JPS5840176B2 - フイルム現像および定着装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフィルム現像および定着装置に関し、特に原画
マイクロフィルムの複写を高速大量に作る複写機と関連
して利用されるそのような装置に関する。

本発明と同じ所有者になる、「フィルム複写機」に関す
る１９７４年８月２９日提出の米国共願第５０４４９０
号、そして現在の米国特許第３９５８１４２号は、本明
細書の参照になるものであるが、それに（塙速、大量、
そして非常に経済的にマイクロフィルムを複写する複写
機が述べられている。

概言すればその複写機においては、原画フィルムが搬送
ステーションに置かれ、そして複写フィルムがその搬送
ステーションにおいて進められ、「接触焼付け」の方へ
送られる。

複写フィルムは接触焼付けの後、裁断され、そしてコン
ベアによりフィルム現像器へ送られ、ここで加熱現像さ
れ、次いでフィルム温度を下げる冷却装備へ送られ、そ
の後再露光または定着ステーションに送られ、現像され
ていたフィルムはここで再び光を当てられて像がフィル
ムに定着される。

上記米国特許に記載の複写機はフィルムを現像・定着す
る普通のフィルム処理装置を用いている。

露光されたフィルム・セクションハ搬送ベルトによって
フィルム処理装置に通され、そして現像ステーションと
定着ステーションにおいてフィルムは、ｉ光したエマル
ジョンを現像しそして像を定着するのに必要な時間、動
きが停められる。

フィルムの冷却は、フィルムを比較的大きな直径の冷却
ドラムに接触させることによって行なわれる。

一般的について、そのような従来のフィルム処理装置は
間欠運動、すなわち送りと停止を繰返すことが必要であ
り、このため制御が複雑になり、従って装置価格が高（
なるという欠点がある。

そのような間欠運動は、エマルジョンが約９３１５０℃
（２００−３００下）の現像温度に加熱されると軟化す
るので、必要なのである。

軟化したエマルジョンをフィルム処理装置の固定要素に
対し動かしたりすれば、このような相対運動はエマルジ
ョン表面に損傷をもたらし、結局フィルム複写は使いも
のにならなくなる。

この問題はベルト・コンベアが使われる場合、特に厳し
いものになる。

というのはベル）・コンベアは、現像されたばかりのま
た軟かいフィルムを掴持したり、対向ベルト、ドラム等
に対し押付けたりするからである。

この問題を解決するためいろいろな試みがなされている
。

例えば現像ステーションから出てきたフィルムを、搬送
ベルトと同じ速度で回わされる比較的大きい冷却ドラム
に対し押付けるようにすることである。

このような構造は相対運動を無くし、従ってこれによる
表面損傷は避けられるが、冷却を充分に行なうためには
フィルムとドラム間の接触圧力を高くしなげればならな
い。

この接触圧力は搬送ベルトをドラム表面に対し強く押付
けることによって得られる。

この押付は圧力およびドラムやベルト表面の不規則性は
フィルム表面に傷をつげ、しかもこの傷は拡大された像
を普通のマイクロフィルム読取機では読むのが困難また
は不可能な程にまで損なうのである。

簡単にいうと従来技術の感熱フィルム処理装置は不完全
であり、製作および保守に比較的経費がかかり、そして
フィルムを損傷させ易いものである。

上質のマイクロフィルム・レコードではそのような損傷
は通常許容されない。

そこで従来の装置は比較的低速度で操作されるか、ある
いは装置内での全ての現像一定着段階を遂行するに要す
る滞在時間をフィルムに与えるため、比較的長いフィル
ム行路を備えなければならなかった。

従って従来技術のフィルム処理装置は従来のフィルム複
写機その他同様なものを比較的高価で大型なものにして
いた。

本発明は、高速マイクロフィルム複写機と共に使用でき
、製造および使用費用が比較的安く、そして従来のフィ
ルム処理装置より実質的に小型のフィルム処理装置を提
供する。

しかも本発明の装置は高速操作していても、未だ高温で
軟かいフィルム−エマルジョン表面に損傷を与えること
がない。

本発明のフィルム処理装置は、１対の対向して離間され
た加熱プラテンで形成される現像ステーションを有する
。

それらプラテン間の間隔はそこを通過するフィルムの厚
さより太き（される。

フィルムのエマルジョン側に向かっているプラテンはこ
れの表面全体に分布された多数のオリフィスを備え、こ
れらオリフィスを通して加熱されたガス、例えば空気が
、現像ステーションを通過していく複写フィルムに対し
て吹付けられる。

その空気はエマルジョンを現像温度まで加熱し、そして
それと同時に、軟かいエマルジョン面と、これに隣接す
る加熱プラテン面との間に空気クッションまたはベアリ
ングを形成し、フィルムが送られている間それら２つの
面が直接接触するのを防止する。

本発明の好適な実施例において、加熱プラテンは内部に
空気のための通路と加熱器を備え、この加熱器が空気通
路を形成する壁を加熱することにより空気を所要温度ま
で加熱する。

プラテンからの熱損失を少なくし、またプラテン周囲の
支持構造体への余分な熱伝導を避けるため、適当な絶縁
物が備えられる。

支持構造体は、フィルム送入端部から現像ステーション
を通り、離間した第■および第２空所を抜け、そして完
全に現像一定着されたフィルムが出ていく送出または下
流端部までの、フィルムの細長い行路を形成する。

第１空所は現像ステーションの下流側にあり、その中に
ｌ対の離間した多孔プレートが装架される。

これらプレート間の間隔もフィルム厚より大きくされる
。

エマルジョンに対向した多孔プレートを通して冷却空気
が吹付けられ、フィルムを冷却すると共に送られていく
フィルムの空気ベアリングを形成する。

再露光または定着ステーションが、支持構造体の第２空
所内に設けられるパルス作動するクセノン・ガス放電ラ
ンプのような適当な光源によって構成される。

定着ステーションを通過するフィルムに対し、光源から
の光を集中するための反射板が備付けられる。

電力消費量を少なくし、また処理装置から放散される熱
量を減らすため、クセノン・ランプを、フィルムが定着
ステーションを通過するときに点灯し、そこにフィルム
が無いときには消灯するように間欠的なパルス作動させ
るような電気回路が備えられる。

支持構造体はさらに適当な冷却空気取入れ口を備え、こ
れは第１および第２空所とつながっていて、第２空所内
の多孔プレート間のフィルム、および定着ステーション
の光源、これは付属の反射板その他を冷却する。

本発明の処理装置は搬送装備を備え、これは好適には複
数のローラ対で成り、フィルムを装置内のフィルム行路
に沿って送る。

ローラ対の間の距離は、フィルムの一部が常にローラ対
で係合されるようフィルムの長さより小さいものとされ
る。

こうしてフィルムは処理装置内で積極的に搬送される。

さらにローラの表面は高度に磨き仕上げされ、そしてそ
れら表面とこれの間を通過するフィルムの間に相対運動
を起さないよう連続的に一定の同じ表面速度で駆動され
、こうしてフィルムの基材とその熱軟化したエマルジョ
ンに損傷を与えることが防止される。

少なくとも現像ステーションの下流側のローラは中空ま
た（ま軸方向通孔が設けられ、これに冷却空気を流すこ
とによって冷却される。

これはそれらローラの操作温度を保持するとともに、現
像ステーションで加熱された後のフィルム、および定着
ステーションを通過した後のフィルムの冷却を助勢する
。

以上の説明から理解されるように本発明のフィルム処理
装置は、フィルム・エマルジョン（これが特に軟化され
たときの）と処理装置の固定要素との間の直接的な接触
を、それらの間に空気ベアリングを備えることにより無
くす。

こうして従来技術のエマルジョン表面損傷の問題が解決
されるのである。

フィルムが搬送ローラのような硬い物体と接するとき、
それらフィルムとローラは同一速度で動き、そしてロー
ラば、可撓性のベルト等に比較すれば全（硬質なもので
あるから、高度に磨き仕上げすることができ、従って表
面の不規則性や大きな接触圧力によるエマルジョン表面
の損傷や擦傷等は全く避けられる。

従来の装置におけるようにフィルム処理の遂行のためフ
ィルムを停止する必要がなく、フィルムは連続的に動か
されるため、本発明の処理装置は構造を非常に簡単にで
きる。

さらに空気ベアリングを形成する加熱された乱流空気と
フィルムの間の熱伝送（これはフィルムの加熱とその後
のフィルムの冷却の両方を行なう）は非常に効果的に、
そして動いていくフィルムに沿って遂次的に行なわれる
。

従ってフィルム各部の温度は、例えば現像ステーション
を通過するとき変化する。

本発明の処理装置は全体的な長さを著しく小さくできる
。

例えばマイクロフィルム複写を毎秒的５０．８ｍｍ（２
インチ）の速度で送る標準型マイクロフィルム処理装置
では、全長がたった約４５７．２ｍｍ（１８インチ）で
充分である。

ここでフィルム現像ステーションの中心とフィルム定着
ステーションの中心間の距離は約２５４ｍｍ（１０イン
チ）でしかない。

これに対し同じような処理能力をもつ従来の装置の全長
は約９００−１２０ｏｍｍ（３−４フイート）である。

従って本発明の装置は製作、使用および保守の費用が非
常に軽減され、さらに処理装置（またはこれがその一部
になるフィルム複写機）の小型化による設置床面積およ
びその一般的な付属装備価格の低下による費用の節減も
なされる。

以下添加図面を参照に説明を続ける。

図面に示すように本発明によるフィルム処理装置２は全
体的に細長い支持構造体４を備え、これは送入端部６と
送出端部８を有する。

これら両端部間に真直ぐなフィルム行路１０が延びる。

支持構造体内にフィルム行路に沿って、現像ステーショ
ン１２、フィルム冷却ステーション１４、および定着ま
たは再露光ステーション１６が順次に配置される。

支持構造体は後に出てくるような種々なフィルム処理要
素を装架するに充分な剛性と堅固さを備えるものとされ
る。

このため支持構造体は好適には軽量のアルミニウム鋳造
物で作られ、側壁１８、端壁２０、およびその内部に３
つの離間した空所２２，２３，２４を備える。

これら空所はそれぞれに現像ステーション、冷却ステー
ション、定着ステーションに割り当てられる。

実際の使用に際しては本発明の処理装置は、先の米国特
許に記載の複写機のような、フィルムまたはマイクロフ
ィルム−レコーダまたは複写機内にこれの一部として設
置される。

現像ステーション１２は送入端部６の直ぐ下流部にあり
、第１および第２プラテン２６と２８を備える。

これらプラテンはこれの間に、装置により処理されるフ
ィルムの厚さより大きい間隙３０を形成する。

下側プラテン２６は多孔板部材３２を備え、これはプラ
テン間の間隙に向かって均等に分布して明けられる多数
のオリフィスを有する。

下側プラテンは内部通路３４を備え、この通路は多孔板
と空気取入れ口３６をつなぎ、そしてこの空気口は圧力
空気源３８に接続している。

下側プラテンはさらに加熱器４０を備える。

この加熱器は通路３４に取巻かれるように設置されて、
そこを通る空気源３８からの空気を所要のフィルム現像
温度まで加熱する。

上側プラテン２８は全体的に下側プラテン２６と同じよ
うな構造であるが、前者は多孔板部材と内部空気通路を
備えず、その代り連続的な、高度に表面磨き仕上げされ
た面４２を有する。

上側プラテンもこれを加熱するための内部加熱器４０を
備える。

両プラテンの間隙３００反対側には、それらプラテンか
らの熱損失を少なくするための絶縁板４４が設けられる
。

対またはセットの対向した搬送ローラ４６が現像ステー
ションの直ぐ上流側に備えられ、現像されるフィルムを
それらの間に掴持し、そして下流方向に現像ステーショ
ン内へ送込む。

各ローラは中空内部４８を有し、そして支持構造体側壁
１８に取付けたローラ軸受に枢架される軸５０に固定さ
れる。

後述するような目的のためにローラ内部に冷却空気を循
環させるため、ローラ内部と外部をつなげる複数個の全
体的に半径方向の孔５２がローラの両端部近くに設けら
れる。

ローラ軸５０の１つの端部は側壁１８から延出し、そこ
にスプロケット５４が取付けられ、これはチェーン５６
により駆動されてローラを回転させる。

この連動装置はローラ対の各ローラを同速度で反対方向
に回転させるようになっており、従ってローラ間に入り
掴持されたフィルムは、このフィルムの表面とローラ接
触面間に相対的な動きを起さずに、前方に送られる。

ローラ間を通過するフィルム表面に刻み目や擦傷のよう
な損傷を付けないよう、ローラ表面は高度に磨き仕上げ
される。

好適にはローラ表面は硬質のクロム・メッキを着けられ
、そしてパフにより鏡面仕上げされる。

こうしてフィルムが加熱されエマルジョンが軟化されて
も、フィルム面が傷付けられることがなくなる。

第２セツトのローラ４６が現像ステーションの下流側に
、プラテン２６と２８間の間隙と整合して設置され、現
像ステーションから出てきたフィルムを受け、これを下
流方向に送る。

現像ステーションの上流側と下流側のローラ対向の距離
は処理されるフィルム長さより小さくされる。

例えば約１５２．４ｍｍ （６インチ）長さの標準マイ
クロフィルムを処理する場合、それらローラ対間の距離
は１５２．４ｍｍより小さく、例えば１２７ｍｍ（５イ
ンチ）とされる。

こうしてマイクロフィルムの一部は常にローラによって
挾まれ、下流方向に積極的に送られる。

第２０−ラ対の直ぐ下流側の第２空所２３内にステンレ
ス鋼のような適当な材料で作られる１対の多孔プレート
５８が設置される。

これらプレートはこれの間に、間隙３０と同じ幅の間隙
またはチャンネル６０を画成し、そして第２０−ラ・セ
ットにより下流方向に送られるフィルムはその間隙６０
内へ案内される。

後に詳述するように、加圧された冷却空気が下側プレー
ト５８の孔を通してチャンネル６０内へ導入され、現像
ステーションから受継いだフィルムを冷却する。

多孔プレート５８の上流側のローラ対から離間して該プ
レートの直ぐ下流部に別のローラ対またはローラ・セッ
トが設けられ、先の場合と同様にしてフィルムを処理装
置内で連続的且つ積極的に搬送する。

フィルム定着または再露光ステーション６０が、先述の
米国特許第３９５８１４２号に記載のクセノン・ガス放
電ランプのような光源６２により形成される。

この光源はじょうご形光ホーン６４内で透明ガラス板６
６の下方に設置される。

このガラス板はフィルム定着ステーションにおけるフィ
ルム行路１０を形成する。

放熱器１０を備えた上部反射板６８が、定着ステーショ
ンを通過するフィルムを露光する光量を最大にするよう
設けられる。

ガラス板６６の上流側のローラ対から離間して、ガラス
板の直ぐ下流側にさらに他の搬送ローラ対が設置され、
先の場合と同じようにフィルムを処理装置内で積極的に
搬送する。

この最後のローラ対から下流方向に進められたフィルム
は次いで送出端部８から装置外へ送出され、適当な容器
（図示せず）内へ入る。

クセノン・ランプは、フィルムが定着ステーション６０
にあるときだけランプを点灯するようにランプをパルス
作動する電源７２によって給電される。

そのようなパルス作動により電力消費量が節減されると
共に、ランプの発熱が少なくされ、これにより装置の操
作が効果的にされ、また冷却をより容易に行なえる。

この電源構造は先述の米国特許第３９５８１４２号に詳
細な説明がある。

支持構造体は全体的に閉じたベースを有し、そして定着
ステーション１６の下方に、冷却空気源７６と接続する
冷却空気取入れロア４を備える。

ベースの床板７８は取入れロア４かも上方に現像ステー
ション１２の方へ傾斜して、取入れ口を第２空所２３に
連絡する。

第２０−ラ対の直ぐ上流側、現像ステーション１２と冷
却ステーション１４０間に、冷却空気が、加熱されるフ
ィルム現像プラテン２６の方へ流れるのを防止する横断
方向障壁８０が設けられる。

しかし冷却空気は冷却ステーションにおける下側多孔プ
レート５８の孔を通して、光ホーン６４、上部反射板６
８、およびローラ４６の周囲を流れ、また現像ステーシ
ョンより下流側の全てのローラの中空内部４８の中に流
入して、それらフィルム加熱の目的をもたない全てのロ
ーラを冷却する。

よろい窓の付いた頂部カバー８２が装置の上部に被せら
れ、装置内部の諸要素を機械的に防護するとともに、装
置上半分から冷却空気を逃がす。

次にフィルム処理装置の操作について述べる。

現像ステーションにおける加熱器４０はプラテン２６．
２８を加熱し、これにより、通路３４内に導入された圧
力空気は所要の現像温度、例えば９３（５０℃（２００
−３００下）に加熱される。

ローラ駆動チェーン５６は各ローラ対のローラを相互に
逆方向に回わし、ローラ間に挾まれたフィルムを下流方
向に送る。

対のローラは同じ直径で同速度で回転するので、その表
面速度は同しである。

圧力空気源３８と冷却空気源７６はそれぞれに、圧縮空
気を下側プラテン２６と多孔板３２を通して間隙３０内
に、そして冷却空気を下側多孔プレート５８を通して間
隙６０内に流し込む。

この冷却空気は光ホーン６４、両多孔プレート５８、そ
して現像ステーションの下流側にある全てのローラを冷
却する。

露光されるフィルムはこれのエマルジョン側を下にして
処理装置内に導入される。

現像ステーション上流側のローラ対がそのフィルムを掴
持し、そしてプラテン２６．２８間の間隙３０内に送り
込む。

多孔板３２から流出する加熱された空気流は、この多孔
板とフィルムのエマルジョン側の間に空気クッションま
たは空気ベアリングを形成すると同時にそのエマルジョ
ンを現像温度まで加熱する。

フィルムの裏側、すなわち透明なフィルム基材は上側プ
ラテン２８の磨き面４２に沿って摺動する。

こうしてフィルムは間隙３０を進むうちに徐々に所要の
温度まで加熱されるが、この温度上昇とともに軟化する
エマルジョンと硬い物体、例えばプラテン２６または多
孔板３２０間に物理的接触は行なわれないので、エマル
ジョンの損傷は全く避けられるのである。

フィルムの先行縁は間隙３０から出ると、現像ステーシ
ョンの下流側のローラ対の間に入る。

このローラ対はフィルムをさらに下流方向に送り、そこ
でフィルムは第２０−ラ対に挾まれ、こうしてフィルム
は連続的に進められる。

これらローラは全て、フィルムと同じ線速度で回わされ
るので、それらローラとフィルムとの間、特に下側ロー
ラと軟化したエマルジョン面との間の相対運動はない。

ローラ表面は高度に磨き上げられているから、ローラ表
面からエマルジョン面が傷付けられることはなく、マイ
クロフィルムの品質は完全に保たれる。

第２０−ラ対は未だ熱いフィルムを冷却ステーションの
プレート５８間の間隙６０内へ送る。

ここで冷却空気がプレート５８の孔を通して間隙６０内
へ供給され、そしてフィルムを冷却すると共にここでも
フィルムのエマルジョン側と下側プレートの間に空気ベ
アリングを形成する。

冷却されたローラとフィルムの接触がまたフィルムの冷
却を助勢することは理解されよう。

フィルムは冷却ステーションの下流側で第３０ローラ対
に先の場合と同様に掴持され、そして定着ステーション
のガラス板６６上に進められる。

フィルムがガラス板６６に達したとき、適当な感知器（
図示せず）が電源７２を作動させ、これによってクセノ
ン・ランプ６２が点灯される。

この後、非常に強い光パルスが光源から発せられて、プ
ラテン２６と２８間の間隙３０をフィルムが通過する間
に現像された像をエマルジョン上に定着させる。

その後、第４０−ラ対がフィルム先行縁を掴持し、そし
てその処理済みのフィルムを支持構造体の送出端部８か
らの別の容器へと送り出す。

このフィルムはそのまま使用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のフィルム処理装置の、フィルム行路に
平行な線における断面側立面図、第２図はフィルム搬送
ローラを詳細に示す一部破断側立面図である。 ２・・・・−フィルム処理装置、４−−−−−・支持構
造体、６・−・−・・送入端部、８−・・・・・送出端
部、１０−・・−・フィルム行路、１２−・−現像スチ
ージョン、１４・・・−冷却スチージョン、１６゛・・
°−・定着ステーション、２２．２３，２４−・・・・
・空所、２６，２８・・・・・・現像加熱プラテン、３
０・・・・・・間隙、３２・・・・−・多孔板、３４・
・・・・・空気通路、３６−・・・−圧力空気取入れ口
、３８・・・−・圧縮空気源、４０・−・−・加熱器、
４２・−・・−・磨き面、４４・・・−・・絶縁物、４
６−・−・搬送ローラ、４８−・・・・・中空内部、５
０・・・−・−軸、５２−・一孔、５４・・・・・・ス
プロケツ）、５６−・・−・チェーン、５８・−・−・
・多孔プレート、６０・・・・・・間隙、６２・−・−
光源、６４・・・−・・光ホーン、６６・・・−・・透
明ガラス板、６８・・・・・・反射板、７０・−・−・
放熱器、７２−・・・・−電力源、７４・−・・・冷却
空気取入れ口、７６・−・・−・冷却空気源、７８・−
・・・・床板、８０・−・・・・障壁。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基材およびこれの上に担持される予め露光された感
   光エマルジョンを備え、このエマルジョンは現像温度ま
   で加熱されることによって現像されるごとき型式のもの
   であるフィルムを現像し且つ定着するための装置におい
   て、送られていく該フィルムの厚さより太き（個隙を形
   成するよう相互に対向位置に離間して設置される、該エ
   マルジョンに対面する第１フイルム案内装備と第２フイ
   ルム案内装備を含むフィルム現像ステーション、該第１
   フイルム案内装備とエマルジョンの間の空隙内で該第１
   フイルム案内装備と接触して圧力ガスを流通させるため
   の装備、該第１フイルム案内装備とエマルジョンの間の
   該ガスを少なくとも現像温度まで加熱するよう該第１フ
   イルム案内装備を加熱するための装備、該現像ステーシ
   ョンの下流側にあって、現像されたエマルジョンを定着
   スるための定着ステーションおよび該現像ステーション
   から定着ステーションへ、そしてここからさらに後方へ
   と該フィルムを下流方向橿送するための装備とを備え、
   しかしツ該加熱された圧力ガスが、該フィルム案内装備
   を通過していくフィルムのエマルジョンの気体ベアリン
   グを形成すると同時に該エマルジョンを熱現像すること
   により、エマルジョンに機械的損傷を与えることなくフ
   ィルム処理を行なえる装置。 ２、特許請求の範囲第１項の装置において、該圧力ガス
   流通装備が、該フィルム・エマルジョンと該第１フィル
   ム案内装備間の空隙に圧力ガスを放出するための、該第
   １フイルム案内装備を通る通路および該通路と流体連絡
   した複数岡のオリフィスを備える装置。