JPS5839593B2 - 容器の表面処理方法並びに装置 - Google Patents
容器の表面処理方法並びに装置Info
- Publication number
- JPS5839593B2 JPS5839593B2 JP53053684A JP5368478A JPS5839593B2 JP S5839593 B2 JPS5839593 B2 JP S5839593B2 JP 53053684 A JP53053684 A JP 53053684A JP 5368478 A JP5368478 A JP 5368478A JP S5839593 B2 JPS5839593 B2 JP S5839593B2
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- JP
- Japan
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- container
- cavity
- fluid
- liquid
- pipe
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- Cleaning In General (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、物品をコーティングし、清浄化し或はこれと
化学的に反応させるのに適した流体で該物品の表面を処
理することに関するものであり、その目的とするところ
は、処理後に物品に残留する全ての流体を取り除き、該
流体を後の処理操作に使用し得る、流体で物品を処理す
るための改善された方法及び装置を提供することにある
。
化学的に反応させるのに適した流体で該物品の表面を処
理することに関するものであり、その目的とするところ
は、処理後に物品に残留する全ての流体を取り除き、該
流体を後の処理操作に使用し得る、流体で物品を処理す
るための改善された方法及び装置を提供することにある
。
本発明は、特に、例えばトリクロロエチレン若しくは塩
化メチルの如き有毒な浄化液での洗浄による広口の金属
容器の浄化に適用可能であるが、また例えば改善された
ワニス付着性の如き特別の性能を有する表面層を提供す
るために、容器と化学的に反応する適当な液体で金属容
器を表面処理するのにも等しく適用され得るものである
。
化メチルの如き有毒な浄化液での洗浄による広口の金属
容器の浄化に適用可能であるが、また例えば改善された
ワニス付着性の如き特別の性能を有する表面層を提供す
るために、容器と化学的に反応する適当な液体で金属容
器を表面処理するのにも等しく適用され得るものである
。
本発明に従えば、ボディ(body)の内部空所内に容
器を置き、処理される該容器の表面に沿って流体が流れ
るようにした該空所に、液体を流通させることによって
該容器を洗い、多量の前記液体を圧縮した気相状態で該
空所に流通させることによって該物品を洗い、多量の前
記流体を気相で該空所に流通せしめることによって該空
所から液体を除去しく purge )、そしてその後
に該気相流体を該空所から抜き取って、その中の圧力を
減じ、且つその中の液体の蒸発により該容器及び空所の
乾燥を行なうことを含む、容器をコーティングし、清浄
化し或は化学的に反応させるのに適した流体で容器の表
面を処理する方法が提供される。
器を置き、処理される該容器の表面に沿って流体が流れ
るようにした該空所に、液体を流通させることによって
該容器を洗い、多量の前記液体を圧縮した気相状態で該
空所に流通させることによって該物品を洗い、多量の前
記流体を気相で該空所に流通せしめることによって該空
所から液体を除去しく purge )、そしてその後
に該気相流体を該空所から抜き取って、その中の圧力を
減じ、且つその中の液体の蒸発により該容器及び空所の
乾燥を行なうことを含む、容器をコーティングし、清浄
化し或は化学的に反応させるのに適した流体で容器の表
面を処理する方法が提供される。
該空所から抜き取られた気相流体は、都合よくは、後で
圧縮され、そして同−若しくは他の空所における次の処
理操作での液体の除去に用いられる気相流体を形成する
のに利用され得る。
圧縮され、そして同−若しくは他の空所における次の処
理操作での液体の除去に用いられる気相流体を形成する
のに利用され得る。
気相流体の圧縮は、減圧下のとき空所内の液体の蒸発に
よって取り去られた潜熱を償う程度の加熱を該気相流体
に供給する。
よって取り去られた潜熱を償う程度の加熱を該気相流体
に供給する。
しかし、付加的に該空所の壁が該潜熱の少な(とも一部
を償うために電気或は他の手段によって加熱されている
ことが望ましい。
を償うために電気或は他の手段によって加熱されている
ことが望ましい。
本発明の方法において、容器と空所の壁との間の空間は
、好ましくは、液体を流通させたとき、液体で完全に満
たされ、それによって該空所内に存在する空気が置換さ
れる。
、好ましくは、液体を流通させたとき、液体で完全に満
たされ、それによって該空所内に存在する空気が置換さ
れる。
それから、気相流体が、閉回路で循環させられる。
液体を流通させたとき、空気の存在を無くし或は少なく
とも実質的に減少せしめるために、空所に容器が配置さ
れるときにそこに人っている空気は、好ましくは、液体
の流通に先立って真空で抜き取られる。
とも実質的に減少せしめるために、空所に容器が配置さ
れるときにそこに人っている空気は、好ましくは、液体
の流通に先立って真空で抜き取られる。
本発明に従って広口容器の表面に有毒な洗浄流体を適用
するのに適したタレット機の一つの構成が、ここで、実
施例として添附の図面を参照して記述されよう。
するのに適したタレット機の一つの構成が、ここで、実
施例として添附の図面を参照して記述されよう。
図面に示された機械は、ジョン・マックスウェル・ジャ
クンン(J ohn Maxwe 11Jackson
)により・ジャクンン(J ohn Maxwe 1
1J ackson )により1975年3月20日に
出願された米国特許第4026311号明細書に図示さ
れた容器洗浄機械の修正である。
クンン(J ohn Maxwe 11Jackson
)により・ジャクンン(J ohn Maxwe 1
1J ackson )により1975年3月20日に
出願された米国特許第4026311号明細書に図示さ
れた容器洗浄機械の修正である。
該米国特許における類似の構成要素に対応する構成要素
は、該米国特許における対応する構成要素の参照番号に
200を加えた参照番号で同一視した。
は、該米国特許における対応する構成要素の参照番号に
200を加えた参照番号で同一視した。
例えば、基板は、米国特許の図面において10、そして
本明細書に添附の図面において210とすることによっ
て同一のものとしている。
本明細書に添附の図面において210とすることによっ
て同一のものとしている。
それ故、添附の図面に示された構成要素の構成並びに操
作のより充分な記述には前記米国特許が参照されるべき
である。
作のより充分な記述には前記米国特許が参照されるべき
である。
第1図は機械の半分のみを示す回転軸方向の縦断面図で
あり、第2図は機械に洗浄液を供給し且つ除去し及び乾
燥する順序を実行するために要求される本発明装置を線
図形態で示している。
あり、第2図は機械に洗浄液を供給し且つ除去し及び乾
燥する順序を実行するために要求される本発明装置を線
図形態で示している。
これらの図において、タレット機は、円形の基板210
、該基板の中央に固定された垂直スピンドル212及び
該スピンドルにベアリング215゜216によって回転
可能に取り付けられたタレット214を有する。
、該基板の中央に固定された垂直スピンドル212及び
該スピンドルにベアリング215゜216によって回転
可能に取り付けられたタレット214を有する。
第1図は縦軸X−Xの一方の側の機械半分のみを示す。
該タレット214はベアリングが取り付けられたハブ2
17と、そして円形の上板219を有する。
17と、そして円形の上板219を有する。
スピンドル212に共軸のシリンダ225は該上板21
9の下側に固定され、該シリンダ225の下端部分に歯
226が形成されて、これがタレットを回転させるため
に駆動機構(図示せず)によって回転可能なピニオン2
2γにかみ合っている。
9の下側に固定され、該シリンダ225の下端部分に歯
226が形成されて、これがタレットを回転させるため
に駆動機構(図示せず)によって回転可能なピニオン2
2γにかみ合っている。
上板219には、清浄化されるべき容器の収容のために
24個のポット・アッセンブリ228(図面では1個の
みが示されている)と、そして後述するように該ポット
・アッセンブリへ浄化、乾燥並びに操作流体を供給し、
又は排出するために該ポット・アッセンブリに可撓性パ
イプで接続されたマニホールド・リング229が取り付
けられている。
24個のポット・アッセンブリ228(図面では1個の
みが示されている)と、そして後述するように該ポット
・アッセンブリへ浄化、乾燥並びに操作流体を供給し、
又は排出するために該ポット・アッセンブリに可撓性パ
イプで接続されたマニホールド・リング229が取り付
けられている。
スピンドル212の頂部の静止板232は該マニホール
ド・リング内に流体を供給し、又はそれから排出するた
めの分配リング233を支持する。
ド・リング内に流体を供給し、又はそれから排出するた
めの分配リング233を支持する。
各々のポット・アッセンブリは、底部が閉じ頂部で開口
する垂直な円筒シェル238と、該シェル内の円筒状コ
ア242と、清浄化されるべき容器を受は入れるための
空所246を形成するために該シェル及びコアと協働す
る蓋258を有する6蓋257は、基板210上の円形
のカム軌道内を走行するに適したカムローラ296,2
97が取り付けられた垂直シャフト281にスリッピン
グクラッチ287′を経て連結されている。
する垂直な円筒シェル238と、該シェル内の円筒状コ
ア242と、清浄化されるべき容器を受は入れるための
空所246を形成するために該シェル及びコアと協働す
る蓋258を有する6蓋257は、基板210上の円形
のカム軌道内を走行するに適したカムローラ296,2
97が取り付けられた垂直シャフト281にスリッピン
グクラッチ287′を経て連結されている。
該カムローラは、タレットの回転中に荷降位置をポット
・アッセンブリが通行する間に該ポット・アッセンブリ
から浄化容器が放出されることを可能にし、そして積荷
位置をポット・アッセンブリが通行する間に該ポット・
アッセンブリ内に浄化されるべき容器の挿入を可能にす
るために、各ポット・アッセンブリのシャフト及び蓋を
上昇せしめ、そして該シャフトを回転せしめてシェル2
38の一つの側に鉄蓋を揺動させることが出来るように
なっている。
・アッセンブリが通行する間に該ポット・アッセンブリ
から浄化容器が放出されることを可能にし、そして積荷
位置をポット・アッセンブリが通行する間に該ポット・
アッセンブリ内に浄化されるべき容器の挿入を可能にす
るために、各ポット・アッセンブリのシャフト及び蓋を
上昇せしめ、そして該シャフトを回転せしめてシェル2
38の一つの側に鉄蓋を揺動させることが出来るように
なっている。
蓋258は、シャフト281上のスリーブ280に連結
され、また該スリーブは、蓋がポット・アッセンブリの
シェルに合致させられて閉鎖位置にあるときにのみ、タ
レットに固定された他のスリーブ282における凹所に
係合するに適した歯287を有している。
され、また該スリーブは、蓋がポット・アッセンブリの
シェルに合致させられて閉鎖位置にあるときにのみ、タ
レットに固定された他のスリーブ282における凹所に
係合するに適した歯287を有している。
鉄蓋は、スリッピング・クラッチ287’の協働要素に
当接するスプリング290によりシャフト281に関し
て下方に付勢される。
当接するスプリング290によりシャフト281に関し
て下方に付勢される。
上述したタレット機の構成要素は、前記米国特許第40
26311号明細書に図示され、記述された機械におけ
る対応構成要素と類似しており、それ故ポット・アッセ
ンブリの構成並びにカムローラによる蓋の操作のより充
分な説明にはその明細書が参照され得る。
26311号明細書に図示され、記述された機械におけ
る対応構成要素と類似しており、それ故ポット・アッセ
ンブリの構成並びにカムローラによる蓋の操作のより充
分な説明にはその明細書が参照され得る。
該タレット機を本発明に従って操作することを可能とす
るために該米国特許とは異なるタレット機の成分の構成
並びに機能が次に記述されよう。
るために該米国特許とは異なるタレット機の成分の構成
並びに機能が次に記述されよう。
分配リング233は、二つの部分、即ち内側分配リング
10と外側分配リング11に形成されている。
10と外側分配リング11に形成されている。
該外側リング11はリング10の外側端を被うフランジ
12を有し、そして該二つのリングが、フランジ12の
孔を通ってリング10の凹所内に延びる三本の杭14(
一本のみ図示)によって固定的に保持されている。
12を有し、そして該二つのリングが、フランジ12の
孔を通ってリング10の凹所内に延びる三本の杭14(
一本のみ図示)によって固定的に保持されている。
該杭14は静止板232に固定されている。
この二つの分配リング10.11は、該リングと板23
2の間で圧縮されたスプリング15,16によってマニ
ホールド・リング229に摺接するよう付勢されている
。
2の間で圧縮されたスプリング15,16によってマニ
ホールド・リング229に摺接するよう付勢されている
。
該マニホールド・リング229はタレットノ上板219
上の弾性スペーサ17上に置かれ、そして三本の位置決
め杭18(一本のみ図示)によって共に回転するために
上板219に連結される。
上の弾性スペーサ17上に置かれ、そして三本の位置決
め杭18(一本のみ図示)によって共に回転するために
上板219に連結される。
該弾性スペーサ17は該マニホールド並びに分配リング
のゆがみを避け、且つそれからの熱損失を最少にする。
のゆがみを避け、且つそれからの熱損失を最少にする。
マニホールド、・リング229は各々のポット・アッセ
ンブリ228のための三つのダクト(duct:流路)
20,21,22を備え、該ダクト20゜21.22は
リング229の上面に開口し、該ダクト20,2L22
の開口他端はリング229の周縁部に開口しており、該
三つのダクト20゜21.22の周縁部の開口は後述の
ように関連したポット・アッセンブリにそれぞれ可撓性
パイプ23.24,25によって接続される。
ンブリ228のための三つのダクト(duct:流路)
20,21,22を備え、該ダクト20゜21.22は
リング229の上面に開口し、該ダクト20,2L22
の開口他端はリング229の周縁部に開口しており、該
三つのダクト20゜21.22の周縁部の開口は後述の
ように関連したポット・アッセンブリにそれぞれ可撓性
パイプ23.24,25によって接続される。
内側分配リング10の下面には、ポット・アッセンブリ
を通じて液状の浄化流体を循環せしめるためのアーチ形
溝30,310第一のペアと、該ポット・アッセンブリ
を通じて熱い気相流体を循環せしめるためのアーチ形溝
32,33の第二のペアと、該ポット・アッセンブリか
ら気相流体、例えば浄化流体の蒸気を抜き出してそこに
真空を作り出すためのアーチ形溝34,350第三のペ
アが形成されている。
を通じて液状の浄化流体を循環せしめるためのアーチ形
溝30,310第一のペアと、該ポット・アッセンブリ
を通じて熱い気相流体を循環せしめるためのアーチ形溝
32,33の第二のペアと、該ポット・アッセンブリか
ら気相流体、例えば浄化流体の蒸気を抜き出してそこに
真空を作り出すためのアーチ形溝34,350第三のペ
アが形成されている。
溝30,32,34は共通の円周上に全て配列され、タ
レットと共に該マニホールド・リング229が回転する
ときダクト20の各々に連通ずるように適合させられて
いる。
レットと共に該マニホールド・リング229が回転する
ときダクト20の各々に連通ずるように適合させられて
いる。
また、溝31.33,35は共通の円周上に全て配列さ
れ、タレットと共に該マニホールド・リングが回転する
ときダクト21の各々に連通ずるように適合させられて
いる。
れ、タレットと共に該マニホールド・リングが回転する
ときダクト21の各々に連通ずるように適合させられて
いる。
外側の分配リング11の下面には、共通の円周上に配列
された三つのアーチ形溝37゜38.39が形成されて
おり、タレットと共に該マニホールド・リングが回転す
るときにダクト22の各々に連通ずるように適合させら
れている。
された三つのアーチ形溝37゜38.39が形成されて
おり、タレットと共に該マニホールド・リングが回転す
るときにダクト22の各々に連通ずるように適合させら
れている。
線溝37は、浄化液体及び浄化液体の蒸気圧力を僅かに
超過した圧力下の圧縮空気の供給源に接続され、また溝
38は圧縮空気の供給源に接続され、溝39は真空源に
接続されている。
超過した圧力下の圧縮空気の供給源に接続され、また溝
38は圧縮空気の供給源に接続され、溝39は真空源に
接続されている。
全てのアーチ形溝は分配リングの上面においている開口
を通して流体を供給及び排出するためのパイプに接続さ
れる。
を通して流体を供給及び排出するためのパイプに接続さ
れる。
各ポット・アッセンブリのための可撓性パイプ23.2
5は、ピストン・バルブ47のシリンダのそれぞれのポ
ー)45,46に接続される。
5は、ピストン・バルブ47のシリンダのそれぞれのポ
ー)45,46に接続される。
該バルブのピストン48は関連したポット・アッセンブ
リのスリーブ280に取り付けられたあぶみ49に連結
され、該あぶみに対してスリーブの回動は許容するがそ
れらの間の相対的な軸方向の動きを妨げるようになって
いる。
リのスリーブ280に取り付けられたあぶみ49に連結
され、該あぶみに対してスリーブの回動は許容するがそ
れらの間の相対的な軸方向の動きを妨げるようになって
いる。
それ故、蓋がそれぞれ開き、そして閉じるときはいつで
も、該ピストン48は上昇し、そして下降する。
も、該ピストン48は上昇し、そして下降する。
ピストン48にはダクト50が備えられており、蓋25
8が閉位置にあるときはいつでもポット・アッセンブリ
基部のダクト51にポート45及びパイプ23を接続す
るように配されている。
8が閉位置にあるときはいつでもポット・アッセンブリ
基部のダクト51にポート45及びパイプ23を接続す
るように配されている。
該ピストンは、蓋が閉位置にあるときはいつでも、ダク
ト51にパイプ25及びダクト22を接続するようにポ
ート45を封鎖し、ポート46を露出させるように配さ
れている。
ト51にパイプ25及びダクト22を接続するようにポ
ート45を封鎖し、ポート46を露出させるように配さ
れている。
該ダクト51はコア242を通って上方に延び、ポット
・アッセンブリの空所246に開口する。
・アッセンブリの空所246に開口する。
各ポット・アッセンブリ228は、タレットの上板21
9上の隔離ワッシャ56上に置かれたプラテン55に取
り付けられる。
9上の隔離ワッシャ56上に置かれたプラテン55に取
り付けられる。
該プラテンはネジ57によってタレットに固定される。
該プラテン55には電気加熱要素が備えられ、これには
、ワイヤ58,59及び、柱62によりターン・チーフ
ルに同心的に固定され且つブツシュ63により絶縁され
たスリップ・リング60,61を通じて、電流が供給さ
れる。
、ワイヤ58,59及び、柱62によりターン・チーフ
ルに同心的に固定され且つブツシュ63により絶縁され
たスリップ・リング60,61を通じて、電流が供給さ
れる。
電流は、静止板232の上面に固定されたブラシ装置6
4によって回転するスリップ・リングに供給される。
4によって回転するスリップ・リングに供給される。
第2図において、タレット機は、洗浄液の供給物を保持
するタンク70と、該タンクからパイプ72を通じて内
側分配リング10の溝30に液体を汲み出すことの出来
るポンプ71と、溝34゜35に接続されたパイプT4
を通じて洗浄流体蒸気を抜き出すための真空ポンプ73
と、ポンプ73及びタンク70からの洗浄流体蒸気を圧
縮し且つ内側分配リング10の溝32にパイプ76を通
じて圧縮した蒸気を供給するためのコンプレッサ75を
備えている。
するタンク70と、該タンクからパイプ72を通じて内
側分配リング10の溝30に液体を汲み出すことの出来
るポンプ71と、溝34゜35に接続されたパイプT4
を通じて洗浄流体蒸気を抜き出すための真空ポンプ73
と、ポンプ73及びタンク70からの洗浄流体蒸気を圧
縮し且つ内側分配リング10の溝32にパイプ76を通
じて圧縮した蒸気を供給するためのコンプレッサ75を
備えている。
パイプ72には、バルブ77、圧力ゲージ78及びフィ
ルタ79が取り付けられている。
ルタ79が取り付けられている。
タンク70は純粋な洗浄液の供給のための入口バイブ8
0と、汚れた液体の流出のためのオーバーフローパイプ
81と、タンクの頭部空間における流れ円滑化室(fl
ow−smoothing chamber )82及
び蒸気分離器83と、タンク内の洗浄流体蒸気を抜き出
すためのコンデンサ84と、冷却コイル85を有する。
0と、汚れた液体の流出のためのオーバーフローパイプ
81と、タンクの頭部空間における流れ円滑化室(fl
ow−smoothing chamber )82及
び蒸気分離器83と、タンク内の洗浄流体蒸気を抜き出
すためのコンデンサ84と、冷却コイル85を有する。
該流れ円滑化室82は、パイプ86,87によって内側
分配リング10のそれぞれの溝31,33に接続され、
それらから洗浄流体を受は入れる。
分配リング10のそれぞれの溝31,33に接続され、
それらから洗浄流体を受は入れる。
また該室82はそれを通じて流体の流れを円滑化するた
めに複数のバッフルを有する。
めに複数のバッフルを有する。
蒸気分離器83はパイプ88によりコンプレッサ75の
入口に接続され、また複数のバッフルを有する。
入口に接続され、また複数のバッフルを有する。
コンデンサ84はタンクの頭部空間に接続された入口バ
イブ90と、大気に或は流体回収装置(図示せず)に空
気及び蒸気を放出するための出口バイブ91と、そして
タンクに凝縮した洗浄流体を戻すための返送パイプ92
を有する。
イブ90と、大気に或は流体回収装置(図示せず)に空
気及び蒸気を放出するための出口バイブ91と、そして
タンクに凝縮した洗浄流体を戻すための返送パイプ92
を有する。
真空ポンプ73の出口はパイプ95によってコンプレッ
サ75の入口に接続され、そしてポンプ及びコンプレッ
サは、該真空ポンプから排出された蒸気が再圧縮のため
の各々のストロークでコンプレッサ内に吸い込まれるよ
うに、共通のプーリ96によって同期的に1駆動される
。
サ75の入口に接続され、そしてポンプ及びコンプレッ
サは、該真空ポンプから排出された蒸気が再圧縮のため
の各々のストロークでコンプレッサ内に吸い込まれるよ
うに、共通のプーリ96によって同期的に1駆動される
。
蒸気分離器(またコンプレッサの入口に接続されている
)83の出口バイブ88はコンプレッサに入れられる補
充蒸気量を規制するためにバルブ97を備えており、そ
してパイプ76を通じてコンプレッサから提供される蒸
気の圧力を規制する。
)83の出口バイブ88はコンプレッサに入れられる補
充蒸気量を規制するためにバルブ97を備えており、そ
してパイプ76を通じてコンプレッサから提供される蒸
気の圧力を規制する。
パイプ74.76には圧力ゲージ98が設けられている
。
。
第1図に示されたように、内側分配リング10の下面に
は、該リング10のそれぞれの半径方向の内側並びに外
側端に近接した同心的な溝100゜101が設けられて
いる。
は、該リング10のそれぞれの半径方向の内側並びに外
側端に近接した同心的な溝100゜101が設けられて
いる。
溝100,101は、真空ポンプ730入口に至るパイ
プ74に図示しないパイプによって接続され、そうして
溝30〜33から分配リング及びマニホールド・リング
の接触する表面から漏れ出る溶媒が系に回収され、それ
によって消耗並びに大気汚染を避けることができる。
プ74に図示しないパイプによって接続され、そうして
溝30〜33から分配リング及びマニホールド・リング
の接触する表面から漏れ出る溶媒が系に回収され、それ
によって消耗並びに大気汚染を避けることができる。
溝ioo、1oiは溝30〜35をより明確に示すため
に第2図から省略されている。
に第2図から省略されている。
操作において、タンク70には、例えばトリクロロエチ
レンまたは塩化メチル等の・・ロゲン化炭化水素の如き
揮発性洗浄液(脱脂溶剤)が満たされている。
レンまたは塩化メチル等の・・ロゲン化炭化水素の如き
揮発性洗浄液(脱脂溶剤)が満たされている。
洗浄液はポンプ71によってタンク70からパイプ72
及びフィルタ79を通じて内側分配リング10の溝30
に汲み出される。
及びフィルタ79を通じて内側分配リング10の溝30
に汲み出される。
パイプ72内の液体の圧力は、ゲージ78で示されるが
、バルブ7γで制御される。
、バルブ7γで制御される。
マニホールド、リング229内のダクト20がタレット
の回転で溝30に合致する位置に来ると、溝30内の洗
浄液はダクト20及びパイプ23を通って関連するポッ
ト・アッセンブリのピストン・バルブ47に流れ込む。
の回転で溝30に合致する位置に来ると、溝30内の洗
浄液はダクト20及びパイプ23を通って関連するポッ
ト・アッセンブリのピストン・バルブ47に流れ込む。
ポット・アッセンブリの蓋258が閉位置にあるとき、
ピストン48は第1図に示されるように最下位置にあり
、パイプ23から洗浄液体がピストン48のダクト50
及びダクト51を通じてポット・アッセンブリ内の空所
246に流れる。
ピストン48は第1図に示されるように最下位置にあり
、パイプ23から洗浄液体がピストン48のダクト50
及びダクト51を通じてポット・アッセンブリ内の空所
246に流れる。
ポット・アッセンブリ内の容器は空所246を内室及び
外室に小分し、該内室は容器の内面トコア242との間
に形成され、また外室は容器の外面と蓋並びにシェル2
38との間に形成される。
外室に小分し、該内室は容器の内面トコア242との間
に形成され、また外室は容器の外面と蓋並びにシェル2
38との間に形成される。
この二つの室は、例えば0.005インチ(約0.01
3cfrL)の最小の実用的な幅を有し、好ましくは0
.15インチ(約0.38CTL)を超えないようにさ
れ、それにより洗浄液がかかる室を完全に満たしてそこ
に存在する空気と置き換わり、そして空所からパイプ2
4を通って内側分配リング10の溝31に流出する前に
、該容器の内面に沿って内室を通り、該容器の口部を回
り、そして該容器の外面に沿って外室を通って流れるの
である。
3cfrL)の最小の実用的な幅を有し、好ましくは0
.15インチ(約0.38CTL)を超えないようにさ
れ、それにより洗浄液がかかる室を完全に満たしてそこ
に存在する空気と置き換わり、そして空所からパイプ2
4を通って内側分配リング10の溝31に流出する前に
、該容器の内面に沿って内室を通り、該容器の口部を回
り、そして該容器の外面に沿って外室を通って流れるの
である。
パイプ86は溝31から流れ出る汚れた液体を円滑化室
82に導き、そして該室82から保持タンク70に放出
する。
82に導き、そして該室82から保持タンク70に放出
する。
タレットの連続した回転により、ポット・アッセンブリ
のパイプ23,24が溝30,31から切り離され、溝
32及び33にそれぞれ接続されるようになる。
のパイプ23,24が溝30,31から切り離され、溝
32及び33にそれぞれ接続されるようになる。
そこは、蒸気給送用コンプレッサ75によってパイプ7
6を経て溝32に供給される熱い蒸発洗浄流体の導入に
より、ポット・アッセンブリの空所から洗浄液が除去さ
れる場所である。
6を経て溝32に供給される熱い蒸発洗浄流体の導入に
より、ポット・アッセンブリの空所から洗浄液が除去さ
れる場所である。
ポット・アッセンブリ内の空所から追い出された蒸気混
合の洗浄液は溝33に集められ、そしてパイプ87によ
って流れ円滑化室82に導びかれ、そこからタンク70
に放出されろ。
合の洗浄液は溝33に集められ、そしてパイプ87によ
って流れ円滑化室82に導びかれ、そこからタンク70
に放出されろ。
それから、タレットの連続した回転により、パイプ23
.24が溝32,33から切り離され、高真空下にある
溝34,35にそれぞれ接続される。
.24が溝32,33から切り離され、高真空下にある
溝34,35にそれぞれ接続される。
そして、ポット・アッセンブリの空所並びに溝34,3
5に接続された全てのバルブ、径路及びパイプ部分は、
また、真空にさらされる。
5に接続された全てのバルブ、径路及びパイプ部分は、
また、真空にさらされる。
低い圧力により、残存する液体は系の全ての部分から殆
んど瞬間的に沸騰してなくなり、急速な乾燥が行なわれ
、そしてそれ故かかる機械が、容器が室から放出される
ときに残留物が追い出されることによる洗浄液のロスを
最小限にして高速で運転され得るのである。
んど瞬間的に沸騰してなくなり、急速な乾燥が行なわれ
、そしてそれ故かかる機械が、容器が室から放出される
ときに残留物が追い出されることによる洗浄液のロスを
最小限にして高速で運転され得るのである。
タレットが更に回転せしめられて、第2図に示したB位
置にポット・アッセンブリが運ばれると、該ポット・ア
ッセンブリの蓋はカム・ローラ296及び297によっ
て持ち一ヒげられ、確実に回動せしめられる。
置にポット・アッセンブリが運ばれると、該ポット・ア
ッセンブリの蓋はカム・ローラ296及び297によっ
て持ち一ヒげられ、確実に回動せしめられる。
また、鉄蓋の持上動作は、先に述べたようにバルブ47
のピストン48を上昇せしめる。
のピストン48を上昇せしめる。
そして、それによってダクト51をパイプ25に接続す
る。
る。
パイプ25に接続したダクト22が溝38に合致すると
、溝38から圧縮空気がポット・アッセンブリの空所に
流れ込み、そこの容器を放出する。
、溝38から圧縮空気がポット・アッセンブリの空所に
流れ込み、そこの容器を放出する。
ポット・アッセンブリが第2図に示したA位置に至ると
、汚れた容器が図示しない機構によって該ポット・アッ
センブリに提供される。
、汚れた容器が図示しない機構によって該ポット・アッ
センブリに提供される。
そのときダクト22は溝39に合致しており、そしてそ
の中の真空により空所内及びパイプ25内の空気が吸引
される。
の中の真空により空所内及びパイプ25内の空気が吸引
される。
この空気の流れによって、蓋による閉鎖に先立ち、容器
が該空所内に吸引される。
が該空所内に吸引される。
この空気の流れは、蓋による閉鎖に先立って容器が該空
所内に吸収されることを惹起する。
所内に吸収されることを惹起する。
加えて、容器と空所の壁との間の室内の空気は、蓋によ
る閉鎖に先立つ直前にそこに真空が作り出されるために
抜き出されろ。
る閉鎖に先立つ直前にそこに真空が作り出されるために
抜き出されろ。
蓋が閉まると、ピストン・バルブ47は再びパイプ25
を封鎖する下方位置となり、そして次のサイクルのスタ
ートのためにパイプ23をダクト51に接続する。
を封鎖する下方位置となり、そして次のサイクルのスタ
ートのためにパイプ23をダクト51に接続する。
溝3γは容器の洗浄の為の洗浄液供給並びに洗浄液の空
所からの除去の間を通じてダクト22に係合している。
所からの除去の間を通じてダクト22に係合している。
そしてこの溝は圧縮空気を洗浄液体及び洗浄液体を除去
する蒸気圧力を僅かに超えた圧力でパイプ25に供給し
、これによってピストン・バルブ47を通じてパイプ2
5内にこれらの流体が漏れるのを阻止している。
する蒸気圧力を僅かに超えた圧力でパイプ25に供給し
、これによってピストン・バルブ47を通じてパイプ2
5内にこれらの流体が漏れるのを阻止している。
もしこのような漏れが起ると、これら流体は容器が放出
されるときに大気中に失なわれてしまうであろう。
されるときに大気中に失なわれてしまうであろう。
排出された蒸気がコンプレッサ75によって断熱的に加
熱され、そして該排出された蒸気に追加的な熱の供給が
不必要となることが認められよう。
熱され、そして該排出された蒸気に追加的な熱の供給が
不必要となることが認められよう。
勿論、真空側にはポット・アッセンブリ内での蒸発のた
めに熱ロスがある。
めに熱ロスがある。
しかしながら、この熱はプラテン55内の電気加熱コイ
ルによって供給される熱によって置き換えられる。
ルによって供給される熱によって置き換えられる。
このタレット機の重要な特徴は、容器がポット・アッセ
ンブリに誤って供給された場合に、該ポット・アッセン
ブリへの洗浄流体の供給がサイクルの残りの部分の間遮
断され、そしてまた誤って供給された容器が、荷降位置
Bに該ポット・アッセンブリが至る前に、放出されるこ
とにある。
ンブリに誤って供給された場合に、該ポット・アッセン
ブリへの洗浄流体の供給がサイクルの残りの部分の間遮
断され、そしてまた誤って供給された容器が、荷降位置
Bに該ポット・アッセンブリが至る前に、放出されるこ
とにある。
これは、先ず洗浄流体が故障したポット・アッセンブリ
を通じて大気中に放出されないこと、そして第二に浄化
されない容器が浄化された容器から分離されることを保
証する。
を通じて大気中に放出されないこと、そして第二に浄化
されない容器が浄化された容器から分離されることを保
証する。
容器がポット・アッセンブリに誤って供給された場合に
、蓋258はカムローラ297の影響を受けてシェル2
38の上方の位置に回動して戻ることが出来ないであろ
う。
、蓋258はカムローラ297の影響を受けてシェル2
38の上方の位置に回動して戻ることが出来ないであろ
う。
シャフト281はスリッピング・クラッチ287を回転
せしめ、そして該シャフトがカムローラによって下方に
引っばられると、歯287はスロットに係合せず、スプ
リング290は圧縮されよう。
せしめ、そして該シャフトがカムローラによって下方に
引っばられると、歯287はスロットに係合せず、スプ
リング290は圧縮されよう。
それ故、バルブ47は、パイプ23を閉じ且つパイプ2
5が開口する上方位置に留まろう。
5が開口する上方位置に留まろう。
従って、パイプ23を通じて洗浄液体は流れることはな
いのであり、そして蓋内のチェック・バルブ102は溝
30,32及びパイプ24から液体が逆流するのを阻止
する。
いのであり、そして蓋内のチェック・バルブ102は溝
30,32及びパイプ24から液体が逆流するのを阻止
する。
ダクト22が動いて溝37に係合するとすぐに、かかる
溝からの圧縮空気がパイプ25を通じて流れ、そしてポ
ット・アッセンブリの空所に流れ、それによってポット
・アッセンブリが荷降位置Bに到達する前に、不完全に
供給された容器を放出する。
溝からの圧縮空気がパイプ25を通じて流れ、そしてポ
ット・アッセンブリの空所に流れ、それによってポット
・アッセンブリが荷降位置Bに到達する前に、不完全に
供給された容器を放出する。
機械が運転されている間、純粋な洗浄液の計測された流
れがパイプ80を通じてタンク70に連続的に送られる
。
れがパイプ80を通じてタンク70に連続的に送られる
。
これは、蒸留装置(図示せず)に接続されたパイプ81
を通じて排出される汚れた洗浄液と置き換わる。
を通じて排出される汚れた洗浄液と置き換わる。
そしてかかる汚れた洗浄液は系における再使用のために
回収される。
回収される。
流体系はプラテン55の電気ヒータから連続的に熱を得
て、そしてタンク70内の液体の温度が温度調節装置と
して作用する冷却コイル85によって沸点より2.3度
低く維持される。
て、そしてタンク70内の液体の温度が温度調節装置と
して作用する冷却コイル85によって沸点より2.3度
低く維持される。
蓋が閉じられるとぎ各ポット・アッセンブリの空所内に
少量の空気がトラップされるので、かかる系は連続的に
空気を得る。
少量の空気がトラップされるので、かかる系は連続的に
空気を得る。
蒸気で飽和したこの空気は、パイプ90を通り、コンデ
ンサ84から大気に至るか、若しくは流体回収装置に至
る。
ンサ84から大気に至るか、若しくは流体回収装置に至
る。
コンデンサ84からの凝縮した洗浄液は、パイプ92を
通ってタンクに戻る。
通ってタンクに戻る。
物品上に表面層を形成せしめるためにかかる機械が使用
されるときには、コーテイング物質の溶液若しくは化学
的に反応する流体が、洗浄液体に代って用いられること
となる。
されるときには、コーテイング物質の溶液若しくは化学
的に反応する流体が、洗浄液体に代って用いられること
となる。
第1図は本発明に従う機械の半分のみを示す回転軸方向
の縦断面図であり、第2図は第1図の機械に洗浄液を供
給し且つ除去及び乾燥を行なうために要求される本発明
装置の線図である。 10:内側分配リング、11:外側分配リング、30〜
35,37〜39:溝、47:ピストン・バルブ、48
:ピストン、70:タンク、71:ポンプ、73:真空
ポンプ、75:コンプレッサ、79:フィルタ、82:
流れ円滑化室、83:蒸気分離器、84:コンデンサ、
210:円形基板、212:垂直スピンドル、214:
タレット、228:ポット・アッセンブリ、229:マ
ニホールド・リング、233:分配リング、238:円
筒シェル、242:円筒状コア、246:空所、258
:蓋。
の縦断面図であり、第2図は第1図の機械に洗浄液を供
給し且つ除去及び乾燥を行なうために要求される本発明
装置の線図である。 10:内側分配リング、11:外側分配リング、30〜
35,37〜39:溝、47:ピストン・バルブ、48
:ピストン、70:タンク、71:ポンプ、73:真空
ポンプ、75:コンプレッサ、79:フィルタ、82:
流れ円滑化室、83:蒸気分離器、84:コンデンサ、
210:円形基板、212:垂直スピンドル、214:
タレット、228:ポット・アッセンブリ、229:マ
ニホールド・リング、233:分配リング、238:円
筒シェル、242:円筒状コア、246:空所、258
:蓋。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 開口した容器を、該容器の形状と実質的に対応する
形状を有する壁面で囲まれた空所内に設置し、該容器の
表面に沿って流体を流通させて、該容器の表面を処理す
る方法において、 該空所に液体を流通させ、 つぎに、該液体成分から戒る圧縮して昇温させた気相流
体を、該空所に流通させて、該空所から液体を除去し、 その後に、該空所から該気相流体を抜き取って該空所内
の圧力を減じ、該空所内に残留している液体を蒸発させ
て、該容器の表面及び空所の乾燥を行ない、 そして、前記空所から抜き取った気相流体を空所から液
体を除去する気相流体に転用する、ことを特徴とする容
器をコーティングし、清浄化し、或は化学的に反応させ
るのに適した、流体で容器の表面を処理する方法。 2 容器を受は入れるための内部空所を備えた複数個の
ボディを有し、該ボディは、それぞれ、空所に容器を挿
入し、また、抜出するために、開位置と閉位置との間で
動くことが出来る蓋を備え、該空所は、容器に実質的に
対応する形状を有し、且つ該空所の壁は、流体が容器表
面に沿って流れるように容器の内面及び外面に近接した
間隔を有し、該ボディのそれぞれの空所に流体を流通さ
せるための導管手段を備えた、容器の表面を処理する装
置において、 該導管手段と空所に液体を循環させるための第一のポン
プ手段と、 該導管手段と空所に気相流体を圧縮して昇温させて循環
させるための第二のポンプ手段と、該導管手段と空所か
ら気相流体を抜き出し、該導管手段と空所内の圧力を減
じさせるための第三ポンプ手段と、 前記ポンプ手段の各々を、第一、第二、第三のポンプ手
段の順に前記それぞれの導管手段に連続して接続する分
配手段とを有し、 前記第三のポンプ手段の出口が第二のポンプ手段の入口
に接続していて、該第二及び第三のポンプ手段が同期的
に駆動することを特徴とする容器をコーティングし、清
浄化し、或は化学的に反応させるのに適した、流体で容
器表面を処理するための装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53053684A JPS5839593B2 (ja) | 1978-05-04 | 1978-05-04 | 容器の表面処理方法並びに装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53053684A JPS5839593B2 (ja) | 1978-05-04 | 1978-05-04 | 容器の表面処理方法並びに装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54145742A JPS54145742A (en) | 1979-11-14 |
| JPS5839593B2 true JPS5839593B2 (ja) | 1983-08-31 |
Family
ID=12949639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53053684A Expired JPS5839593B2 (ja) | 1978-05-04 | 1978-05-04 | 容器の表面処理方法並びに装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5839593B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2455127C2 (de) * | 1974-11-21 | 1986-02-27 | Shell Internationale Research Maatschappij B.V., Den Haag | Verfahren zum Ausschleusen von Rückständen aus einem unter erhöhtem Druck stehenden Vergasungsraum |
| JPS5425345Y2 (ja) * | 1976-07-20 | 1979-08-24 |
-
1978
- 1978-05-04 JP JP53053684A patent/JPS5839593B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54145742A (en) | 1979-11-14 |
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