸＸＶＩ ＰＧＥ２化合物へ至る段階が示
してある。

置換し、ヒドロキシルほどにはそれぞれの転化で使用さ
れる試薬に攻撃もされず、それと反応もしないものであ
り、かつその後の段階でプロスタグランジン様の生或物
をつくる時に水素で置換されるような任意の基である。

幾つかのプロツキング基はこの技術に知られている。

例えばテトラヒドロピラニル、アセチル、およびｐ−フ
エニルベンゾイルである（コリー等、Ｊ．Ａｍ． Ｃｈ
ｅｍ． Ｓｏｃ， ９ ３巻１４９１頁（１９７１年）
を参照）。

有用であることがわかったものは、（ａ）テトラヒドロ
ピラニル、（ｂ）テトラヒドロフラニル、又は（Ｃ）式 ？基を包含する。

式中Ｒ１６は１〜１８個の炭素原子のアルキル、３〜１
０個の炭素原子のシクロアルキル、７〜１２個の炭素原
子のアラルキル、フエニル、又は（１〜４個の炭素原子
のアルキルの１、２、又は３個で置換された）フエニル
であり、Ｒ１とＲ１８は同じ又は別のものであって、水
素、１〜４個の炭素原子のアルキル、フエニル、又は（
１〜４個の炭素原子のアルキルの１、２、又は３個で置
換された）フエニルであり、又はＲ１とＲ１８を一緒に
取ると−（ｃＨ２）ｈ一又は（ ＣＨ２ ） ｉ ０
（ ＣＨ２ ） Ｊ−であるが、ここでｈは３、４
、又は５であり、ｉは１、２、３、およびｊは１、２又
は３であるが、ｉ＋ｊは２、３、又は４であるとの条件
付きであり、かつＲ１５は水素又はフエニルである。

プロツキング基がテトラヒドロピラニル又はテトラヒド
ロフラニルの時には、適当な試薬例えば２・３−ジヒド
ロピラン又は２・３−ジヒドロフランを、ｐ一トルエン
スルホン酸又はピリジン塩酸塩のような酸縮合剤の存在
下にジクロロメタンのような不活性溶媒中で使用する。

試薬はやや過剰量、好ましくは理論の１．０ないし１．
２倍を使用する。

反応は約２０〜５０℃で実施される。プロツキング基が
上に定義された式 ？１６−０ −Ｃ （ Ｒ１）一ＣＨＲ１８Ｒ１５のも
のである時には、適当な試薬はビニルエーテル、例えば
イソブチルビニルエーテル又は式 Ｒ１６ ０ Ｃ（Ｒｌ）＝ＣＲ１８Ｒ１５ （式中
Ｒ１６、Ｒ１、Ｒ１８およびＲ１５は上に定義されたと
おり）の任意のビニルエーテル、又は不飽和環式又は複
素環式化合物、例えば１−シクロへキス−１−イＢ，
Ｒｅｅｓｅ ）等、Ｊ ． Ａｍ．Ｃｈｅｍ． Ｓ ｏ
ｃ ．、８９巻３３６６頁（１９６７年）を参照。

このようなビニルエーテル類と不飽和物に対する反応条
件は上のジヒドロピランに対するものと同様である。

プロツキング基Ｊに特に好ましいものは、テトラヒドロ
ピラニルおよび（α一エトキシ）エチルである。

図Ｅを参照すると、化合物ＸＸはプロツキング基Ｊを導
入することによって化合物Ｘ■から得られる。

プロツキング基がテトラヒドロビラニル又はテトラヒド
ロフラニルの時には、適当な試薬、例えば２・３−ジヒ
ドロピラン又は２・３−ジヒドロフランをジクロロメタ
ンのような不活性溶媒中で、ｐ一トルエンスルホン酸又
はピリジン塩酸塩のような酸縮合剤の存在下に使用する
。

試薬はやや過剰で、好まし《は埋論の１，０ないし１．
２倍で使用される。

反応は約２０〜５０℃で実施される。

プロツキング基が上に定義された式 ？１ａ −ＱＣ （ Ｒ１７ ） ＣＨＲｔ ｓ Ｒ
ｔ ５ のものである時には、適当な試薬はビニルエ
ーテル、例えばインブチルビニルエーテル又は式 Ｒ１６−０ −Ｃ （ Ｒ，．） ＝ＣＲ１８Ｒ１５
（式中Ｒ１６、Ｒ１、Ｒ１８およびＲ１５は上に定義さ
れたとおり）の任意のビニルエーテル、又は不飽和環式
又は複素環式化合物、例えば１−シクロヘキス−１−イ
ルメチルエーテル又は５・６−ジヒドロ−４−メトキシ
−２Ｈピランである。

シー・ビー・リース等、Ｊ ， Ａｍ． Ｃｈｅｍ，
Ｓｏｃ ， ８ ９巻３３６６頁（ １ ９ ６ ７年
）を参照。

このようなビニルエーテル類と不飽和物に対する反応条
件は、上のジヒドロピランに対するものと同様である。

ラクトール■は、１３・１４−エチレン基を還元するこ
とな《、式ＸＸ［ラクトンの還元で得られる。

この目的にはジイソフ゛チノレアノレミニウムハイドラ
イドが使われる。

還元は−６０ないし−７０℃で実施するのが好ましい。

側鎖の立体化学は■をＸＭへ、次いで■へ転化する際に
保持される。

例えば３−アルファ化合物■は３−アルファ化合物■を
生ずる。

式Ｘ■化合物は、適当なω一カルボキシアルキルトリフ
エニルホスホニウムフロマイトＨＯＯＣ Ａ ＣＨ
２ Ｐ （ Ｃ６ Ｈ５ ） ３ Ｂｒ ，およびナ
トリウムジメチルスルフイニルカルバニドから誘導され
るウイテイツヒ試薬を使用するウイテイツヒ反応によっ
て、式Ｘ■ラクトールから得られる。

反応を約２５℃のジメチルスルホキシド中で実施するの
が好都合である。

ホスホニウム化合物類はこの技術で知られているか、又
は例えばω一ブロモ脂肪酸とトリフエニルホスフィンと
の反応によって容易に入手できる。

式ｘｘｍ化合物は、例えば酢酸を使用する温和な酸加水
分解によるフロッキング基Ｊの除去によって、対応する
ＰＧＦ２α化合物ｘｘｒｖに転化される。

式ｘｘｍ化合物はジョーンズ試薬によって式ＸＸ′ｖ化
合物へ転化され、これが次に温和な酸加水分解によって
ＰＧＥ２化合物ＸＸ■へ転化される。

式■に包含されるフエニル置換ＰＧＦα化合物類は、図
Ｆに述べる他の反応系列によってもつくられる。

この手順はこの技術に知られたものに類似の段階によっ
て行なわれる。

イー・ジエー・コリー等、Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ，
Ｓｏｃ．９ １巻５６７５頁（１９６９年）を参照。

？ＦでＱ， Ｍ， ｙｒｚ Ｒ２， Ａ，およびＪは上
に定義された同じ意味をもっている。

Ｒ５はメチル又はフエニルである。

本発明に続いて、ケーマリオン（ Ｋ，Ｍａｌ ｌ ｉ
ｏｎ ）は南ア特許明細書第７２４３７２号において、
アリール置換プロスタン酸誘導体類の合或を報告した。

式ＸＸ■化合物は、ｘｘｖｎのウィテイッヒアルキル化
によって得られる。

ウイテイツヒ試薬としては適当な２−オキソーフエニル
アルキルホスホネートのナトリウム誘導体を使用できる
。

トランスエノンラクトンが立体特異的に得られる（デイ
エツチ・フズワース（ Ｄ． Ｈ．Ｗａｄｓｗｏｒｔｈ
）等、ジャーナル オブ オーガニツク ケミストリ
（ Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ， ） ３ ０巻、６８
０頁（１９６５年）参照）。

図Ｆの式ｘｘｖｎｒ化合物類をつくるには、あるホスホ
ネート類をウイテイツヒ反応に使用できる。

これらは一般式 のものである。

式中Ｑは上に定義されたとおりで ？り、Ｒ５は１〜８個の炭素原子のアルキル、特にメチ
ルである。

ホスホネート類はこの技術に知られた方法によってつく
られ、使用される。

ワーズワース（Ｗａｄｓｗｏｒｔｈ ）等の上に引用さ
れた文献を参照。

適当なフエニル置換脂肪酸エステルをｎ−ブチルリチウ
ムの存在下にジメチルメチルホスホネートと縮合させる
のが好都合である。

この目的には、プ般式Ｑ−ＣＯＯＨの酸をその低級アル
キルエステル類、好ましくはメチル又はエチルエステル
類の形で使用する。

この目的には、メチルエステルはジアゾメタンとの反応
によって酸から容易につくられる。

上に定義されたＱの範囲内のフェニル置換をもつ種々の
鎖長の脂肪酸は、この技術に知られているか、又この技
術に知られた方法によってつくることができる。

その代わりに、式 〔式中Ｑは上に定義されたとおり〕のあるホスホラン類
のナトリウム誘導体を反応に使用できる。

これらのホスホラン類はこの技術に知られた方法によっ
てつくられ使用される。

式Ｑ−ＣＯ−ＣＨ２ハロ〔式中ハロはクロロ、ブロモ、
又はヨート〕の適当なケトン化合物をトリフェニルホス
フインと縮合させ、縮合生成物をアルカリで処理して望
むホスホラン化合物をつくるのが好都合である。

ハローケトン出発化合物は既知方法でつくられる。

例えばＱマイナスメチレン基に対応する有機ハライドを
エピハロヒドリンと反応させると、ＯＨ １ ハロを生じ、次にこれをジョーンズＱ −ＣＨ
ＣＨ２ 試薬で酸化させると、出発ハローケトン化合物がつくら
れる。

図Ｆについて続けると、式皿化合物は、 ＸＸ■の還元によってアルファとベータ異性体の混合物
として得られる。

この還元には、エステル又は酸基又は、炭素一炭素二重
結合の還元が望まし《ない時にはこれを還元しないよう
な既知のケトン性カルボニル還元剤の任意のものを使用
する。

これらの例は金属ボロハイドライド、特にナトリウム、
カリウム、および亜鉛のボロハオドライド、リチウム（
トリー第三ブトキシ）アルミニウムハイドライド、金属
トリアルコキシボロハイドライド、例えばナトリウムト
リメトキシボロハイドライド、リチウムボロハイドライ
ド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、および炭
素一炭素二重結合の還元が問題でない時には、ボラン類
例えばジシアミルボランである。

天然立体配置のＰＧ型化合物類の製造には、式ＸＸＩＸ
化合物の望む１５−アルファ型はシリカゲルクロマトグ
ラフイによって１５−ベータ異性体から分離される。

式ＸＸＩ化合物は次いで約２５℃のメタノール中でアル
カリ金属炭酸塩、例えば炭酸カリウムによってＸＸＩＸ
を脱アシル化し、続いてプロツキング基を導入して化合
物ＸＭをつくることによって得られる。

例えばビス（テトラヒドロピラニル）エーテルＸＸＩは
不活性溶媒、例えばジクロロメタン中でｐ−｝ルエンス
ルホン酸又はピリジン塩酸塩のような酸縮合剤の存在下
にジヒドロピランの反応によって得られる。

ジヒドロピランは、過剰量、好ましくは理論の４〜１０
倍量で使用される。

反応は２０〜３０℃で通常１５〜３０分で終了する。

ラクトールＸ■は、１３・１４−エチレン基を還元せず
に式ＸＸ［ラクトン又はその１５βエピマーの還元によ
って得られる。

この目的には、ジイソブチルアルミニウムハイドライド
を使用する。

反応を−６０ないし−７０℃で実施するのが好ましい。

式ＸＸ［ラクトンの１５β一エピマーは式ｎ■の１５β
異性体を使用して図Ｆの諸段階によって容易に得られる
。

式ＸｘＩＩＩ化合物は、適当なω一カルボキシアルキル
トリフエニルホスホニウムブロマイド、ＨＯＯＣ−Ａ−
ＣＨ２−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）Ｂｒ，およびナトリウムジメチ
ルスルフイニルカルバニドから誘導されるウイテイツヒ
試薬を使用して、ウイテイツヒ反応によって式■ラクト
ールから得られる。

反応を約２５℃で実施するのが好都合である。この式ｘ
ｘｍ化合物はＰＧＦ２α型又はＰＧＥ２型生成物（図Ｅ
）をつくる中間体として役立つ。

ホスホニウム化合物はこの技術に知られているか、また
は例えばω−ブロモ脂肪酸とトリフェニルホスフインと
の反応によって容易に手に入れる。

本発明は以下の調製例と実施例によって更に十分に理解
されよう。

すべての温度はせつ氏の度数でアル。

赤外線吸収スペクトルは、パーキンエルマーモデル４２
１赤外線スペクトロフオトメータによって記録されてい
る。

他に特定されなげれば、希釈されない（生の）試料が使
われている。

ＮＭＲスペクトルはハリアンＡ−６０スペクトロフォト
メーター上でデューテロクロロホルム溶液により、テト
ラメチルシランを内部標準（ダウンフィールド）として
記録されている。

質量スペクトルはＴＯ−４光源（イオン化電圧７ ０
ｅｖ）で以てアトラスＣＨ−４質量スペクトロメーター
により又はトリメチルシリル化誘導体を使用するＣＥＣ
ＩＩＯＢ高分解能質量スペクトロメーターによって記録
されている。

クロマトグラフイの溶離液フラクション収集は、溶離液
前面がカラム底に達した時に始まる。

本明細書中の「塩水」とは塩化ナ｝ ＩＪウム飽和水溶
液のことである。

薄層クロマトグラフイ（ＴＬＣ）に使われるＡ■溶媒系
は、エム．ハンバーグ（ Ｍ，Ｈａｍｂｅｒｇ ）とビ
ー．サムエルソン（ Ｂ． Ｓａｍｕｅｌｓｓｏｎ ）
、Ｊ，Ｂｉｏｌ ， Ｃｈｅｍ， ２ ４ １巻２５
７頁（１９６６年）に従って、酢酸エチルー酢酸−２・
２・４−トリメチルペンタン）一水（９０：２０：５０
：１００）からつくられる。

紫外線スペクトルはキャリー・モデル１５スペクトロフ
ォトメーターによって記録されている。

「スケリンルブＢ」とは混合異性体ヘキサン類のことで
ある。

本明細書で使われるシリカゲルクロマトグラフイは、溶
離、フラクション収集、およびＴＬＣ（薄層クロマトグ
ラフイ）によって出発材料と不純物を含まずに望む生成
物を含有することが示されたフラクションを一緒に合わ
せることを含めるものとして理解される。

調製例 １ （３−フエニルグロビル）トリフエニルホスホニウムブ
ロマイド トルエン１ ５ ０ ０ｒＩｌｌ中の（３−フロモプロ
ピル）ベンゼン５ ９ ７．３ｙト｝ Ｉ）フエニルホ
スフイン・７８６２の溶液を窒素下に１６時間加熱還流
せしめ、次いで混合物を冷却し、固体生成物をろ過によ
って分離する。

次に固体をワアリングブレンダーでトルエンによってス
ラリー状にし、ろ過によつて分離し、７０℃で１８時間
減圧下に乾燥させると、（３−フエニルプロビル）トリ
ノエニルホスホニウムフロマイド１０６８５’を生ずる
。

融点２１０．５〜２１１．５°ｃｏ 調製例 ２ （４−フエニルブチル）トリフエニルホスホニウムブロ
マイド ａ．４−フエニル−１−ブタノール。

無水エーテル１５００ｒｕｌ中の４−フエニル酪酸２０
０？の溶液をかきまぜながら無水エーテル１８００ｒＩ
Ｌｌ中のリチウムアルミニウムハイドライド４６．３グ
の懸濁液へ混合物を水浴中で冷却しながらおだやかな還
流を維持するに足る速度で加える。

添加が終ってから１５分後に、混合物を窒素下に水９３
ｒ／Ｌｌと次に１０％水酸化ナトリウム水溶液７４ｒ１
ｌｌで注意深く処理する。

混合物を約２５℃で１８時間かきまぜ、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、ろ過して減圧下に濃縮すると、４−フエニ
ル−１−ブタノール１７１ｆＩを生ずる。

赤外線吸収は３２５０１２９８０、１６１０、１０６０
１１０３０、７５０、および７００ｃｒｒＩ．−１。

ＮＭＲのピークは７．３０（シングレット）、３．６
１ （ ｝リプレット）、２．６５（マルチプレット）
および２．７５（シングレット）δ。

ｂ，（４−プロモブチル）ベンゼン。

三臭化りん（４０．５１ｒＬｌ）をＯ℃と−５℃との間
の温度に保持するように冷却しなから４−フェニル−１
−ブタノール１７１２へ滴加する。

この混合物を２５℃で１６時間放置し、氷と重炭酸ナト
リウム水溶液の混合物へ注ぐ。

混合物をヘキサンで抽出し、抽出液を水、重炭酸ナトリ
ウム水溶液、塩水で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下に濃縮すると、（４−プロモブチル）ベンゼン１
９６２を生ずる。

これを蒸留すると、１ ４ ５． ２２を生ずる。

沸点１０３〜１０３．５℃／１６朋。

ＮＭＲのピークは７１．９（マルチプレット）、３．１
４（｝リプレット）および２．４５δ。

ｃ，（４−フエニルブチル）−｝リフェニルホスホニウ
ムフロマイド。

トルエン３５０ＴＬｌ中ノ（４−フロモブチル）ベンゼ
ン１４５１とトリフエニルホスフイン１７９２の溶液を
窒素下に１６時間加熱還流する。

次に混合物を徐々に冷却し、エーテルを加えると表題化
合物の沈殿物を生ずる０これをベンゼン／エーテルで完
全に洗い、５０℃で減圧下に１８時間乾燥する。

２６８グ、融点１３９〜１４０℃。

調製例 ３ （２−フエニルエチル）トリノエニルホスホニウムフロ
マイド 実施例１０手順に従うが、（３−ブロモプロビル）ベン
ゼンの代わりに当量の（２−フロモエチル）ベンゼンを
使用して、表題化合物が得られる。

調製例 ４ （２・２−ジメチル−３−７エニルプロビル）トリフエ
ニルホスホニウムブロマイド ａ．（３−フロモー２・２−ジメチルプロピル）ベンゼ
ンー調製例２ｂの手順に従うが、４−フエニル−１−ブ
タノールの代わりに当量の２・２−ジメチル−３−フエ
ニルー１−グロパノールを使用して、（３−フロモー２
・２−ジメチルプ口ピル）一ベンゼンが得られる。

ｂ，（２・２−ジメチル−３−フエニルプロピル）トリ
フエニルホスホニウムフロマイドー調製例１０手順に従
うが、（３−プロモプロピル）ベンセンの代わりに当量
の（３−ブロモー２・２ジメチルプロビル）ベンゼンを
使用して、表題化合物が得られる。

調製例 ５ （２−カルボキシエチル）トリフエニルホスホニウムブ
ロマイド ３−プロモプロピオン酸５０Ｓ’、｝リフエニルホスフ
ィン８５．８Ｐ、およびアセトニトリル２５０ｒＩｌｌ
の混合物を還流下に２３時間加熱し、次にアセトニトリ
ル１６６ｒｆＬｌを蒸留によって除去する。

残りの溶液を室温まで冷却後、ベンゼン２５０ＴＬｌを
加え、混合物を１６時間放置する。

析出する固体をろ過によって除去すると、表題化合物１
２０．５１を生ずる。

融点１９７〜２０００ ；赤外線吸収は２９００，２６
１０，２５４０、１７４５、１６２０、１５８５、１４
８５、１４３５、１３８５、１３２５、１２３０、１１
１０、７５０、７２５、および６９０ｃｒｆＬ”。

凪■のピークは２．７〜３．３（広域）、３．５〜４．
２（広域）、および７．６〜７．９（マルチブレット）
δ。

調製例 ６ （ａ）（４−カルボキシブチル）トリフエニルホスホニ
ウムブロマイド （ｂ）（６−カルボキシヘキシル）トリフエニルホスホ
ニウムブロマイド （ｃ）（８−カルボキシオクチル）トリノエニルホスホ
ニウムフロマイド 実施例５０手順に従うが、３−フロモプロピオン酸の代
わりに当量の（ａ）５−フロモペンタン酸、（ｂ） ７
−プロモヘブタン酸、および（ｅ） ９−プロモノナン
酸を使用して、表題化合物（ａ）、（ｂ）および（ｅ）
が得られる。

調製例 ７ ３α−ペンゾイロキシ−２β一カルボキサルデヒドー５
α−ヒドロキシー１α−シクロペンタン酢酸γ−ラクト
ン（式ＸＸＶＩＩ ； Ｒ５１はフエニル）図Ｆを参
照。

１．窒素下に乾燥ピリジン１３５ｒＩｌｌ中の左旋性（
ハ）３α−ヒドロキシー５α−ヒドロキシ−４−ヨード
−２β−メトキシーメチル−１α−シクロペンタン酢酸
γ−ラクトン（イー・ジエー・コリー等、Ｊ ． Ａｍ
． Ｃｈｅｍ， Ｓｏｃ ．９ ２巻３９７頁（１９７
０年））７５？の混合物に、温度を約２０〜４０°に保
持するように冷却しながらペンゾイルクロライド３０．
４ｒｒＬｌを加える。

かきまぜを更に３０分続ける。

トルエン約２５０ｒｒＬｌを加え、混合物を減圧下に濃
縮する。

残留物を酢酸エチル１ｌに溶解し、１０％硫酸、塩水、
重炭酸ナトリウム飽和水溶液、および塩水で洗う。

酢酸エチル溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に
濃縮すると油９５２がつくられる。

油を結晶化させると、対応する３α−ペンゾイロキシ化
合物を生ずる。

融点８４〜８６℃；〔α〕Ｄ＋７°（ＣＨＣｌ３）：赤
外線スペクトル吸収は１７６８、１７２２、１ ６ ０
０，１５７０、１４９０、１２７５、１２６５、１１
８０、１１２５、１０９０、１０６０１１０３０、およ
び７ １ ０ｃｒｎ ’ 。

ＮＭＲ （核磁気共鳴）のピークは２．１〜３．４５
、３．３、３．５８、４．３８、５．１２、５．５１、
７．１８〜７．５８、および７、８３〜８．０５δ。

２． ヨード基は次のように除去される。

乾燥ベンゼン２ ４ ０ｒｕｌ中の上のペンゾイロキシ
化合物６０？の溶液に２・２′−アゾビス−（２−メチ
ルプロピオニトリル）約６０ｍｇを加える。

混合物を１５°に冷却し、これにエーテル６００ｗＬｌ
中のトリブチル錫ノ・イドライド７５１の溶液をかきま
ぜながら、約２５℃で持続的な反応を保持するような速
度で加える。

ＴＬＣの示すとおりに反応を終了した時に、混合物を減
圧下に油まで濃縮する。

油をスケリソルブＢ６００ｒｎｌおよび水６００ｒｒＬ
ｌと混合し、３０分かきまぜる。

生成物を含有する水層を分離し、次いで酢酸エチル４５
０ｒＩｌｌおよび、水相を飽和させるに足る量の固体塩
化ナトリウムと一緒にする。

生成物を含有するようになった酢酸エチル層を分離し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下に油まで濃縮する
。

沃素を含まない化合物３９１。分析試料は〔α，ｌＤ−
９９°（ ＣＨＣ ｌ ｓ ）を与える。

赤外線スペクトル吸収は１７７５、１７１５、１６００
、１５８５、１４９０，１３１５、１２７５、１１８０
、１１１０，１０７０、１０５５、１０２５、および７
１５ｃｒｒＬ’；ＮＭＲ のピークは２．５〜３．０、
３．２５、３．３４、４．８４〜５．１７、５．１７〜
５．４、７．１〜７．５および７．８〜８．０５δ。

質量スペクトルのピークは２９０，１６８、１０５、お
よび７７。

３．２β−メトキシメチル化合物は、次のようにヒドロ
キシメチル化合物に転化される。

窒素下にジクロロメタン３２０ｒｒＬｌ中の上の沃素を
含有しないメトキシメチルラクトン（２０ｆ）の冷（０
．５° ）溶液に、ジクＯＯメタ７３２０ｍｌ中の三臭
化ほう素２４．８ｒｕｌの溶液をＯ〜５°で５０分にわ
たって激しくかきまぜながら滴加する。

かきませと冷却を１時間続ける。反応がＴＬＣ に示さ
れるとおりに終了するときに、水２００ｒｆＬｌ中の炭
酸ナトリウム（７８グ、モノ水和物）の溶液を加える。

混合物を０〜５°で１０〜１５分かきまぜ、塩化ナトリ
ウムで飽和させ、酢酸エチル層を分離する。

水層の追加の酢酸エチル抽出液を主酢酸エチル溶液と一
緒にする。

一緒にした溶液を塩水で洗い、硫酸ナ｝ＩＪウム上ツ乾
燥し、減圧下に油の２β−ヒドロキシメチル化合物の１
８．１ｆ！まで濃縮する。

分析試料は融点１１６〜１１８℃：〔α，ｌＤ−８０°
（ＣＨＣｌ３）：赤外線スペクトル吸収は３４６０，１
７３５、１７０８、１６００、１５８０，１４９０，１
３２５、１３１５、１２８０、１２０５、１１１５、１
０９０，１０７０，１０３５、１０２５、７３０、およ
び７２０ｏＮＭＲのピークは２．１〜３．０、３．５８
、４．８３〜５．１２、５．２〜５．４５、７．１５〜
７．５５および７．８〜８．０ δ。

ｄ．表題の２β一カルボキサルデヒド化合物は次のよう
につくられる。

乾燥ジクロロメタン１５０ｒｆＬｌとコリンズ試薬（ジ
エー・シー・コリンズ（ Ｊ， Ｃ， Ｃｏｌｌｉｎｓ
）他、テトラヘドロン・レターズ第３３６３号（１９
６８年）２８グ）の混合物に約１００で窒素下に、ジク
ロロメタン１５０ｒ／Ｌｌ中の上のヒドロキシメチル化
合物５．０ Ｐの冷（１００）溶液を激しくかきまぜな
がら加える。

更に５分間かきまぜてから、乾燥ベンゼン約１００ｒ／
Ｌｌを加えて、混合物をろ過し、溶液を減圧下に濃縮す
る。

ベンゼンで容量を約１ ５ ０ｒＩＬｌにする。

表題化合物の溶液を直接に使用する。

繰返し実験で、コリンズ試薬をその場でつくり、同様な
結果が得られる。

調製例７０手順に従うが、光学活性ヨードラクトンの代
わりに対応するラセミ化合物（イー・ジエー・コリー等
、Ｊ，Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ，９ １巻５６７５頁（
１９６９年））を使用して、式ＸＸＶＩ［に対応するラ
セミ化合物が得られる。

調製例 ８ ジメチル２−オキソー４−フエニルブチルホスホネート ６５°のテトラヒドロフラン２．ＩＪ中のジメチルメチ
ルホスホネー｝１１５．５Ｓ’の溶液に、ヘキサン中の
ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍ溶液６６０ｒｆＬｌを加
え、次にテトラヒドロフラン２２５−中のエチルヒドロ
シンナメー｝９３．５Ｐの溶液を加える。

混合物を−６５°で２時間かきまぜ、次に２５°でかき
まぜを１６時間続ける。

酢酸７０ｒＩ′Ｌｌを加え、溶液を減圧下に濃縮し、残
留物を塩化メチレンと水の間で分配する。

有機層を乾燥し、濃縮し、２ｍｍで蒸留すると、表題化
合物１２１．５Ｓ’を生ずる。

沸点１８４〜１９５、質量スペクトル２５６（Ｍ＋）。

調製例 ９ ジメチル３・３−ジメチル−２−オキソー４フエニルブ
チルホスホネート １．テトラヒドロフラン１２５ｒｒＬｌのジイソプロビ
ルアミン１０１．２Ｐの溶液に００で窒素下に、ヘキサ
ン６２５ＴＬｌ中のｎ−ブチルリチウムの溶液および次
にイソ酪酸４４２を加える。

混合物を００で９０分かきまぜ、次に−１５°に冷却し
、温度を−５℃より下に保持しながら塩化ベンジル６０
ｒｎｌを加える。

混合物を２５°で４時間かきまぜ、次にエーテルで希釈
し、冷希釈塩で洗う。

有機相を塩水で洗い、乾燥し、濃縮して蒸留すると、２
・２−ジメチル−３−フエニルプロピオン酸４８２を生
ずる。

２．第１部の生或物４８グと塩化チオニル８２２を２時
間加熱し、次に混合物を濃縮し、ベンゼン５０１７ＬＡ
’を加え、混合物を濃縮して蒸留すると、２・２−ジメ
チル−３−フエニルプロピオニルクロライド４８．２Ｓ
’を生ずる。

３．窒素下に−７５°でテトラヒドロフラン６００ｒＩ
Ｌｌ中のジメチルメチルホスホネート６３１の溶液に、
温度を−５５°より低くに保持しながらヘキサン中の１
． ６ Ｍｎ−ブチルリチウム３１２ｒＩＬｌを加える
。

テトラヒドロフラン中の２・２−ジメチル−３−フエニ
ルプロピオニルクロライド（第２部、４８．２Ｓ’）の
溶液を−６０℃以下の温度を保ちながら加える。

混合物をその温度で２時間かきまぜ、次に温度を２５℃
に上るようにし、混合物をこの温度で１６時間かきまぜ
る。

酢酸２０ｍを加え、混合物を濃縮し、残留物をジエチル
エーテルー塩化メチレンの混合物（３：１ｖ／ｖ）およ
び重炭酸ナトリウムの冷希溶液と一緒に振とうさせる。

有機層を分離し、塩水で洗い、乾燥して濃縮する。

残留物をジエチルエーテルから結晶化させると、表題化
合物６２２を生ずる。

融点４８〜５１°、ＮＭＲのピークは７．２、３．８３
と３．６４、３．２８と２．９、２．８および１．１３
δ。

以下の実施例１〜１２は図Ｂ，Ｃ，ＤおよびＥに示す化
合物類の製造を例示したものである。

実施例 １ エンド−６−（４−フエニルーシス−１ −７’テニル
）一エキソー３−ヒドロキシビシクロ〔３・１・Ｏ〕−
ヘキサンーエキソ−２−酢酸、γラクトン（式■：Ｑは
ー（ｃＨ２）２Ｃ６Ｈ５）図Ｂを参照。

ベンゼン１．２１Ｊ中にラクトンアルデヒド、エンド−
６−ホルミルーエキソ−３ヒトロキシ−ビシクロ〔３・
１・Ｏ〕−ヘキサンーエキソ−２−酢酸γ−ラクトン（
式■）（米国特許第３７１１５１５号、１９７３年１月
２６日、式■；アール・シー・ケリー（ Ｒ， Ｃ．
Ｋｅｌｌｙ ）等、Ｊ， Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ
．９ ５巻２７４６頁（１９７３年））１０１を溶解
する。

（３−フエニルプロビル）トリフエニルホスホニウムブ
ロマイドとベンゼン３Ｊを別のフラスコに別個に入れ、
これにヘキサン中のｎ−ブチルリチウムの１５％溶液６
８５ｒｒＬｌを中程度の速度で滴加しながらかきまぜる
。

オレンジ色の混合物を、添加が終了してから１５時間か
きまぜる。

かきまぜをとめてから混合物を落付かせ、上澄み液を吸
上げ、かきまぜながらラクトンアルデヒドのベンゼン溶
液に、１時間当り８００ｍｌないし１０００ｒｒＬｌの
速度で、赤色が持続するまで加える。

反応の進展はＴＬＣで照合され、反応が終了してから、
溶液を濃縮し、スケリソルブＢ（ＳＳＢ）中の５％酢酸
エチルで詰めたシリカゲルカラム上でクロマトグラフイ
処理する。

溶離を次のように行なう。（１）ＳＳＢ中の５％酢酸エ
チル４ｌ、（２） Ｓ Ｓ Ｂ中の１０％酢酸エチル４
ｌ，（３）ＳＳＢ中の１０％酢酸エテル６ｌ、（４）
Ｓ Ｓ Ｂ中の１５％酢酸エチル６ｌ、および（５）Ｓ
ＳＢ中の２５％酢酸エチル８ｌ０所望の化合物を含有す
るフラクション・（３）、（４）、および（５）を一緒
にして濃縮すると、油状表題化合物１５５グを生ずる。

ＩＲ吸収は１７７５、１ ６ ０ ０，１４９５、１２
３０，１１７５、１０４５、１０３０１９２０、７４５
、７００ｃｍ”ＮＭＲのピーク（ＣＤＣｌ３）は７．０
８、５．６、４．８、４．４、２、２〜２．７、１ｏ９
２、１．２〜１．５８δ。

実施例１０手順に従うが、光学活性三環式アルデヒドラ
クトンの代りに、その化合物およびその鏡像とのラセミ
体混合物を使用して、対応するラセミ体混合物が得られ
る。

実施例 ２ エンド−６−（１＠）・２（Ｓ）一ジヒドロキシ−４−
フエニルブチル〕一エキソー３−ヒドロキシビシクロ〔
３・１・Ｏ〕−ヘキサンーエキソ−２−酢酸、γ−ラク
トン（式Ｘ：Ｑは −（ ＣＨ２）２Ｃ６Ｈ５ ） 図Ｂを参照。

アセトン５００ｗＬｌと水５Ｑｄ中における実施例１の
式■生成物１５５ｆの溶液に、テトラヒドロフラン２．
５ｒｆＬｌ中の四酸化オスミウム２５０ｍ９を加える。

アセトン２００ｄと水３１４就中のＮ−メチルモルホリ
ンオキサイド水和物９４２の溶液を２５°の反応温度に
保持しながら反応混合物へかきまぜながら加え、混合物
をその温度で６，５時間かきまぜ、ＴＬＣで照合させる
と？りに反応を終了させる。

混合物を４０°の浴中で、真空下に濃縮し、アセトンの
ほとんどを除去する。

残留物を１０％塩酸で３〜４のｐＨに酸性にし、次に酢
酸エチルで抽出する。

抽出液を塩水で洗い、乾燥して減圧下に蒸発させる。

残留物を塩化メチレンに溶解し、次にスケリソルブＢ（
ＳＳＢ）中の６０％酢酸エチルを詰めたシリカゲルカラ
ム上でクロマトグラフイ処理する。

溶離は次のように酢酸エチルとＳＳＢ で行なう。

（１）ＳＳＢ中の６０％酢酸エチル３５ ｌ，（２）Ｓ
ＳＢ 中の８０％酢酸エチル１ ５ ，ｇ， （３）Ｓ
ＳＢ中の８０％酢酸エチル２８ｌ、（４） Ｓ Ｓ Ｂ
中の８０％酢酸エチル４ｌ、（５）ＳＳＢ中の８０％酢
酸エチル８ｌ、および（６）酢酸エチル中の１０％メタ
ノール３５ｌ０フラクション（３）から表題化合物８８
２が回収される。

赤外線吸収は３４３０、１７６０，１６００，１４９５
、１４５０、１４１５、１ ３ ６ ０１１３３５、１
２９５、１２６０，１２３０，１１８５、１０９５、１
０３０、９２５、７５０１７０５；ＮＭＲのピークは（
ＣＤＣＩ３）７．２、４．７５、３．６５、２．５−３
．１、１． ０ − ２． ５δおよび質量スペクトル
のピークは３０２、１８０、１５０、１４９、１２１、
１０８、１０７、９３、９２、９１、７９。

実施例２０手順に従うが、光学活性三環式ラクトンの代
りに、その化合物およびその鏡像とのラセミ体混合物を
使用して、対応するラセミ体混合物が得られる。

実施例 ３ エンド−６−〔１（Ｒ）・２（Ｓ）一ジヒドロキシ−４
７エニルプテルエチルオルトプロピオネート〕−エキソ
ー３−ヒドロキシビシクロ〔３・１・０〕−ヘキサンー
エキソ−２−酢酸、γ−ラクトン（式ＸＩ；Ｑはー（
ＣＨ２ ）２ Ｃａ Ｈ５ ： ＲａとＲ４２は−Ｃ２
Ｈ，） 図Ｂを参照。

実施例２のβ−グリコール式Ｘ生成物８８ｆ！をベンゼ
ン１ｌに溶解し、次に真空下に蒸発させる。

残留物にトリエチルオルトプ口ピオネート８７ｒｒＬｌ
およびベンゼン１ｌを７ＪＯｔ、次にベンゼン約２５０
ｒｆＬｌを真空下の蒸発によって除青する。

ピリジン塩酸塩０．６ｆＩを加え、混合物を２５°で約
１時間放置する。

トリエチルアミン３滴を加え、次に反応混合物を真空下
に蒸発させると、油状表題化合物１１０２を生ずる。

表題化合物は、トリエチルアミンでプレスポットされ、
５０％酢酸エチルーシクロヘキサン中で展開されるシリ
カゲル上で０．５７のＲｆ値をもつ。

実施例３の手順に従うが、光学活性三環式ラクトングリ
コールの代りに、その化合物およびその鏡像とのラセミ
体混合物を使用して、対応するラセミ体混合物が得られ
る。

実施例 ４ ３α一（ホルミロキシ）−５α−ヒドロキシー２β−（
（３Ｓ）−３−プロピオニロキシ−５−７エニルートラ
ンス−１−ペンテニル〕１α−シクロペンタン酢酸、γ
−ラクトン（式■；Ｑはー（ ＣＨ２ ） ２ Ｃａ
Ｈ５、Ｒ４１は−Ｃ２Ｈ５）図Ｂを参照。

ぎ酸４４０ｒｆＬｌを無水酢酸８． ８ ｒｎｌと２０
分間かきまぜる。

フラスコに乾燥窒素を流し、約１０’に冷却する。

次に実施例３の粗環式オルトプロピオネート式Ｍ生成物
１１０１を激しくかきまぜたぎ酸中にすばやく注ぎ、塩
化メチレン約４０ｗＬｌでゆすぐ。

かきまぜを４分間続け、次に水酸化ナトリウム（ＩＮ、
６００ｒｒＬｌ）を加える。

混合物を塩水１．５ｌで希釈し、塩化メチレンで抽出す
る。

抽出液を重炭酸ナトリウムの飽和水溶液と次に塩水で洗
う。

混合物を乾燥して濃縮すると、油を生ずる。

ＮＭＲのピーク（ＣＤＣｌ３）は、７．８７、７．１、
５．５、４．６〜５．３、２．２および１．１０この油
を次の実施例に精製せずに使用する。

実施例４の手順に従うが、光学活性環式ラクトンオイル
プロピオネートの代りに、その化合物およびその鏡像と
のラセミ体混合物を使用して、対応するラセミ体混合物
が得られる。

実施例 ５ ３α・５α−ジヒドロキシ−２β−（（３Ｓ）−３−ヒ
ドロキシ−５−フエニルートランス−１−ペンテニル〕
−１α−シクロペンタン酢酸、トリオール酸（式ＸＩＶ
： Ｑは−（ ＣＨ２）２Ｃ６Ｈ５ ）図ＢとＣを参
照。

実施例４の粗ラクトン生成物をメタノール８７５ｒＩＬ
ｌと混合し、次にＩＮ水酸化ナトリウム８７５ｒ／Ｌｌ
を加え、混合物を２５℃で１時間かきまぜる。

混合物を減圧下に４０°浴中で約９００ｒｒＬｌに濃縮
する。

次に混合物を塩化ナトリウムで飽和させ、約１００に冷
却する。

水溶液を酢酸エチルで覆い、たえずかきまぜて冷却しな
がらｐＨ ５まで１０％りん酸によって徐々に酸性化す
る。

相分離をし、酢酸エチルで抽出する。水相を再び酢酸エ
チルで覆い、さらに１０％りん酸でｐＨ４に酸性化する
。

相分離をし、再び酢酸エチルで抽出する。

一緒にした有機抽出液を塩水で洗い、乾燥し、ろ過して
、結晶化が十分に始まるまで回転蒸発器上で濃縮する。

混合物を−１００で１６時間冷凍する。

結晶をろ過し、冷酢酸エチルースケリソルプＢ（３：１
）で洗い、５０’で真空下に乾燥させると、表題化合物
５７．５９を生ずる。

融点１２５〜１２７℃ｏＩＲ吸収（マル）は３３９０，
３２６０、２７３０，２６６０、３６３０、１７１０，
１６００、１４９５、１３５０、１３４０，１３０５、
１２７５、１２４０１１１９５、１１２５、１０７５、
１０５０、１０３５、９９５、９７０、９６５、９４０
、７５０， ７００ｃｒｒｔ ’。

実施例５の手順に従うが、光学活性ラクトンの代りにそ
の化合物およびその鏡像とのラセミ体混合物を使用して
、対応するラセミ体混合物が得リ妬。

実施例 ６ ３α．５α−ジヒドロキシ−２β−（（３Ｓ）−３−ヒ
ドロキシ−５−７エニルートランスー１−ペンテニル〕
−１α−シクロペンタン酢酸γ−ラクトン（式■；Ｑは
ー（ ＣＨ２ ） ２ Ｃａ Ｈ５ ）図Ｃを参照。

実施例５で得られる結晶性トリオール酸（１４．４５’
）とクロロホルム４５０ｒｒＬｌを含有するフラスコに
、塩化メチレン中のどリジン塩酸塩飽和溶液５１７１Ａ
！を加える。

混合物をかきまぜ、ラクトンＸ■の形或が終了したこと
をＴＬＣ Ｃ酢酸：メタノール：クロロホルム−１０：
１０：８０）が示すまで、加熱還流させる。

次に混合物を室温に冷却する。

表題化合物を単離せず、粗生放物を次の実施例に直接に
使用する。

その融点は５１〜５３℃。

ＩＲ吸収（マル）は３３２０，１７６５、１６６５、ｌ
６２５、１６００、１４９５、１１６０、１０８５、１
０ ６ ０，１０４０、１０００，９７０，７００ｍ
０実施例６の手順に従うが、光学活性トリオール
酸の代りに、その化合物およびその鏡像とのラセミ体混
合物を使用して、対応するラセミ体混合物が得られる。

実施例 ７ ３α・５α−ジヒドロキシ−２β一（（３Ｓ）−３−ヒ
ドロキシ−５−フエニルートランス−１−ペンテニル〕
−１α−シクロペンタン酢酸、γ−ラクトン、４・３′
−ビス（テトラヒド口ピラニル）エーテル（式ＸＸ［
； Ｑは （ＣＨ２）２Ｃ６Ｈ５、Ｊはテトラヒドロピラニルおよ
びーＣ一はーＣ ） 図Ｅを参照。

２５°で実施例６の生放物にジヒドロキシピラン５０ｍ
ｌおよび塩化メチレン５ｒＩｌｌ中のピリジン塩酸塩の
飽和溶液を加える。

ＴＬＣ（５０％酢酸エチルースケリソルブＢ）によって
照合された時にビステトラヒドロピラニルエーテルの形
或が終了するまで混合物を２５°でかきまぜる。

反応混合物を重炭酸ナトリウム飽和溶液、次に塩水で洗
い、乾燥し、ろ過して液体を真空下に濃縮する。

油３４１が得られる。ＩＲ吸収は１７７５、１４４０，
１４２５、１３３５、１１９５、１１５０，１１２０、
１０７０、１０３０，１０１５、９７０、９１０、９０
０、８６５、８１５、７５５、および７０５ＣＩｒＬ−
１。

実施例７０手順に従うが、光学活性シクトンの代りに、
その化合物およびその鏡像とのラセミ体混合物を使用し
て、対応する混合物が得られる。

実施例 ８ ３α・５α−ジヒドロキシ−２β一〔（３Ｓ）一３−ヒ
ドロキシ−５−フエニルートランス＝１−ペンテニル〕
−１α−シクロペンタンーアセトアルデヒドーγ−ラク
トール、４・３ｌ−ビス（テトラヒドロピラニルエーテ
ル（式■：Ｑは−（ ＣＨ２ ） ２ Ｃａ Ｈ５、Ｊ
はテトラヒドロピラ図Ｅを参照。

−５０°のトルエン１５０ｒＩｌｌ中における実施例７
の生成物３４ｆＩの溶液にジイソブチルアルミニウムハ
イドライド（１５０ｒｆＬｌ１トルエン中の１０％溶液
）を１５分にわたって加える。

ＴＬＣ（５０％酢酸エチルーシクロヘキサン）によって
照合される時に反応が終丁するまで、反応混合物を更に
１０分間かきまぜる。

反応混合物を冷却浴から除去し、テトラヒドロフラン６
０ｒｆＬｌと水６０ｒ／Ｌｌの混合物を１０〜１５分に
わたって徐々に加える。

混合物が室温に達するまでかきまぜる。混合物をろ過し
、フィルターケーキをベンゼンで洗う。

ろ液を塩水で洗い、次に乾燥して、真空下に濃縮する。

油状ラクトール生成物３１ｇが得られる。

ＩＲ吸収は３４００、１４４０，１３４０１１２００、
１１７５、１１２０、１ ０ ７ ０，１０２０、９７
０、８７０，８１５、７３５、および７００ｃｎＬ ’
。

実施例８０手順に従うが、光学活性式■化合物の代りに
、その化合物およびその鏡像とのラセミ体混合物を使用
して対応するラセミ体混合物が得られる。

実施例 ９ １７−フエニル−１８・１９・２０一トリノールーＰＧ
Ｆ２α・１１・１５−ビス（テトラヒドロピラニル）エ
ーテル（式ＸＸ［ＩＩ；Ｑは−（ＣＨ２）２Ｃ６Ｈ５、
Ｊはテトラヒドロピラニ図Ｅを参照。

実施例８０油状ラクトール生成物（３１Ｐ）をジメチル
スルホキシド３５ｒＩｌｌに溶解する。

別にジメチルスルホキシド３２０ｒｕｌに窒素雰囲気下
に水素化ナトリウム（１８．９Ｐ、５０％分散液）をか
きまぜながら加え、混合物を加熱し、反応が終了するま
で６０〜７０’で反応させる。

反応混合物を１０℃に冷却し、カルボキシブチルトリフ
エニルホスホニウムブロマイド（調製例６、８７グ）を
加え、その間、温度を３５°より低くに保持すると、ウ
イテイツヒ反応溶液を形成する。

この溶液を１５℃に冷却し、次に１５分にわたってラク
トール溶液を滴加し、その間温度を１５〜３００に保持
する。

この反応混合物をかきまぜ、ベンゼン８００ｒＩｌｌと
混合し、氷を添加して冷却し、次にこれに水６５０ｒｆ
Ｌｌ中の硫酸水素カリウム６０グの溶液を振とうしなが
ら加える。

相を分離させ、有機（上）相を除去し、水相をベンゼン
で洗い、有機相を一緒にする。

一緒にした有機相を水洗し、乾燥し、ろ過して濃縮する
。

生ずる油状生戒物を酸洗いしたシリカゲル３５０２上で
クロマトグラフイ処理する。

溶離は（１）ＳＳＢ中の３３％酢酸エチル１．７５１、
（２）ＳＳＢ中の３３％酢酸エチル０． ２ ５ ７、
（３）ＳＳＢ中の４０％酢酸エチル２ｌ、（４） Ｓ
Ｓ Ｂ 中の５０％酢酸エチル０．５ｌ、（５）ＳＳＢ
中の５０％酢酸エチル１．５ｌ、および（６）ＳＳＢ中
の６０％酢酸エチル２ｌで実施される。

フラクシヨン（３）と（４）は表題化合物２５２を生ず
る。

フラクション（１）と（２）、およびフラクション（５
）と（６）からの再結晶生成物を同一条件下に再クロマ
トグラフイ処理し、表題化合物の追加２．４５９が得ら
れる。

望む生成物のフラクションを一緒にし、３５〜４０℃の
真空下に濃縮し、青味がかった黄色の油２６．４２が得
られる。

ＮＭＲのピーク（ ＣＤＣ ｌ ３）は７．２、６．３
、５．３〜５．７、４．７、および３．３〜４．２ δ
。

実施例９の手順に従うが、光学活性ラクトール生放物の
代りに、その化合物およびその鏡像とのラセミ体混合物
を使用して、対応するラセミ体混合物が得られる。

実施例 １０ １７−７エニル−１８・１９・２０−トリノル−ＰＧＦ
２α（式ＸＸ［Ｖ； Ｑは−（ ＣＨ２ ） ２ Ｃ６
Ｈ５、Ａはー（ ＣＨ２）３− ） 図Ｅを参照。

実施例９の１７−フエニルＰＧＦ２αビス（テトラヒド
ロピラニル）エーテル生或物６．９５Ｐを酢酸８０一に
溶解し、この溶液を水４０ｍｌとテトラヒドロンラン４
ｒｕｌで希釈する。

溶液を４０℃に加熱し、この温度に４時間放置する。

次に溶液を塩水４５０ｒＩｌｌで希釈し、クロロホルム
１００分量で４回抽出する。

始めの３抽出液を一緒にし、塩水で３回洗う。

一緒にした塩水洗浄液を第４のクロロホルム抽出液で逆
洗浄する。

クロロホルム抽出液全部を一緒にし、乾燥し、ろ過して
濃縮すると、油を生ずる。

油を塩化メチレン中に溶解し、ＳＳＢ中の５０％酢酸エ
チルと一緒に詰めた酸洗いされたシリカゲル１５０Ｓ’
上でクロマトグラフイ処理する。

溶離を次のように行なう。

（１）ＳＳＢ 中の５０％酢酸エチル５００ｒｆＬｌ１
（２）ＳＳＢ中の７５％酢酸エチル５ ０ ０ＴＬｌ，
（３）１００％酢酸エチル５００ｒｒＬｌ、（４）酢
酸ｘ −Ｆ−／ｌ／ ト２．５％メタノール２５０−、
（５）酢酸エチルと２．５％メタノール２５０ｒｕｌ、
（６）酢酸エチルと５％メタノール５００−、（７）酢
酸エチルと７．５％メタノール５００ｒｒＬｌ，および
（８）酢酸エチルと１０％メタノール５００ＴＬｌ０フ
ラクション（５）、（６）、および（７）は所望の１７
−フエニルＰＧＦ２α表題生成物１．９ ７ ４２を生
じる。

フラクション（４）と（８）を再クロマトグラフイ処理
すると、所望の１７−フエニルＰＧＦ２α表題化合物１
．３０２Ｐが得られる。

蒸発後の生或物は非常に粘性なほぼ無色のゴムである。

これを酢酸エチルーＳＳＢ から再結晶する。

融点７９〜８０’Ｃを有し、ＩＲ吸収（マル）は３４３
０、３３４０、２９５０ｂ，２６３０、１６９５、１６
００１ １４９５、１２７５、１２４５、１１００，１
０００、９７５、６９５ＣＴＬ ０ＮＭＲ のピーク
（ＣＤＣｌ３）は７。

２、５．６８−、５．４５、および４．１δ。

実施例１００手順に従うが、光学活性１７−フエニルＰ
ＧＦ２αビス（テトラヒドロヒラニル）エーテルの代り
に、その化合物およびその鏡像とのラセミ体混合物を使
用して、対応するラセミ体混合物が得られる。

参考例 １ （１５Ｒ）−１５−メチル−１７−フエニルー１８・１
９・２０−トリノルーＰＧＦ２α・メチノレエステノレ （１５Ｓ）−１５−メチルーｌ７−フエニル−１８・１
９・２０−トリノルーＰＧＦ２α・メチノレエステノレ １・４−ジオキサン３０ｒＩｌｌ中の１７−フェニルー
ＰＧＦ２α１．１６５タの溶液に２・３−ジクロロ５・
６−ジシアノ−１・４−ペンゾキノン８ １ ７１ｎ９
を加える。

反応混合物を窒素雰囲気下に２５°で７２時間かきまぜ
る。

混合物をろ過し、固体を塩化メチレンで洗う。

溶液を濃縮し、酢酸エチルとスケリソルプＢ（５０：５
０）で詰めた酸洗いシリカ１４０？上でクロマトグラフ
イ処理する。

溶離は（１）酢酸エチルとスケリソルブＢ（５ｏ：５ｏ
）３Ｊ，（２）酢酸エチル３Ｊ，および（３）酢酸エチ
ル３ｌと１０％メタノール１．ｅである（１００ｒｒＬ
ｌフラクション）。

溶離フラクション１６〜７３を一緒にし、木炭フィルタ
ーで処理し、１５−ケトー１７−７エニルー１８・１９
・２０一トリノルーＰＧＦ２α１．０４５グに濃縮する
。

テトラヒドロフラン中の１５一ケトー１７−フエニルー
ＰＧＦ２αの溶液にヘキサメチルジシラザン２２ｒｎｌ
！とトリメチルクロロシラン５ｒＩｌｌを加え、混合物
を窒素下に２５℃で１８時間かきまぜる。

溶液を濃縮し、残留物をキシレン中に溶解し、ろ過して
濃縮すると、油状生成物、１７−フエニル−１８・１９
・２０−トリノルーＰＧＦ２αのトリメチルシリル誘導
体１．６２を生ずる。

油状生成物をジエチルエーテル５０ＴｒＬｌ中に溶解し
、窒素下に００に冷却し、これに３Ｍエーテル性メチル
マグネシウムフロマイド１．５ｒＩＬｌを滴加する。

反応混合物を室温まで暖まるようにし、ケトンが残って
いないことをＴＬＣによって確かめる。

混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液および水中に注ぎ
、ジエチルエーテルで抽出する。

有機層を塩水で洗い、乾燥して濃縮すると、第三級アル
コール１．６２、すなわちＣ−１５エピマー類の（ １
５Ｒ）−１ ５−メチル−１７−フエニル−１８・１９
・２０−トリノルＰＧＦ２αと（１５Ｓ）−１５−メチ
ル−ｌ７−フエニルー１８・１９・２０−トリノルーＰ
ＧＦ２αの混合物を生ずる。

エピマー類混合物をエタノール６０ｍ−ｌ中に溶解し、
水４０−で希釈し、室温で３時間かきまぜる。

エタノールを除去するために溶液を濃縮し（最高温度３
５°）、残留物に重硫酸カリウムを加え、次に混合物を
酢酸エチルで抽出する。

有機層を塩水で洗い、乾燥して濃縮し、次にエーテル性
ジアゾメタンでエステル化する。

生或物を、１０％アセトンおよび塩化メチレンで詰めた
中性シリカ１５０２上でクロマトグラフィ処理七、（１
）１０％アセトンと塩化メチレン３ｌ、（２）４０％ア
セトンと塩化メチレン３ｌ、および（３）５０％アセト
ンと塩化メチレン２ｌを使用して溶離する（１００ｗＬ
ｌフラクション）。

フラクション５３〜５８を一緒にすると、（１５Ｒ）
−１５−メチル−１７−フエニル−１８・１９・２０一
トリノルーＦＧＦ２αメチルエステル１６１■を生ずる
。

ＩＲ吸収は３３８０、１７３５、１６００、１４９５、
１４５５、１４４０，１３７０，１２２５、１１７０、
１１５５、１１２０、１０９５、１０６０、１０３０、
９７５、９２５、７５０、および７ ０ ５ｃｒＩＬ”
。

ＮＭＲのピーク（ＣＤＣ１３）は７．１９、５．７５〜
５．０５、４．３０〜３，７０、３．６２、■．３２δ
。

持続的な溶離は生或物２２０■を生じる。

これを酢酸エチルースケリソルブＢから再結晶させると
、１５（Ｓ）−１５−メチル−１７−７エニルー１８・
１９・２０一トリノルＰＧＦ２αメチルエステル８８■
を生ずる。

ＩＲ吸収は３２９０、１７３０、１６００、１５８５、
１４９５、１３１５、１２２５、１１７５、１１０５、
１０４０， ９７５、９１０、７４５、７４０、および
７００ｃＩｒＬ ’．ＮＭＲのピーク（ＣＤＣ１３）は
７．４５〜７、１０、５．８５〜５．３ ０， ４．３
０〜３．８ ０， ３．６ ８および１．３８δ。

本発明は特許請求の範囲に記載の方法であるが、以下の
態様を包含する。

１．段階（ｃ）が、グリコールをオルトエステルと反応
させて光学活性の環式オルトエステル又はこのエステル
とその鏡像とのラセミ化合物をつくり、次に環式オルト
エステルをぎ酸と反応させて光学活性のジオールジエス
テル、又はこのエステルとその鏡像とのラセミ化合物を
つくり、かつ前記ジオールジエステルのアシル基を水素
と置換することからなる、特許請求の範囲第１項に記載
の方法。

２．グリコールがエンド立体配置にある、前記第１項の
方法。

３．段階（Ｃ）がグリコールをぎ酸と反応させて光学活
性のグリコールのジホルメート、又はこの化合物とその
鏡像とのラセミ化合物をつくり、次にジホルメートのホ
ルミル基を水素と置換することからなる，特許請求の範
囲第１項に記載の方法。

４．グリコールがエンド立体配置にある、前記第３項の
方法。

５．段階（ｅ）が、グリコールをオルトエステルと反応
させて光学活性の環式オルトエステル又はこのエステル
とその鏡像とのラセミ化合物をつくり、次に環式オルト
エステルをぎ酸と反応させて、光学活性のジオールジエ
ステル又はこのエステルとその鏡像とのラセミ化合物を
つくり、かつジオールジエステルのアシル基を水素と置
換することからなる、特許請求の範囲第２項に記載の方
法。

６．グリコールがエンド立体配置にある、前記第５項の
方法。

７．段階（ｅ）がグリコールをぎ酸と反応させて光学活
性の前記グリコールのジホルメート、又はこの化合物と
その鏡像とのラセミ化合物をつくり次に前記ジホルメー
トのホルミル基と水素と置換することからなる、特許請
求の範囲第２項に記載の方法。

８．グリコールがエンド立体配置にある、前記第７項の
方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １式 低級アルキレンである）であり、 ロフラニルであり、Ｍ／は Ｊはテトラヒド 上記定義のとおり）である〕の光学活性化合物またはこ
   の式とその鏡像とのラセミ化合物から出発し、かつ化合
   物をＯＪ基からヒドロキシ基への転化にかげることから
   なる、 式 〔式中Ａ，Ｑは上の定義のとおりであり、かつＭは ／
   〜、 または７・＼ （Ｒ３は上記定義Ｒ３ ０Ｈ
   Ｒ３ ０Ｈ のとおり）である〕の光学活性化合物、又はこの式とそ
   の鏡像とのラセミ化合物の製法。 ２（ａ） 〔式中〜はエキソ又はエンド立体配置でのこの部分のシ
   クロペンタン環に対する結合を示す〕を式でありここで
   ーＣｔＨ２ｔ−は低級アルキレンであり、φはフエニル
   である〕のウイテツヒ試薬と反応させてアルケンを生成
   せしめ、 （ｂ） アルケンをヒドロキシル化してグリコールを
   生戒せしめ、 （ｅ） 上記グリコールを転化してＳおよびＲ立体配置
   の二環式ラクトンジオールを生成せしめ、（ｄ） Ｓ
   およびＲ立体配置の上記ジオール類を分離し、 （ｅ） 上記ジオールのヒドロキシルの水素をプロツ
   キング基で置換して、ビスエーテルを生成せしめ、 （ｆ） ラクトンのオキン基をヒドロキシ基に還元し
   、（ｇ） 式φ３Ｐ＝ＣＨ−Ａ−ＣＯＯＨ Ｃ式中
   φは上の定義のとおりであり、またＡは低級アルキレン
   を表わす〕の化合物によるウイテイツヒアルキル化を行
   ない、 （ｈ） プロツキング基を水素で置換してヒドロキシ
   基を生戒せしめる段階からなる、 水素である）であり、ＡおよびＱは前の定義のとおりで
   ある〕の光学活性化合物またはこの式とその鏡像とのラ
   セミ化合物の製法。