JPS5839028A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPS5839028A
JPS5839028A JP56137432A JP13743281A JPS5839028A JP S5839028 A JPS5839028 A JP S5839028A JP 56137432 A JP56137432 A JP 56137432A JP 13743281 A JP13743281 A JP 13743281A JP S5839028 A JPS5839028 A JP S5839028A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
base layer
transistor group
type base
darlington
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56137432A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasumasa Tsunekawa
恒川 安正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP56137432A priority Critical patent/JPS5839028A/ja
Publication of JPS5839028A publication Critical patent/JPS5839028A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W10/00Isolation regions in semiconductor bodies between components of integrated devices
    • H10W10/01Manufacture or treatment
    • H10W10/031Manufacture or treatment of isolation regions comprising PN junctions
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W10/00Isolation regions in semiconductor bodies between components of integrated devices
    • H10W10/30Isolation regions comprising PN junctions

Landscapes

  • Element Separation (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、バイポーラ型FROM系(PLA。
FPLA等も含む)に係シ、特にその書込系の構造に関
するものである。
PROM系の書込回路として用いられるPNPN回路胆
通常4ケめるいはそれ以上同一分離領域内につくられる
。(以下説明の為に4ケの場合を考える)セルに対する
賓込時には、それら4つのPNPN回路のうちの一つが
選択されセル書込を実現するのであるが、選択され九P
NPN回路と残りの非選択のそれとの間に、寄生PNP
 ト7ンジスタを介し危干渉が起シ、書込誤動作を生じ
書込歩留be低下させるということがあつ九。
PNPN回路は、PNP)2ンジスタとダーリントン型
トランジスタとで構成されている。
セル書込時にはこれらの一つだけが選択式れて100?
F1人位の大電流をセルに流し書込を実現するのでらる
が、書込時の多大な電流の几めに、PNPトランジスタ
のエイツタから注入された比較的多数のキャリヤが非選
択状態の他の3本のダーリントントランジスタのベース
に到達し果状され、ダ−IJ y ) y )ランジス
タtオンさせ、選ばれたPNP)ランジスタと非選択ダ
ーリントンとの間に分流がおこシ、非選択セルを書込ん
だシ、選択セルが書込不能になるという書込誤動作を生
じることがTo−1)九。
本発明は、書込誤動作の原因となるかかるPNPN回路
相互間の干渉をなくす”為になされたもので6tl、 従りて本発明の目的は、かかる相互干渉を防止し、書込
歩留シの高いFROM書込構造を得ることにめる。
本発明のPNPN書込構造の特徴は、PNPトランジス
タ群とダーリントントランジスタ群とを分離するP+ベ
ース層を設は九ことにらる。
すなわちP+ベース層を絶縁間にまたがって入れること
によJ)、 PnP )ランジスタとダーリントントラ
ンジスタ相互間の寄生干渉を防止することが出きる。
以下本発明につき図面を用いて詳細に説明する。
i1図KPNPN回wtt−含むバイボー2FROMの
要部を示す。
選択され九PNPN回路11のPNP)27ジスタQs
t から注入され九キャリアは、そのエミッタ、エピタ
キシャル層、非選択のPNPN回路のダーリントントラ
ンジスタ(91えばQ z Is Q s 1tQ41
)のベースをそれぞれエミッタ、ベース、コレクタとす
る寄生PNP トランジスタ構造金倉して、非選択PN
PN回路12〜14のダーリントントランジスタのベー
スに到達し、低レベルにりニア/プされたQs1以外の
Q s II Q 41のベース電位を浮上名せ、Qs
xt Q41 のベース・エミッタ(BE)間にしかる
べき電圧Vfが立つと、QstsQax  2段のダー
リントントランジスタは、オノ状態となり、選択PNP
N回路のPNP)ランジスタと、当2段ダーリント/ト
ランジスタの間で、寄生PNPN動作がおこる。
h2段ダーリントンのゲインβは、通常数十〜数百と大
きく、トランジスタQll  からの書込電流は、10
0〜200ff!A程度で、l、前記寄生PnPトラン
ジスタのゲインがα001のオーダであれば、当寄生P
NPNは、容易に数rI@A〜数十mAの電流を流し得
る。
その結果、本来非選択のセルPC2〜PC4が書込まれ
たシ、選択セルPCIへは、十分な電流が流れない九め
に、書込不能となることかめる。
本発明は、上記PNPN寄生を防止するためになされ友
ものである。
第2図、第3図に本発明の好ましい実施例を示示す。
第2図は、PNPN4ケ取シの場合のバタンレイアウト
、第3図は、断面図である。
PnP )う/ジスタ群と、ダーリントントランジスタ
群、(Qsx+ Q41)との間に周囲の絶縁領域にま
九がりてP+ベース層21t−もうけることによシ、P
NP)ランジスタから注入されたキャリヤは、これに果
状でれ、絶縁領域を介して、基板GNDへと流れ込むた
め、QSI、Q41 へのキャリヤの到達を防止出来る
すなわち、寄生PnP構造を除去出来る。
なお、トランジスタQst+Q4t に飽和がおこつ。
た場合、QllI Q41  間にも干渉は、起シ得る
が、これを防止するには、Qsts Q41  間に当
P十ベース層を挿入すればよい。トランジスタQSII
Qst* α411 Q4z間干渉も同様である。
以上説明したように、本発明によれば、PnP ト−)
7ジスタ群トダーリントント2ンジスタ群とtP+ペー
ス層により分唾することにより、相互干渉を防止出来、
その結果、書込誤動作を防止出来るから、高い書込歩留
りを実現する、ノクイボーラPROMt−得ることが出
来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は一般的なPNPN回路を含むFROMの部分回
路図、第2図は本発明の一実月例金示す平面図、第3図
は第2図のx−x’での断面図でるる。 PC1〜PC4・・・・・・メモリセル、11〜14・
・・・・・PNPN回路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. バイポーラiR,OMの書込用PNPN回路において、
    PNPトライジそ夕群とダーリントントランジスタ群と
    の間にP型領域をもうけ九ことt−特徴とする半導体装
    置。
JP56137432A 1981-09-01 1981-09-01 半導体装置 Pending JPS5839028A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56137432A JPS5839028A (ja) 1981-09-01 1981-09-01 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56137432A JPS5839028A (ja) 1981-09-01 1981-09-01 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5839028A true JPS5839028A (ja) 1983-03-07

Family

ID=15198481

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56137432A Pending JPS5839028A (ja) 1981-09-01 1981-09-01 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5839028A (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49120589A (ja) * 1973-03-16 1974-11-18

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49120589A (ja) * 1973-03-16 1974-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4024417A (en) Integrated semiconductor structure with means to prevent unlimited current flow
KR860007750A (ko) 반도체 장치
JPH0156479B2 (ja)
US4045784A (en) Programmable read only memory integrated circuit device
US4347584A (en) Programmable read-only memory device
US4599688A (en) Semiconductor memory device having switching circuit for preventing channel leakage in constant current source
EP0028157B1 (en) Semiconductor integrated circuit memory device with integrated injection logic
EP0059630B1 (en) Field programmable device
JPS5839028A (ja) 半導体装置
US3941940A (en) Transient suppressor
JPS581919Y2 (ja) メモリ回路
US4001868A (en) Latching driver circuit and structure for a gas panel display
US3761900A (en) Capacitive matrix store
US4740720A (en) Integrated injection logic output circuit
EP0520125A1 (en) Switching circuit for connecting a first circuit node to a second or to a third circuit node in relation to the latter's potential, particularly for controlling the potential of an insulation region of an integrated circuit in relation to the substrate's potential
US4002946A (en) Latching driver circuit for a gas panel display
US4729116A (en) Bipolar programmable read only memory attaining high speed data read operation
JP2633831B2 (ja) バイポーラ型半導体集積回路
EP0228283A2 (en) Semiconductor memory circuit having inspection circuit
JPH0124377B2 (ja)
JPS63190374A (ja) 半導体保護装置
JPS586236B2 (ja) プログラマブルリ−ドオンリメモリ回路
JPS5951080B2 (ja) プログラマブル・モノリシック集積回路
JPH07123219B2 (ja) 出力バツフア回路
JPS6222457B2 (ja)