JPS5841622B2 - 電子放電管 - Google Patents
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- JPS5841622B2 JPS5841622B2 JP56039301A JP3930181A JPS5841622B2 JP S5841622 B2 JPS5841622 B2 JP S5841622B2 JP 56039301 A JP56039301 A JP 56039301A JP 3930181 A JP3930181 A JP 3930181A JP S5841622 B2 JPS5841622 B2 JP S5841622B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/32—Secondary-electron-emitting electrodes
-
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- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/34—Photo-emissive cathodes
-
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/34—Photoemissive electrodes
- H01J2201/342—Cathodes
- H01J2201/3421—Composition of the emitting surface
- H01J2201/3426—Alkaline metal compounds, e.g. Na-K-Sb
Landscapes
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は光増倍管、特に1次ダイノードの2次電子放
射面の改良に関する。
射面の改良に関する。
光増倍管では電子放射電極を用いて光子1個が衝突する
たびに1個の電子を放出させるか電子1個が衝突するた
びに複数個の2次電子を放出させる。
たびに1個の電子を放出させるか電子1個が衝突するた
びに複数個の2次電子を放出させる。
1次電子は光電陰極からの光電子でも、池のダイノード
からの2次電子でもよい。
からの2次電子でもよい。
光電管の構成において遭遇する問題はその電子増倍器の
ある段から放出された電子を効率よく池の段に収集する
ことであり、特に問題となるのは電子増倍器の入力段の
電子すなわち光電陰極からの光電子をその増倍器の第1
ダイノードすなわち1次ダイノードに最大限に収集する
ことである。
ある段から放出された電子を効率よく池の段に収集する
ことであり、特に問題となるのは電子増倍器の入力段の
電子すなわち光電陰極からの光電子をその増倍器の第1
ダイノードすなわち1次ダイノードに最大限に収集する
ことである。
この人力段の電子収集効率が上昇するとその光増倍管の
信号対雑音比が向上する。
信号対雑音比が向上する。
米国特許第4112325号明細書には光電陰極から放
出された入射電子の収集効率の高い比較的広い領域を持
つ■次ダインードが記載されている。
出された入射電子の収集効率の高い比較的広い領域を持
つ■次ダインードが記載されている。
この1次夕゛イノードの収集効率は光電陰極と1次ダイ
ノードとの間に集束電極を追加し、光電陰極から放出さ
れる光電子を1次ダイノード上に集束することにより改
善することができ、この集束電極は1979年8月13
日付米国特許願第65842号明細書〔特開昭56−2
8447公報対応)に記載されている。
ノードとの間に集束電極を追加し、光電陰極から放出さ
れる光電子を1次ダイノード上に集束することにより改
善することができ、この集束電極は1979年8月13
日付米国特許願第65842号明細書〔特開昭56−2
8447公報対応)に記載されている。
この集束電極はまた1次ダイノードから放出された2次
電子を2次ダイノード上に集束する。
電子を2次ダイノード上に集束する。
例えはシンチレーション計数等の光増倍管の多くの用途
で要求されることは、光増倍管の出力が光入力に比例す
ることである。
で要求されることは、光増倍管の出力が光入力に比例す
ることである。
シンチレーションの光エネルギはある範囲に亘りガンマ
線のエネルギに正比例するから、光増倍管から得られた
電気パルスはガンマ線エネルギの直接の尺度になる。
線のエネルギに正比例するから、光増倍管から得られた
電気パルスはガンマ線エネルギの直接の尺度になる。
従ってシンチレーション計数に用いる光増倍管の重要な
要件は種々の高さのパルスの識別能力である。
要件は種々の高さのパルスの識別能力である。
この識別を行う能力を示す因子をパルス高さ分解能と呼
ぶ。
ぶ。
上記米国特許および特許願明細書記載の1次ターイノー
ドを持つ光増倍管のパルス高さ分解能は、その1次ダイ
ノードの活性領域すなわち2次電子放射領域からの2次
電子放射利得を向上することにより改善することができ
る。
ドを持つ光増倍管のパルス高さ分解能は、その1次ダイ
ノードの活性領域すなわち2次電子放射領域からの2次
電子放射利得を向上することにより改善することができ
る。
ダイノードからの2次電子放射利得はそのダイノードに
入射する1次電子のエネルギとその2次電子放射材料の
組成および均一度の直接関数である。
入射する1次電子のエネルギとその2次電子放射材料の
組成および均一度の直接関数である。
例えは酸化されたベリ1,1ウム銅ダイノードの代表的
2次電子放射利得は代表的1次電子電圧範囲約100−
200Vに対して約3へ−5である。
2次電子放射利得は代表的1次電子電圧範囲約100−
200Vに対して約3へ−5である。
ニッケノドのタ゛イノード基板上のセシウムアンチモン
等の曲の材料の2次電子放射利得は若干高く、例えば同
じ1次電子電圧範囲100〜200Vにおいて約5〜7
である。
等の曲の材料の2次電子放射利得は若干高く、例えば同
じ1次電子電圧範囲100〜200Vにおいて約5〜7
である。
この才うなセシウムアンチモンダイノード構体を持つ光
増倍管は米国特許第2574356号明細書に記載され
ている。
増倍管は米国特許第2574356号明細書に記載され
ている。
カリウム、セシウムおよびアンチモンの材料をニッケル
ダイノード基板上に用いると1次電子電圧範囲100〜
200Vに亘って6〜11という著しく高い2次電子放
射利得を得ることができ、このような構体は米国特許第
3753023号明細書に記載されている。
ダイノード基板上に用いると1次電子電圧範囲100〜
200Vに亘って6〜11という著しく高い2次電子放
射利得を得ることができ、このような構体は米国特許第
3753023号明細書に記載されている。
大ていの光増倍管では段数が通常5〜14であるため、
第1段の2次電子放射利得が虜かに上昇すると陽極に達
する2次電子数が著しく増大する。
第1段の2次電子放射利得が虜かに上昇すると陽極に達
する2次電子数が著しく増大する。
従って同じ段数で同様の構造の光増倍管の場合は、アン
チモン化アルカリによるような2次電子放射利得が比較
的高い1次ダイノードを持つものの方が例えは酸化ベリ
リウム銅ダイノー・ドを用いたものよりパルス高さ分解
能が遥かに大きい。
チモン化アルカリによるような2次電子放射利得が比較
的高い1次ダイノードを持つものの方が例えは酸化ベリ
リウム銅ダイノー・ドを用いたものよりパルス高さ分解
能が遥かに大きい。
2次電子放射利得の高いことが望1れる場合は、ニッケ
ル、M上にセシウムむよびアンチモンヲ被着してダイノ
ードを形成することが多いが、ニッケル基板上にアンチ
モンを蒸着するときしはしd:問題が起ることも当業者
に公知である。
ル、M上にセシウムむよびアンチモンヲ被着してダイノ
ードを形成することが多いが、ニッケル基板上にアンチ
モンを蒸着するときしはしd:問題が起ることも当業者
に公知である。
ニッケルはアンチモンと合金を形成する傾向を持ち、ニ
ッケル基板と1種またはそれ以上のアルカリ金属を被着
することにより活性化したアンチモン層とから成るダイ
ノードからの2次電子放射は低くなる。
ッケル基板と1種またはそれ以上のアルカリ金属を被着
することにより活性化したアンチモン層とから成るダイ
ノードからの2次電子放射は低くなる。
米国特許第4160185号におけるようにこの合金化
を防ぐ試みは極めて成功I〜たが、この合金化防止処理
の追加のために管球の価格が上昇するため、これはでき
れば廃止することが望ましい。
を防ぐ試みは極めて成功I〜たが、この合金化防止処理
の追加のために管球の価格が上昇するため、これはでき
れば廃止することが望ましい。
光増倍管の出力を1次ダイノード上で2次電子が発生す
る場所に関係なく直線的に保つために2次電子放射利得
を均一にすることも望゛ましい。
る場所に関係なく直線的に保つために2次電子放射利得
を均一にすることも望゛ましい。
例えば米国特許第2574356号明細書にはよろい戸
型または[−ベネチャブラインド」型の夕”イノードが
開示されている。
型または[−ベネチャブラインド」型の夕”イノードが
開示されている。
よろい戸の羽根板の角度と隣の羽根板による遮蔽のため
に各羽根板の全領域にアンチモンの充分均一な層を蒸着
することは不6J能であるカー・ら、とのベネチャブラ
インド型ダイノードの2次電子放射利得は不均一である
。
に各羽根板の全領域にアンチモンの充分均一な層を蒸着
することは不6J能であるカー・ら、とのベネチャブラ
インド型ダイノードの2次電子放射利得は不均一である
。
酸化ベリリウム銅のベネチーやブラインド型ターイノー
ドとアンチモン化アルカリ光電陰極を持つ光増倍管が曲
にも製造されているが、これらの管球の若干ではフェー
スプレートとタイノードとの間の管軸付近にただ1個の
アンチモン蒸発器を設け、フェースプレート上に均一な
アンチモン被膜を設け、次にこの上に均一・な光電陰極
が形成されるようにその蒸発器の位置を選定している。
ドとアンチモン化アルカリ光電陰極を持つ光増倍管が曲
にも製造されているが、これらの管球の若干ではフェー
スプレートとタイノードとの間の管軸付近にただ1個の
アンチモン蒸発器を設け、フェースプレート上に均一な
アンチモン被膜を設け、次にこの上に均一・な光電陰極
が形成されるようにその蒸発器の位置を選定している。
アンチモンの若干は第1ダイノードの露出面にも偶然不
随意に蒸着され、また若干は第1り゛イノードの羽根板
の間を通って第2ダイノードの一部に達し得ることは言
う昔でもないが、この羽根板による遮蔽によりダイノー
ドの若干の部分には全くアンチモンが達せず、この結果
生成した各ダイ7・−ド上の2次電子放射面は不均一で
ある。
随意に蒸着され、また若干は第1り゛イノードの羽根板
の間を通って第2ダイノードの一部に達し得ることは言
う昔でもないが、この羽根板による遮蔽によりダイノー
ドの若干の部分には全くアンチモンが達せず、この結果
生成した各ダイ7・−ド上の2次電子放射面は不均一で
ある。
このようなタ゛イノード表面からの2次電子放射利得は
著しく不均一(すなわち位置依存的)であるため、酸化
ベリリウム銅ダイノード上にアンチモンを蒸着すること
は廃止する必要がある。
著しく不均一(すなわち位置依存的)であるため、酸化
ベリリウム銅ダイノード上にアンチモンを蒸着すること
は廃止する必要がある。
この発明による電子放電管は光電陰極と1次夕”イノー
ドを有し7、その1次ダイノードが酸化物の2次電子放
射面を持つ活性領域を有する。
ドを有し7、その1次ダイノードが酸化物の2次電子放
射面を持つ活性領域を有する。
その酸化物表面の実質的全面にアンチモン化アルカリ化
合物の実質的に一様な層が形成されている。
合物の実質的に一様な層が形成されている。
第1図に管球10で示す光増倍管ば円節形側壁14と円
形フェースプレート16を持つ外囲器12を有し、フェ
ースプレート16に隣接する側壁14の一部にはアルミ
ニウム被膜17が設けられている。
形フェースプレート16を持つ外囲器12を有し、フェ
ースプレート16に隣接する側壁14の一部にはアルミ
ニウム被膜17が設けられている。
管球10内にはフェースグレー川・16上および側壁1
4のアルミニウム被膜17の一部に沿ってた電陰極18
がある。
4のアルミニウム被膜17の一部に沿ってた電陰極18
がある。
この光電陰極18のフェースプレート16上の部分は透
明であるが、アルミニウム被膜17に沿う部分は反射性
である。
明であるが、アルミニウム被膜17に沿う部分は反射性
である。
この光電陰極18は例えばアンチモン化カリウムセシウ
ムその池当業者に公知の多数の光電子放射材料のどれを
用いてもよい。
ムその池当業者に公知の多数の光電子放射材料のどれを
用いてもよい。
管球10の内部にはフェースプレート16に面して例え
ばベリリウム酸化物の活性酸化物2次電子放射面22を
持つベリリウム銅材料より成るカップ型の1次または第
1り゛イノード20がある。
ばベリリウム酸化物の活性酸化物2次電子放射面22を
持つベリリウム銅材料より成るカップ型の1次または第
1り゛イノード20がある。
被膜22はアンチモン化カリウムセシウム等のアンチモ
ン化アルカリ化合物の実質的に均一な層で覆われている
。
ン化アルカリ化合物の実質的に均一な層で覆われている
。
この1次ダイノード20と光電陰極18(の透明部分)
との間には間隔をむいて有孔集束電極24が設げられて
いる。
との間には間隔をむいて有孔集束電極24が設げられて
いる。
1次ダイノード20はカップ状を威し、平面状メツシュ
27で覆われた実質的に円形の頂目すなわち入力開口2
6と、光電陰極18と実質的に平行で実質的に平担な底
面28と、この底面を頂目26の周縁に接続するほぼ円
錐台状側壁29とを有する。
27で覆われた実質的に円形の頂目すなわち入力開口2
6と、光電陰極18と実質的に平行で実質的に平担な底
面28と、この底面を頂目26の周縁に接続するほぼ円
錐台状側壁29とを有する。
側壁29の第1の領域に出力開口30が貫通している。
箱型の2次タ°イノード31はカップ型の1次ダイノー
ド20から放出された2次電子の受入部材として働らき
、入力開口32と出力開口34を有する。
ド20から放出された2次電子の受入部材として働らき
、入力開口32と出力開口34を有する。
この2次タ゛イノード31から出力開口34を通る2次
電子は陽極36に衝突する1次電子として働らく。
電子は陽極36に衝突する1次電子として働らく。
第1図には光電陰極18からの電子放射を陽極36に伝
播連結するグイノードが2つしか示されていないが、2
次ダイノード31と陽極36の間に複数個の2次ダイノ
ードを追加し得ることは明らかである。
播連結するグイノードが2つしか示されていないが、2
次ダイノード31と陽極36の間に複数個の2次ダイノ
ードを追加し得ることは明らかである。
このダイノードの総数は特に管球に必要な最終利得に支
配される。
配される。
このカップ型の1次ターイノード20と箱型の2次ダイ
ノード31は米国特許第4112325号明細書に記載
されている。
ノード31は米国特許第4112325号明細書に記載
されている。
1次および2次タ゛イノード20,31.集束電極24
、光電陰極18釦よび陽極36には静電荷の印加に用い
る導線が接続されている。
、光電陰極18釦よび陽極36には静電荷の印加に用い
る導線が接続されている。
この導線(図示せず)は管球10のベース40の金属ピ
ン38で終っている。
ン38で終っている。
集束電極24と平面メツシュ27との間には複数個の白
金アンチモンビード42が配置されている。
金アンチモンビード42が配置されている。
このビード42は白金50%アンチモン50係の合金で
当業者に公知の方法で金属線44に取付けられている。
当業者に公知の方法で金属線44に取付けられている。
金属線44は1本に付き2個のビードを取付けて白金ア
ンチモン蒸着装置46を形成することが好ましい。
ンチモン蒸着装置46を形成することが好ましい。
この蒸着装置46はアンチモンを全方向に均一に分配す
る点源としてではなく、線49の長さに沿って分配する
線源として働らく。
る点源としてではなく、線49の長さに沿って分配する
線源として働らく。
蒸着の均一度を保証するため各管球に蒸着装置46が2
つずつ取付けられている(1つしか図示してない)。
つずつ取付けられている(1つしか図示してない)。
アンチモンの蒸着をさらに均一にするには蒸着装置46
を互いに直角に配置するのが理想的であるが、事実上互
いに捩れた関係で配置することもできる。
を互いに直角に配置するのが理想的であるが、事実上互
いに捩れた関係で配置することもできる。
外囲器12内に容器48のようなアルカリ材料源を置き
、この容器48にクロム酸カリウム、クロム酸セシウム
、還元剤および緩和剤を入れることもできる。
、この容器48にクロム酸カリウム、クロム酸セシウム
、還元剤および緩和剤を入れることもできる。
このような材料は当業者に公知で説明の必要がない。
容器は1個しか図示されていないが、各アルカリ材料ご
とに別の容器を用いることもできる。
とに別の容器を用いることもできる。
このアルカリ材料は光電陰極1B:!=−よび1次夕“
イノード20上のアンチモン化アルカリ化合物層の形成
に用いられる。
イノード20上のアンチモン化アルカリ化合物層の形成
に用いられる。
この発明の構体における1次ダイノード20の2次電子
放射利得は、ベリリウム銅グイノードの場合酸化ベリリ
ウムである標準2次電子放射面上の酸化物被膜22の本
来の位置にアンチモンの実質的に均一な層を蒸着し、こ
れを活性化してアンチモン化アルカリ化合物を形成する
ことにより向上する。
放射利得は、ベリリウム銅グイノードの場合酸化ベリリ
ウムである標準2次電子放射面上の酸化物被膜22の本
来の位置にアンチモンの実質的に均一な層を蒸着し、こ
れを活性化してアンチモン化アルカリ化合物を形成する
ことにより向上する。
このアンチモン層の厚さは約100 OAか望ましいこ
とが判っている。
とが判っている。
実質的に平担な活性面をアンチモン層蒸着の基板として
持つ酸化ベリリウム銅のカップ型の1次ダイノード20
を用いることにより、ニッケルのダイノード基板と蒸着
アンチモン層との間にしばしば起るよろい戸型活性面上
のアンチモンの不均一蒸着とその合金化の問題は解消す
る。
持つ酸化ベリリウム銅のカップ型の1次ダイノード20
を用いることにより、ニッケルのダイノード基板と蒸着
アンチモン層との間にしばしば起るよろい戸型活性面上
のアンチモンの不均一蒸着とその合金化の問題は解消す
る。
その上酸化されたべ1.11Jウム銅がすでに2次電子
放射材料であるため、アンチモン蒸着層耘よび生成した
アンチモン化アルカリ化合物に如何なる微小変化があっ
ても、下層の酸化ベリ17ウムの2次電子放射面からの
2次電子で補償される。
放射材料であるため、アンチモン蒸着層耘よび生成した
アンチモン化アルカリ化合物に如何なる微小変化があっ
ても、下層の酸化ベリ17ウムの2次電子放射面からの
2次電子で補償される。
この発明の構造はそれ自身安価で製造効率がよいが、管
球部品は前記米国特許願第65842号明細書記載の装
置の構成に用いたものと同じものが望ましい。
球部品は前記米国特許願第65842号明細書記載の装
置の構成に用いたものと同じものが望ましい。
アンチモンの蒸着装置46は1次ダイノード20の酸化
物面22と外囲器12の内面の双方に同時にアンチモン
が蒸着するように位置決めする。
物面22と外囲器12の内面の双方に同時にアンチモン
が蒸着するように位置決めする。
このアンチモンの蒸着装置46をフエ−スプレート16
より1次ターイノード20に近接させることにより、タ
ーイノード面に約1000A。
より1次ターイノード20に近接させることにより、タ
ーイノード面に約1000A。
フェースプレート内面に約7OAの厚さのアンチモン層
を蒸着すればよい。
を蒸着すればよい。
ダイノード層は数1oovに達するエネルギを持つ入射
光電子から全エネルギを吸収できなげればならないから
、フェースプレート16より1次夕“イノード20の方
のアンチモン層を厚くする必要がある。
光電子から全エネルギを吸収できなげればならないから
、フェースプレート16より1次夕“イノード20の方
のアンチモン層を厚くする必要がある。
反対にフェースプレート16上に形成された光電陰極1
8のような透明光電陰極はその内部で発生した光電子が
真空中に逸出し得るように比較的薄くなげればならない
。
8のような透明光電陰極はその内部で発生した光電子が
真空中に逸出し得るように比較的薄くなげればならない
。
1次グイノード20上の高利得アンチモン化アルカリ2
次電子放射面とフェースプレート16上の光電陰極18
とを同時に形成するには、管球を排気系(図示せず)に
接続して管内圧力が10−6M、7n、H,g 程度以
下になる1で排気した後、管球を257〜4000Cで
2〜3時間加熱して管球部品内部から吸蔵ガスを追出し
、然る後室温に冷却する。
次電子放射面とフェースプレート16上の光電陰極18
とを同時に形成するには、管球を排気系(図示せず)に
接続して管内圧力が10−6M、7n、H,g 程度以
下になる1で排気した後、管球を257〜4000Cで
2〜3時間加熱して管球部品内部から吸蔵ガスを追出し
、然る後室温に冷却する。
管球10が室温にある間に、フェースプレート16を含
む外囲器12の内面と1次ダイノード20の酸化物の2
次電子放射面22に同時にアンチモンを被着する。
む外囲器12の内面と1次ダイノード20の酸化物の2
次電子放射面22に同時にアンチモンを被着する。
フェースプレート16と1次ダイノード20の上のアン
チモンの上記所要厚さは、フェースプレート16上に蒸
着したアンチモンの光透過度を監視することにより得ら
れることが判っている。
チモンの上記所要厚さは、フェースプレート16上に蒸
着したアンチモンの光透過度を監視することにより得ら
れることが判っている。
この光透過度は米国特許第2676282号明細書記載
の方法によって測定することができ、フェースプレート
16を光が完全に透過するときの目盛の読みを100と
して光表示器(図示せず)を設定することかできる。
の方法によって測定することができ、フェースプレート
16を光が完全に透過するときの目盛の読みを100と
して光表示器(図示せず)を設定することかできる。
アンチモンの蒸着装置46からのアンチモノの蒸発はフ
ェースプレート16の透過度が初期値の約70%になる
1で続けるのが好ましい。
ェースプレート16の透過度が初期値の約70%になる
1で続けるのが好ましい。
次にフェースプレート16上のアンチモン被膜と1次ダ
イノード20上のアンチモン層を活性化するために真空
外囲器12にカリウムおよびセシウムを導入する。
イノード20上のアンチモン層を活性化するために真空
外囲器12にカリウムおよびセシウムを導入する。
このアルカル金属を導入するには、容器48を充分高温
に加熱して内部の物質を蒸発させる。
に加熱して内部の物質を蒸発させる。
容器48の加熱はそれに電流を直すか、外部の無線周波
電極により行えはよい。
電極により行えはよい。
次に管球10を炉(図示せず)中にむいて約180℃の
温度で感光度が最大に達し、電気漏洩が所定値に下る1
で力ロ熱した後、約5〜b で約70〜80℃lで除冷し、それ以後は室温1で放冷
する。
温度で感光度が最大に達し、電気漏洩が所定値に下る1
で力ロ熱した後、約5〜b で約70〜80℃lで除冷し、それ以後は室温1で放冷
する。
管球10を排気系から取外して排気管(図示せず)を封
じ切ると、その管球は動作l〜得る状態になる。
じ切ると、その管球は動作l〜得る状態になる。
上述の推奨実施例にお・いては1次ダイノード20の酸
化物2次電子放射面22がベリリウム銅2次電子放射面
であるが、酸化アルミニウムや酸化マグネシウムも満足
な酸化物2次電子放射面を与える。
化物2次電子放射面22がベリリウム銅2次電子放射面
であるが、酸化アルミニウムや酸化マグネシウムも満足
な酸化物2次電子放射面を与える。
1次夕゛イノードの基材をベリリウム銅として説明した
が、表面に酸化物の2次電子放射被膜を被着し得るもの
は池の材料でも使用し得ることを理解すべきである。
が、表面に酸化物の2次電子放射被膜を被着し得るもの
は池の材料でも使用し得ることを理解すべきである。
このような曲の基板材料にはニッケルおよび銀または銅
マトリックスとの合金がある。
マトリックスとの合金がある。
上述の方法で製造した光増倍管は一般に9.3俤のパル
ス高さ分解能を持つことが測定で判り、81.8%もの
良好なパルス高さ分解能を持つものが生産されている。
ス高さ分解能を持つことが測定で判り、81.8%もの
良好なパルス高さ分解能を持つものが生産されている。
これに対して標準の酸化ベリリウム2次電子放射層を1
次夕“イノードに用いた光増倍管のパルス高さ分解能は
一般に9.8%である。
次夕“イノードに用いた光増倍管のパルス高さ分解能は
一般に9.8%である。
第2図は酸化べ1,11.)ラム面に被着されたカリラ
ムネ・よびセシウムで活性化されたアンチモンから成る
層の2次電子放射利得の曲線を示す。
ムネ・よびセシウムで活性化されたアンチモンから成る
層の2次電子放射利得の曲線を示す。
この発明の背景に対して上述した曲の2つの2次電子放
射材料の利得曲線も比較のために示されている。
射材料の利得曲線も比較のために示されている。
曲線50,52.54はそれぞれ酸化ベリリウム銅合金
、アンチモン化セシウム(Ca3Sb)hよゝびカリウ
ムおよびセシウムで活性化されたアンチモンに対するも
のである。
、アンチモン化セシウム(Ca3Sb)hよゝびカリウ
ムおよびセシウムで活性化されたアンチモンに対するも
のである。
第1図はこの発明の光増倍管の部分断面図、第2図は第
1図の夕゛イノードの電子放射材料を含む種々の2次電
子放射材料の一般的相対2次電子放射特性を示す図表で
ある。 10・・・電子放電管管球、12・・・外囲器、18・
・・光電陰極、20・・・1次夕”イノード、22・・
・2次電子放射面、23・・・アンチモン化アルカリ層
、31・・・2次グイノード、36・・・陽極。
1図の夕゛イノードの電子放射材料を含む種々の2次電
子放射材料の一般的相対2次電子放射特性を示す図表で
ある。 10・・・電子放電管管球、12・・・外囲器、18・
・・光電陰極、20・・・1次夕”イノード、22・・
・2次電子放射面、23・・・アンチモン化アルカリ層
、31・・・2次グイノード、36・・・陽極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 真空外囲器と、この外囲器内の光電陰極と、酸化物
2次電子放射面を表面に持つ活性部を有する1次ダイノ
ードと、上記酸化物2次電子放射面の実質的全面に形成
されたアンチモン化アルカリ化合物の実質的に均一な層
と、上記1次ダイノードから隔てられた少なくとも1個
の2次ダイノードと、この2次ダイノードに隣接する陽
極とを含む電子放電管。 2 上記アンチモン化アルカリ化合物は上記夕”イノー
ドの上記酸化物2次電子放射面上の本来の位置に被着さ
れたアンチモンの基層を含み、上記光電陰極は上記外囲
器の内面上の本来の位置に被着されたアンチモンの基膜
を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1記載の電子
放電管。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/132,659 US4311939A (en) | 1980-03-21 | 1980-03-21 | Alkali antimonide layer on a beryllim-copper primary dynode |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56147352A JPS56147352A (en) | 1981-11-16 |
| JPS5841622B2 true JPS5841622B2 (ja) | 1983-09-13 |
Family
ID=22455020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56039301A Expired JPS5841622B2 (ja) | 1980-03-21 | 1981-03-17 | 電子放電管 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4311939A (ja) |
| JP (1) | JPS5841622B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4855642A (en) * | 1988-03-18 | 1989-08-08 | Burle Technologies, Inc. | Focusing electrode structure for photomultiplier tubes |
| FR2634062A1 (fr) * | 1988-07-05 | 1990-01-12 | Radiotechnique Compelec | Dynode du type " a feuilles ", multiplicateur d'electrons et tube photomultiplicateur comportant de telles dynodes |
| JP2758529B2 (ja) * | 1992-04-22 | 1998-05-28 | 浜松ホトニクス株式会社 | 反射型光電面および光電子増倍管 |
| JP3518880B2 (ja) * | 1992-06-11 | 2004-04-12 | 浜松ホトニクス株式会社 | 反射型アルカリ光電面および光電子増倍管 |
| US5633562A (en) * | 1993-02-02 | 1997-05-27 | Hamamatsu Photonics K.K. | Reflection mode alkali photocathode, and photomultiplier using the same |
| JPH07245078A (ja) | 1994-03-07 | 1995-09-19 | Hamamatsu Photonics Kk | 光電子増倍管 |
| JP3392240B2 (ja) * | 1994-11-18 | 2003-03-31 | 浜松ホトニクス株式会社 | 電子増倍管 |
| US5914561A (en) * | 1997-08-21 | 1999-06-22 | Burle Technologies, Inc. | Shortened profile photomultiplier tube with focusing electrode |
| AU1891399A (en) * | 1999-01-19 | 2000-08-07 | Hamamatsu Photonics K.K. | Photomultiplier |
| US7015467B2 (en) * | 2002-10-10 | 2006-03-21 | Applied Materials, Inc. | Generating electrons with an activated photocathode |
| US7446474B2 (en) * | 2002-10-10 | 2008-11-04 | Applied Materials, Inc. | Hetero-junction electron emitter with Group III nitride and activated alkali halide |
| JP4926504B2 (ja) * | 2006-03-08 | 2012-05-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光電面、それを備える電子管及び光電面の製造方法 |
| JP5342769B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2013-11-13 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光電陰極、電子管及び光電子増倍管 |
| CN108470664B (zh) * | 2018-05-24 | 2020-01-07 | 中国科学院电子学研究所 | 光电阴极及其制备方法 |
| CN113512470A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-10-19 | 杭州安誉科技有限公司 | 光电倍增管用光电阴极及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2574356A (en) * | 1947-01-21 | 1951-11-06 | Emi Ltd | Process of making photoelectric cathodes |
| US3753023A (en) * | 1971-12-03 | 1973-08-14 | Rca Corp | Electron emissive device incorporating a secondary electron emitting material of antimony activated with potassium and cesium |
| GB1571551A (en) * | 1976-02-04 | 1980-07-16 | Rca Corp | Electron discharge tube having an electron emissive electrode |
| US4160185A (en) * | 1977-12-14 | 1979-07-03 | Rca Corporation | Red sensitive photocathode having an aluminum oxide barrier layer |
-
1980
- 1980-03-21 US US06/132,659 patent/US4311939A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-03-17 JP JP56039301A patent/JPS5841622B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4311939A (en) | 1982-01-19 |
| JPS56147352A (en) | 1981-11-16 |
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