JPS5843729B2 - ハロゲンカギンシヤシンカンコウザイリヨウノ タイデンボウシホウホウ - Google Patents
ハロゲンカギンシヤシンカンコウザイリヨウノ タイデンボウシホウホウInfo
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はハロゲン化銀写真感光材料の帯電防止方法に関
するものである。
するものである。
ハロゲン化銀写真感光材料の製造あるいは使用中に静電
気が帯電すると、それが放電した際、いわゆるスタチッ
クマークといわれる障害を起す。
気が帯電すると、それが放電した際、いわゆるスタチッ
クマークといわれる障害を起す。
ハロゲン化銀写真感光材料は、その製造に際し、種々の
工程、たとえば巻き取り、巻き返し、塗布、乾燥時の搬
送などの工程で他の物質との間で摩擦や剥離を受け、帯
電し、これが放電すると感光層を塗布された・・ロゲン
化銀写真感光材料が感光し、現像するといわゆるスタチ
ックマークという感光むらによる故障を生ずる。
工程、たとえば巻き取り、巻き返し、塗布、乾燥時の搬
送などの工程で他の物質との間で摩擦や剥離を受け、帯
電し、これが放電すると感光層を塗布された・・ロゲン
化銀写真感光材料が感光し、現像するといわゆるスタチ
ックマークという感光むらによる故障を生ずる。
また製造されたノ・ロゲン化銀写真感光材料を使用する
場合にも、特に低湿度の条件下で、静電気が帯電すると
スタチックマークを生じたり、あるいはゴミなどが付着
したりして種々の障害が起る。
場合にも、特に低湿度の条件下で、静電気が帯電すると
スタチックマークを生じたり、あるいはゴミなどが付着
したりして種々の障害が起る。
従来より写真フィルムには種々の帯電防止剤が使用され
ている。
ている。
しかしながら、これらの帯電防止剤は、特に低湿度にお
いて満足できるものが少ないだけでなく、高濃度で使用
せねば充分な効果を奏さないものが多い。
いて満足できるものが少ないだけでなく、高濃度で使用
せねば充分な効果を奏さないものが多い。
従来の帯電防止剤の多くは多量に使用すると、ハロゲン
化銀写真感光材料の感光度、カブリ、保存性などに悪影
響を及ぼし、あるいは接着故障、ブリード現象等を伴う
など、実用上必ずしも満足し得るものではなかった。
化銀写真感光材料の感光度、カブリ、保存性などに悪影
響を及ぼし、あるいは接着故障、ブリード現象等を伴う
など、実用上必ずしも満足し得るものではなかった。
本発明は前記のような欠点のない帯電防止剤を提供する
とともに、該帯電防止剤を用いてノ・ロゲン化銀写真感
光材料を良好に帯電防止する方法を提供することにある
。
とともに、該帯電防止剤を用いてノ・ロゲン化銀写真感
光材料を良好に帯電防止する方法を提供することにある
。
本発明者はフェノールアルデヒド縮合物にグリシドール
およびエチレンオキサイドを付加共重合して得られる生
成物(以下本発明の付加重合物と称する)を帯電防止剤
として用いることにより前記の目的を達成し得ることを
見出した。
およびエチレンオキサイドを付加共重合して得られる生
成物(以下本発明の付加重合物と称する)を帯電防止剤
として用いることにより前記の目的を達成し得ることを
見出した。
すなわち、該帯電防止剤をノ・ロゲン化銀写真感光材料
の構成要素、たとえば・・ロゲン化銀乳剤層、下引層、
中間層、フィルタ一層、・・レーション防止層、保護層
、裏引層などの少なくとも1つの層中に含有せしめるか
、あるいはノ)ロゲン化銀写真感光材料の最外層上に、
塗布せしめるか、あるいは支持体上に塗設するなどの手
段によりハロゲン化銀写真感光材料に望ましい帯電防止
作用が付与される。
の構成要素、たとえば・・ロゲン化銀乳剤層、下引層、
中間層、フィルタ一層、・・レーション防止層、保護層
、裏引層などの少なくとも1つの層中に含有せしめるか
、あるいはノ)ロゲン化銀写真感光材料の最外層上に、
塗布せしめるか、あるいは支持体上に塗設するなどの手
段によりハロゲン化銀写真感光材料に望ましい帯電防止
作用が付与される。
しかも、その際ハロゲン化銀写真感光材料の感光度、階
調性、カブリ、保存性などの写真性能には何らの悪影響
も及ぼされない。
調性、カブリ、保存性などの写真性能には何らの悪影響
も及ぼされない。
本発明の付加重合物を得るための原料として用いられる
フェノールアルデヒド縮合物には、たとえば下記一般式
(I)で示される如き繰返し構造単位を有する、置換基
を有し、または有せざるフェノールアルデヒド縮合物が
代表的なものとして包含される。
フェノールアルデヒド縮合物には、たとえば下記一般式
(I)で示される如き繰返し構造単位を有する、置換基
を有し、または有せざるフェノールアルデヒド縮合物が
代表的なものとして包含される。
一般式(I)
(式中R1およびR2は水素原子、ハロゲン原子、カル
ボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アル
キル基、置換アルキル基、アルコキシ基またはフェニル
基、R3は水素原子、メチル基またはα−フリル基を表
わす。
ボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アル
キル基、置換アルキル基、アルコキシ基またはフェニル
基、R3は水素原子、メチル基またはα−フリル基を表
わす。
このような置換基を有しまたは有せざるフェノール−ア
ルデヒド縮合物としては、たとえば下記の如きものが挙
げられる。
ルデヒド縮合物としては、たとえば下記の如きものが挙
げられる。
フェノール−ホルマリン樹脂
4−メチル−フェノール−ホルマリン樹脂2−t−7”
チル−フェノール−ホルマリン樹脂4−t−7”チル−
フェノール−ホルマリン樹脂4−オクチル−フェノール
−ホルマリン樹脂4〜ノニル−フェノール−ホルマリン
樹脂2・4−ジ−ノニル−フェノール−ホルマリン樹脂 4− )’テシルーフェノールーホルマリン樹脂4−テ
トラテシルーフェノールーホルマリン樹脂 2−オクタデシル−フェノール−ホルマリン樹脂 4−オクタデシル−フェノール−ホルマリン樹脂 3−ペンタデシル−7エノールーホルマリン樹脂 2・4−ジ−t−ブチル−フェノール−ホルマリン樹脂 2−メチル−4−テトラデシル−フェノール−ホルマリ
ン樹脂 2−クロル−フェノール−ホルマリン樹脂4−プロモー
フエノール−ホルマリン樹脂3−ニトロ−フェノール−
ホルマリン樹脂4−カルボキシ−フェノール−ホルマリ
ン樹脂2−クロル−4−ヒドロキシエチル−フェノール
−ホルマリン樹脂 2−クロル−4−クロルエチル−フェノール−ホルマリ
ン樹脂 2−ヨードエチル−4−メトキシカルボニル−フェノー
ル−ホルマリン樹脂 4−メトキシ−フェノール−ホルマリン樹脂4−メチル
カルボキシ−フェノール−ホルマリン樹脂 2−ヒドロキシメチル−3−メチル−フェノール−ホル
マリン樹脂 4−ノニル−フェノール/2・4−ジ−ノニルフェノー
ル−ホルマリン樹脂 フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−メチル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−t−ブチル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 2−オクチル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−ノニル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 3−ペンタデシル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 2・4−シー t−7”チル−フェノール−アセトアル
デヒド樹脂 2−メチル−4−テトラデシル−フェノール−アセトア
ルデヒド樹脂 4−クロル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 2−プロモーフエノール−アセトアルデヒド樹脂 2−クロルエチル−4−クロル−フェノール−アセトア
ルデヒド樹脂 2−ヨー)’メチルー4−メトキシカルボニル−フェノ
ール−アセトアルデヒド樹脂 2−メチルカルボキシーフェノールーアセトアルデ心ド
樹脂 4−、/ニルーフェノール/2・4−ジーノニルフェノ
ールアセトアルデヒト樹脂 4−テトラデシル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 2−オクタデシル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−オクタデシル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−メトキシ−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−t−ブチル−フェノール−フルフラール樹脂 2・4−ジ−ノニル−フェノール−フルフラール樹脂 4−ドデシル−フェノール−フルフラール樹脂4−カル
ボキシ−フェノール−フルフラール樹脂 2−クロル−4−ヒドロキシエチル−フェノール−フル
フラール樹脂 2−ヒドロキシメチル−3−メチル−フェノール−フル
フラール樹脂 4−/ニルー7エノール/2・4−ジ−ノニルフェノー
ル−フルフラール樹脂 これらのフェノール−アルデヒド樹脂は、一般にフェノ
ール類とアルデヒド類を縮合反応せしめることによって
得られるが、たとえばフェノールアセトアルデヒド樹脂
の如く、原料としてアセトアルデヒドの代りにアセチレ
ンを用いてフェノール類と縮合反応せしめることによっ
ても、同一の繰返し基本構造単位を有する樹脂を製造す
ることができ、これらの樹脂はその製造法の如何に拘わ
らず、いずれも本発明においてグリシドールおよびエチ
レンオキサイドを付加共重合せしめる原料として有効に
使用することができる。
チル−フェノール−ホルマリン樹脂4−t−7”チル−
フェノール−ホルマリン樹脂4−オクチル−フェノール
−ホルマリン樹脂4〜ノニル−フェノール−ホルマリン
樹脂2・4−ジ−ノニル−フェノール−ホルマリン樹脂 4− )’テシルーフェノールーホルマリン樹脂4−テ
トラテシルーフェノールーホルマリン樹脂 2−オクタデシル−フェノール−ホルマリン樹脂 4−オクタデシル−フェノール−ホルマリン樹脂 3−ペンタデシル−7エノールーホルマリン樹脂 2・4−ジ−t−ブチル−フェノール−ホルマリン樹脂 2−メチル−4−テトラデシル−フェノール−ホルマリ
ン樹脂 2−クロル−フェノール−ホルマリン樹脂4−プロモー
フエノール−ホルマリン樹脂3−ニトロ−フェノール−
ホルマリン樹脂4−カルボキシ−フェノール−ホルマリ
ン樹脂2−クロル−4−ヒドロキシエチル−フェノール
−ホルマリン樹脂 2−クロル−4−クロルエチル−フェノール−ホルマリ
ン樹脂 2−ヨードエチル−4−メトキシカルボニル−フェノー
ル−ホルマリン樹脂 4−メトキシ−フェノール−ホルマリン樹脂4−メチル
カルボキシ−フェノール−ホルマリン樹脂 2−ヒドロキシメチル−3−メチル−フェノール−ホル
マリン樹脂 4−ノニル−フェノール/2・4−ジ−ノニルフェノー
ル−ホルマリン樹脂 フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−メチル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−t−ブチル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 2−オクチル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−ノニル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 3−ペンタデシル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 2・4−シー t−7”チル−フェノール−アセトアル
デヒド樹脂 2−メチル−4−テトラデシル−フェノール−アセトア
ルデヒド樹脂 4−クロル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 2−プロモーフエノール−アセトアルデヒド樹脂 2−クロルエチル−4−クロル−フェノール−アセトア
ルデヒド樹脂 2−ヨー)’メチルー4−メトキシカルボニル−フェノ
ール−アセトアルデヒド樹脂 2−メチルカルボキシーフェノールーアセトアルデ心ド
樹脂 4−、/ニルーフェノール/2・4−ジーノニルフェノ
ールアセトアルデヒト樹脂 4−テトラデシル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 2−オクタデシル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−オクタデシル−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−メトキシ−フェノール−アセトアルデヒド樹脂 4−t−ブチル−フェノール−フルフラール樹脂 2・4−ジ−ノニル−フェノール−フルフラール樹脂 4−ドデシル−フェノール−フルフラール樹脂4−カル
ボキシ−フェノール−フルフラール樹脂 2−クロル−4−ヒドロキシエチル−フェノール−フル
フラール樹脂 2−ヒドロキシメチル−3−メチル−フェノール−フル
フラール樹脂 4−/ニルー7エノール/2・4−ジ−ノニルフェノー
ル−フルフラール樹脂 これらのフェノール−アルデヒド樹脂は、一般にフェノ
ール類とアルデヒド類を縮合反応せしめることによって
得られるが、たとえばフェノールアセトアルデヒド樹脂
の如く、原料としてアセトアルデヒドの代りにアセチレ
ンを用いてフェノール類と縮合反応せしめることによっ
ても、同一の繰返し基本構造単位を有する樹脂を製造す
ることができ、これらの樹脂はその製造法の如何に拘わ
らず、いずれも本発明においてグリシドールおよびエチ
レンオキサイドを付加共重合せしめる原料として有効に
使用することができる。
また、本発明の付加重合物を得るための原料として用い
られるフェノールアルデヒド縮合物にはたとえば下記一
般式(IIII)で示される如き繰返し構造単位を有す
る置換基を有しまたは有せざるフェノールーホルマlJ
ン縮合物をノ・ロゲン化水素で処理することにより、縮
合物の末端には残存するメチロール基をハロゲン化メチ
ル基に変化せしめた生成物も包含される。
られるフェノールアルデヒド縮合物にはたとえば下記一
般式(IIII)で示される如き繰返し構造単位を有す
る置換基を有しまたは有せざるフェノールーホルマlJ
ン縮合物をノ・ロゲン化水素で処理することにより、縮
合物の末端には残存するメチロール基をハロゲン化メチ
ル基に変化せしめた生成物も包含される。
(式中R1およびR2は水素原子、ハロゲン原子、カル
ボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アル
キル基、置換アルキル基、アルコキシ基またはフェニル
基を表わす。
ボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アル
キル基、置換アルキル基、アルコキシ基またはフェニル
基を表わす。
)このような置換基を有しまたは有せざるフェノール−
ホルマリン縮合物をハロゲン化処理して得られる生成物
としては、たとえば下記の如きものが挙げられる。
ホルマリン縮合物をハロゲン化処理して得られる生成物
としては、たとえば下記の如きものが挙げられる。
臭素化−フエノール−ホルマリン樹脂
臭素化−4−メチル−フェノール−ホルマリン樹脂
塩素化−2−t −7”チル−フェノール−ホルマリン
樹脂 塩素化−4−t −7”チル−フェノール−ホルマリン
樹脂 臭素化−4−オクチル−フェノール−ホルマリン樹脂 塩素化−4−クミル−フェノール−ホルマリン樹脂 臭素化−4−/ ニル−フェノール−ホルマリン樹脂 塩素化−2・4−ジ−ノニル−フェノール−ホルマリン
樹脂 塩素化−4−テトラデシル−フェノール−ホルマリン樹
脂 臭素化−2−オクタデシル−フェノール−ホルマリン樹
脂 塩素化−2・4−ジ−t−ブチル−フェノールホルマリ
ン樹脂 臭素化−2−メチル−4−テトラデシル−フェノール−
ホルマリン樹脂 塩素化−2−クロル−フェノール−ホルマリン樹脂 臭素化−4−7”ロモーフェノールーホルマリン樹脂 塩素化−2−クロル−4−ヒドロキシエチルフェノール
−ホルマリン樹脂 JJ化−4−メトキシ−フェノール−ホルマリン樹脂 本発明の付加重合物は前記の如きフェノールアルデヒド
縮合物にグリシドールおよびエチレンオキサイドを付加
共重合させて得られる生成物であるが、グリシドールお
よびエチレンオキサイドは前記フェノールアルデヒド縮
合物のフェノール核の水酸基と反応してフェニル核の該
水酸基の位置にたとえば下記一般式(III)あるいは
一般式(IV)で示される如きブロック共重合した基と
して導入される。
樹脂 塩素化−4−t −7”チル−フェノール−ホルマリン
樹脂 臭素化−4−オクチル−フェノール−ホルマリン樹脂 塩素化−4−クミル−フェノール−ホルマリン樹脂 臭素化−4−/ ニル−フェノール−ホルマリン樹脂 塩素化−2・4−ジ−ノニル−フェノール−ホルマリン
樹脂 塩素化−4−テトラデシル−フェノール−ホルマリン樹
脂 臭素化−2−オクタデシル−フェノール−ホルマリン樹
脂 塩素化−2・4−ジ−t−ブチル−フェノールホルマリ
ン樹脂 臭素化−2−メチル−4−テトラデシル−フェノール−
ホルマリン樹脂 塩素化−2−クロル−フェノール−ホルマリン樹脂 臭素化−4−7”ロモーフェノールーホルマリン樹脂 塩素化−2−クロル−4−ヒドロキシエチルフェノール
−ホルマリン樹脂 JJ化−4−メトキシ−フェノール−ホルマリン樹脂 本発明の付加重合物は前記の如きフェノールアルデヒド
縮合物にグリシドールおよびエチレンオキサイドを付加
共重合させて得られる生成物であるが、グリシドールお
よびエチレンオキサイドは前記フェノールアルデヒド縮
合物のフェノール核の水酸基と反応してフェニル核の該
水酸基の位置にたとえば下記一般式(III)あるいは
一般式(IV)で示される如きブロック共重合した基と
して導入される。
一般式(III)
(各式中、Xl、X2、yl、y2は重合度を表わす。
また、グリシドールとエチレンオキサイドがランダム共
重合した基として導入されたものも本発明の付加重合物
として包含される。
重合した基として導入されたものも本発明の付加重合物
として包含される。
本発明の付加重合物を製造するには、前記の如きフェノ
ール−アルデヒド樹脂またはハロゲン化フェノール−ホ
ルマリン樹脂の1種または2種以上を混合したものをト
ルエン、キシレン、ジオキサンなどの有機溶媒に溶解し
、水酸化カリウムなどのアルカリ触媒の存在下に、13
0−140℃で攪拌しながらグリシドールを約5時間を
要して滴下し付加重合反応せしめた後、13〇−140
℃で攪拌しながらエチレンオキサイドを吹き込み、付加
重合反応せしめて、終了後、氷酢酸で中和し、次いで有
機溶媒を減圧下に除去すればよい。
ール−アルデヒド樹脂またはハロゲン化フェノール−ホ
ルマリン樹脂の1種または2種以上を混合したものをト
ルエン、キシレン、ジオキサンなどの有機溶媒に溶解し
、水酸化カリウムなどのアルカリ触媒の存在下に、13
0−140℃で攪拌しながらグリシドールを約5時間を
要して滴下し付加重合反応せしめた後、13〇−140
℃で攪拌しながらエチレンオキサイドを吹き込み、付加
重合反応せしめて、終了後、氷酢酸で中和し、次いで有
機溶媒を減圧下に除去すればよい。
またグリシドールとエチレンオキサイドの添加順序を逆
にして反応を行なえば逆ブロックの共重合体を得ること
ができる。
にして反応を行なえば逆ブロックの共重合体を得ること
ができる。
このようにして得られるグリシドールおよびエチレンオ
キサイド付加共重合体は一般に粘稠状あるいはソックス
状を呈しており、水あるいはメタノール、エタノール、
アセトン、ジオキサン、メチルセロソルブ、ジメチルホ
ルムアミドなどの有機溶媒に可溶性である。
キサイド付加共重合体は一般に粘稠状あるいはソックス
状を呈しており、水あるいはメタノール、エタノール、
アセトン、ジオキサン、メチルセロソルブ、ジメチルホ
ルムアミドなどの有機溶媒に可溶性である。
グリシドールおよびエチレンオキサイドの付加重合量は
フェノールアルデヒド縮合物あるいはフェノールホルマ
リン縮合物を・・ロゲン化処理して得られる生成物の繰
返し基本構造単位当り、グリシドールは1−20モル程
度、エチレンオキサイドは5−100モル程度が好まし
い。
フェノールアルデヒド縮合物あるいはフェノールホルマ
リン縮合物を・・ロゲン化処理して得られる生成物の繰
返し基本構造単位当り、グリシドールは1−20モル程
度、エチレンオキサイドは5−100モル程度が好まし
い。
これ以上付加した場合にはハロゲン化銀写真感光材料に
カブリなどの障害を与えることがあるため好ましくない
。
カブリなどの障害を与えることがあるため好ましくない
。
次に本発明の付加重合物の代表的具体例を示す。
例示化合物 1
4−t−オクチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシ
ドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の
基本構造単位当りグリシドール5モル、エチレンオキサ
イド20モル付加共重合)例示化合物 2 4−ブチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシドール
およびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構
造単位当りグリシドール1モル、エチレンオキサイド8
モル付加共重合) 例示化合物 3 4−ノニル−フェノールホルマリン樹脂のグリシドール
およびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構
造単位当りグリシドール3モル、エチレンオキサイド1
5モル付加共重合)例示化合物 4 4−メチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシドール
およびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構
造単位当りグリシドール5モル、エチレンオキサイド1
5モル付加共重合)例示化合物 5 4−ノニル−フェノール/2・4−ジ−ノニル−フェノ
ールホルマリン樹脂(モル比1/1)のグリシドールお
よびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構造
単位当りグリシドール20モル、エチレンオキサイド2
0モル付加共重合)例示化合物 6 4−t−オクチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシ
ドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の
基本構造単位当りグリシドール3モル、エチレンオキサ
イド10モル付加共重合)例示化合物 7 2−クロル−4−ノニル−フェノールホルマリン樹脂の
グリシドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(
樹脂の基本構造単位当りグリシドール5モル、エチレン
オキサイド18モル付加共重合) 例示化合物 8 臭素化−4−t −ブチル−フェノールホルマリン樹脂
のグリシドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体
(樹脂の基本構造単位当りグリシドール1モル、エチレ
ンオキサイド7モル付加共重合) 例示化合物 9 4−メトキシ−フェノールホルマリン樹脂のグリシドー
ルおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本
構造単位当りグリシドール15モル、エチレンオキサイ
ド10モル付加共重合)例示化合物 10 4−7トキシカルボニルーフエノールーフルフラール イド付加共重合体(樹脂の基本構造単位当りグリシドー
ル5モル、エチレンオキサイド10モル付加共重合) 例示化合物 11 塩素化−4−フェニルフェノール−ホルマリン樹脂のグ
リシドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹
脂の基本構造単位当りグ)フシドール20モル、エチレ
ンオキサイド5モル付加共重合) 例示化合物 12 4 − M7’シル−フェノール−ホルマリン樹脂のグ
リシドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹
脂の基本構造単位当りグリシドール10モル、エチレン
オキサイド3モル付加共重合)例示化合物 13 4−クミル−フェノール−ホルマリン樹脂のグリシドー
ルおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本
構造単位当りグリシドール10モル、エチレンオキサイ
ド30モル付加共重合)例示化合物 14 4−イソ−プロピル−フェノールホルマリン樹脂のグリ
シドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂
の基本構造単位当りグリシドール7モル、エチレンオキ
サイド10モル付加共重合)例示化合物 15 3−ニトロフェノール−ホルマリン樹脂のグリシドール
およびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構
造単位当りグリシドール20モル、エチレンオキサイド
50モル付加共重合)例示化合物 16 4−n−オクチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシ
ドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の
基本構造単位当りグリシドール5モル、エチレンオキサ
イド10モル付加共重合)例示化合物 17 4−t−ブチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシド
ールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基
本構造単位当りグ)フシドール5モル、エチレンオキサ
イド5モル付加共重合)例示化合物 18 4−t−オクチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシ
ドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の
基本構造単位当りグリシドール110モル、エチレンオ
キサイド30モル付加共重合) 本発明の付加重合物をハロゲン化銀写真感光材料の構成
要素たるハロゲン化銀乳剤層、下引層、中間層、フィル
タ一層、ハレーション防止層、保護層あるいは裏引層な
どに含有せしめるにはそれらの層を形成するための塗布
液中に直接添加溶解せしめるか、水あるいはメタノール
、エタノール、アセトン、ジオキサン、メチルセロソル
ブなどの有機溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して該
塗布液中に添加すればよい。
ドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の
基本構造単位当りグリシドール5モル、エチレンオキサ
イド20モル付加共重合)例示化合物 2 4−ブチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシドール
およびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構
造単位当りグリシドール1モル、エチレンオキサイド8
モル付加共重合) 例示化合物 3 4−ノニル−フェノールホルマリン樹脂のグリシドール
およびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構
造単位当りグリシドール3モル、エチレンオキサイド1
5モル付加共重合)例示化合物 4 4−メチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシドール
およびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構
造単位当りグリシドール5モル、エチレンオキサイド1
5モル付加共重合)例示化合物 5 4−ノニル−フェノール/2・4−ジ−ノニル−フェノ
ールホルマリン樹脂(モル比1/1)のグリシドールお
よびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構造
単位当りグリシドール20モル、エチレンオキサイド2
0モル付加共重合)例示化合物 6 4−t−オクチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシ
ドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の
基本構造単位当りグリシドール3モル、エチレンオキサ
イド10モル付加共重合)例示化合物 7 2−クロル−4−ノニル−フェノールホルマリン樹脂の
グリシドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(
樹脂の基本構造単位当りグリシドール5モル、エチレン
オキサイド18モル付加共重合) 例示化合物 8 臭素化−4−t −ブチル−フェノールホルマリン樹脂
のグリシドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体
(樹脂の基本構造単位当りグリシドール1モル、エチレ
ンオキサイド7モル付加共重合) 例示化合物 9 4−メトキシ−フェノールホルマリン樹脂のグリシドー
ルおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本
構造単位当りグリシドール15モル、エチレンオキサイ
ド10モル付加共重合)例示化合物 10 4−7トキシカルボニルーフエノールーフルフラール イド付加共重合体(樹脂の基本構造単位当りグリシドー
ル5モル、エチレンオキサイド10モル付加共重合) 例示化合物 11 塩素化−4−フェニルフェノール−ホルマリン樹脂のグ
リシドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹
脂の基本構造単位当りグ)フシドール20モル、エチレ
ンオキサイド5モル付加共重合) 例示化合物 12 4 − M7’シル−フェノール−ホルマリン樹脂のグ
リシドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹
脂の基本構造単位当りグリシドール10モル、エチレン
オキサイド3モル付加共重合)例示化合物 13 4−クミル−フェノール−ホルマリン樹脂のグリシドー
ルおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本
構造単位当りグリシドール10モル、エチレンオキサイ
ド30モル付加共重合)例示化合物 14 4−イソ−プロピル−フェノールホルマリン樹脂のグリ
シドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂
の基本構造単位当りグリシドール7モル、エチレンオキ
サイド10モル付加共重合)例示化合物 15 3−ニトロフェノール−ホルマリン樹脂のグリシドール
およびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基本構
造単位当りグリシドール20モル、エチレンオキサイド
50モル付加共重合)例示化合物 16 4−n−オクチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシ
ドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の
基本構造単位当りグリシドール5モル、エチレンオキサ
イド10モル付加共重合)例示化合物 17 4−t−ブチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシド
ールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の基
本構造単位当りグ)フシドール5モル、エチレンオキサ
イド5モル付加共重合)例示化合物 18 4−t−オクチル−フェノールホルマリン樹脂のグリシ
ドールおよびエチレンオキサイド付加共重合体(樹脂の
基本構造単位当りグリシドール110モル、エチレンオ
キサイド30モル付加共重合) 本発明の付加重合物をハロゲン化銀写真感光材料の構成
要素たるハロゲン化銀乳剤層、下引層、中間層、フィル
タ一層、ハレーション防止層、保護層あるいは裏引層な
どに含有せしめるにはそれらの層を形成するための塗布
液中に直接添加溶解せしめるか、水あるいはメタノール
、エタノール、アセトン、ジオキサン、メチルセロソル
ブなどの有機溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して該
塗布液中に添加すればよい。
また支持体やハロゲン化銀写真感光材料の最外層の表面
に適用する場合には同様の溶媒を用いて溶解した溶液を
これらの表面に噴霧塗布するかあるいはその溶液中に浸
漬した後、乾燥すればよい。
に適用する場合には同様の溶媒を用いて溶解した溶液を
これらの表面に噴霧塗布するかあるいはその溶液中に浸
漬した後、乾燥すればよい。
本発明の付加重合物をハロゲン化銀写真感光材料に適用
する場合、その量については付加重合物の種類、適用す
る個所によっても異なるが、感光材料1平方メートル当
り5X10 ’〜IXIOー5モル程度存在せしめる
ことにより有効な帯電防止効果を発揮せしめることがで
きる。
する場合、その量については付加重合物の種類、適用す
る個所によっても異なるが、感光材料1平方メートル当
り5X10 ’〜IXIOー5モル程度存在せしめる
ことにより有効な帯電防止効果を発揮せしめることがで
きる。
しかしながら、使用量はこの範囲に限定されるものでは
なく、適宜効果の得られる最適量を任意に選択すること
ができる。
なく、適宜効果の得られる最適量を任意に選択すること
ができる。
本発明が有効に適用されるハロゲン化銀写真感光材料の
バインダーとしてはゼラチンを始め、種種の親水性コロ
イドが用いられる。
バインダーとしてはゼラチンを始め、種種の親水性コロ
イドが用いられる。
その際、ゼラチンとしてはゼラチンのみならず誘導体ゼ
ラチンも包含され、誘導体ゼラチンとしては、たとえば
米国特許第2614928号明細書に記載されている如
きゼラチンと酸無水物との反応生成物、ゼラチンとイソ
シアネートとの反応生成物、あるいはゼラチンと活性ハ
ロゲン原子を有する化合物との反応生成物等が包含され
る。
ラチンも包含され、誘導体ゼラチンとしては、たとえば
米国特許第2614928号明細書に記載されている如
きゼラチンと酸無水物との反応生成物、ゼラチンとイソ
シアネートとの反応生成物、あるいはゼラチンと活性ハ
ロゲン原子を有する化合物との反応生成物等が包含され
る。
ここにゼラチンとの反応に用いられる酸無水物としては
、たとえば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水安息香
酸、無水酢酸、無水イサト酸、無水コハク酸等が含まれ
、インシアネート化合物としては、たとえばフェニルイ
ソシアネート、p−ブロモフェニルインシアネート、p
−クロロフェニルイソシアネート、p−) IJルイソ
シアネート、p−ニトロフェニルイソシアネート、ナフ
チルイソシアネート等を挙げることができる。
、たとえば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水安息香
酸、無水酢酸、無水イサト酸、無水コハク酸等が含まれ
、インシアネート化合物としては、たとえばフェニルイ
ソシアネート、p−ブロモフェニルインシアネート、p
−クロロフェニルイソシアネート、p−) IJルイソ
シアネート、p−ニトロフェニルイソシアネート、ナフ
チルイソシアネート等を挙げることができる。
さらに活性ハロゲン原子を有する化合物としては、たと
えばベンゼンスルホニルクロライド、p−メトキシベン
ゼンスルホニルクロライド、p−フェノキシベンゼンス
ルホニルクロライド、p−ブロモベンゼンスルホニルク
ロライド、p−トルエンスルホニルクロライド、m−ニ
トロベンゼンスルホニルクロライド、m−スルホベンゾ
イルジクロライド、ナフタレン−β−スルホニルクロラ
イド、p−クロロベンゼンスルホニルクロライド、3−
ニトロ−4−アミノベンゼンスルホニルクロライド、2
−カルボキシ−4−ブロモベンゼンスルホニルクロライ
ド、m−カルボキシベンゼンスルホニルクロライド、2
−アミノ−5−メチルベンゼンスルホニルクロライド、
フタリルクロライド、p−ニトロベンゾイルクロライド
、ベンゾイルクロライド、エチルクロロカーボネート、
フロイルクロライド等が包含される。
えばベンゼンスルホニルクロライド、p−メトキシベン
ゼンスルホニルクロライド、p−フェノキシベンゼンス
ルホニルクロライド、p−ブロモベンゼンスルホニルク
ロライド、p−トルエンスルホニルクロライド、m−ニ
トロベンゼンスルホニルクロライド、m−スルホベンゾ
イルジクロライド、ナフタレン−β−スルホニルクロラ
イド、p−クロロベンゼンスルホニルクロライド、3−
ニトロ−4−アミノベンゼンスルホニルクロライド、2
−カルボキシ−4−ブロモベンゼンスルホニルクロライ
ド、m−カルボキシベンゼンスルホニルクロライド、2
−アミノ−5−メチルベンゼンスルホニルクロライド、
フタリルクロライド、p−ニトロベンゾイルクロライド
、ベンゾイルクロライド、エチルクロロカーボネート、
フロイルクロライド等が包含される。
またハロゲン化銀写真乳剤を作成するために親水性コロ
イドとして、前記の如き誘導体ゼラチンおよび通常の写
真用ゼラチンの他、必要に応じてコロイド状アルブミン
、寒天、アラビアゴム、デキストラン、アルギン酸、た
とえばアセチル含量19−26%にまで加水分解された
セルローズアセテートの如きセルローズ誘導体、ポリア
クリルアミド、イミド化ポリアクリルアミド、カゼイン
、たとえばビニルアルコール−ビニルシアノアセテート
コポリマーの如きウレタンカルボン酸基またはシアノア
セチル基を含むビニルアルコールポリマー、ホリヒニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、加水分解ポリビニ
ルアセテート、蛋白質または飽和アシル化蛋白質とビニ
ル基を有するモノマーとの重合で得られるポリマー、ポ
リビニルピリジン、ポリビニルアミン、ポリアミノエチ
ルメタアクリレート、ポリエチレンイミン等を使用する
こともでき、これらの親水性コロイドは乳剤層以外の感
光材料構成層、たとえば中間層、保護層、フィルタ一層
、裏引層等を作成する場合にも用いられる。
イドとして、前記の如き誘導体ゼラチンおよび通常の写
真用ゼラチンの他、必要に応じてコロイド状アルブミン
、寒天、アラビアゴム、デキストラン、アルギン酸、た
とえばアセチル含量19−26%にまで加水分解された
セルローズアセテートの如きセルローズ誘導体、ポリア
クリルアミド、イミド化ポリアクリルアミド、カゼイン
、たとえばビニルアルコール−ビニルシアノアセテート
コポリマーの如きウレタンカルボン酸基またはシアノア
セチル基を含むビニルアルコールポリマー、ホリヒニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、加水分解ポリビニ
ルアセテート、蛋白質または飽和アシル化蛋白質とビニ
ル基を有するモノマーとの重合で得られるポリマー、ポ
リビニルピリジン、ポリビニルアミン、ポリアミノエチ
ルメタアクリレート、ポリエチレンイミン等を使用する
こともでき、これらの親水性コロイドは乳剤層以外の感
光材料構成層、たとえば中間層、保護層、フィルタ一層
、裏引層等を作成する場合にも用いられる。
本発明を適用し得る・・ロゲン化銀写真感光材料として
は、たとえば白黒写真感光材料、カラー写真感光材料、
偽カラー写真感光材料のいずれの型でもよく、また一般
用、印刷用、X線用、放射線用等の種々の用途に供せら
れる写真感光材料をはじめ、機構的にはネガ型、ポジ型
、拡散転写型等の全ゆる写真感光材料を挙げることがで
きる。
は、たとえば白黒写真感光材料、カラー写真感光材料、
偽カラー写真感光材料のいずれの型でもよく、また一般
用、印刷用、X線用、放射線用等の種々の用途に供せら
れる写真感光材料をはじめ、機構的にはネガ型、ポジ型
、拡散転写型等の全ゆる写真感光材料を挙げることがで
きる。
これらのハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀乳剤は、塩化銀、沃化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩
臭化銀、塩沃臭化銀等の全ゆる種類のハロゲン化銀を感
光成分として使用することができ、かつこの乳剤は、ル
テニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、白金、
金等の貴金属の塩、たとえばアンモニウムクロロパラデ
ート、カリウムクロロパラダイト、カリウムクロロパラ
ダイト、カリウムクロロオーレイト等による貴金属増感
、硫黄化合物による硫黄増感、第1錫塩、ポリアミン等
による還元増感、あるいはさらにポリアルキレンオキサ
イド系化合物による増感等の種々の化学増感を行なうこ
とができる。
ン化銀乳剤は、塩化銀、沃化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩
臭化銀、塩沃臭化銀等の全ゆる種類のハロゲン化銀を感
光成分として使用することができ、かつこの乳剤は、ル
テニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、白金、
金等の貴金属の塩、たとえばアンモニウムクロロパラデ
ート、カリウムクロロパラダイト、カリウムクロロパラ
ダイト、カリウムクロロオーレイト等による貴金属増感
、硫黄化合物による硫黄増感、第1錫塩、ポリアミン等
による還元増感、あるいはさらにポリアルキレンオキサ
イド系化合物による増感等の種々の化学増感を行なうこ
とができる。
この乳剤はまた、シアニン色素、メロシアニン色素、複
合シアニン色素等で光学増感をすることができ、さらに
無色カプラー、カラードカプラー、現像抑制剤放出カプ
ラー等の種々のカプラーをはじめ、たとえば水銀化合物
、トリアゾール系化合物、アザインデン系化合物、ベン
ツチアゾリウム系化合物、亜鉛化合物等の安定剤、たと
えばムコハロゲン酸、ビニルスルホン化合物等の硬膜剤
、たとえばアルキルアクリレートもしくはアルキルメタ
クリレートとアクリル酸もしくはメタクリル酸との共重
合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水
マレイン酸ハーフアルキルエステル共重合体等の乳化重
合によって得られる水分散性の微粒子状高分子物質から
なる膜物性改良剤、たとえばサポニン、ポリエチレング
リコールラウリルエーテル等の塗布助剤、たとえば米国
特許第 2960404号明細書、特公昭47−5316号公報
、特公昭43−4939号公報等に記載されている如き
化合物からなる湿潤剤、たとえばグリセリン、ジグリセ
リン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレンクリコール、テトラエチレングリコール、2
・1・7・9−テトラメチル−5−デシン−4・7−ジ
オール 3・6−シメチルー4−オクチン−3・6−ジ
オール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール
、ベンタンジオール、■・4−シクロヘキサンジオール
、1・4−シクロヘキサンジメタツール、■・3−シク
ロヘキサンジオール、1・2−シクロヘキサンジメタツ
ール、■−メチルー3・4−シクロヘキサンジオール、
4−ヒドロキシシクロヘキサンメタノール、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン等、その他種々の
写真用添加剤を添加することもできる。
合シアニン色素等で光学増感をすることができ、さらに
無色カプラー、カラードカプラー、現像抑制剤放出カプ
ラー等の種々のカプラーをはじめ、たとえば水銀化合物
、トリアゾール系化合物、アザインデン系化合物、ベン
ツチアゾリウム系化合物、亜鉛化合物等の安定剤、たと
えばムコハロゲン酸、ビニルスルホン化合物等の硬膜剤
、たとえばアルキルアクリレートもしくはアルキルメタ
クリレートとアクリル酸もしくはメタクリル酸との共重
合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水
マレイン酸ハーフアルキルエステル共重合体等の乳化重
合によって得られる水分散性の微粒子状高分子物質から
なる膜物性改良剤、たとえばサポニン、ポリエチレング
リコールラウリルエーテル等の塗布助剤、たとえば米国
特許第 2960404号明細書、特公昭47−5316号公報
、特公昭43−4939号公報等に記載されている如き
化合物からなる湿潤剤、たとえばグリセリン、ジグリセ
リン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレンクリコール、テトラエチレングリコール、2
・1・7・9−テトラメチル−5−デシン−4・7−ジ
オール 3・6−シメチルー4−オクチン−3・6−ジ
オール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール
、ベンタンジオール、■・4−シクロヘキサンジオール
、1・4−シクロヘキサンジメタツール、■・3−シク
ロヘキサンジオール、1・2−シクロヘキサンジメタツ
ール、■−メチルー3・4−シクロヘキサンジオール、
4−ヒドロキシシクロヘキサンメタノール、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン等、その他種々の
写真用添加剤を添加することもできる。
本発明の付加重合物は極めて良好な帯電防止剤であり、
それを単独で使用した場合に優れた帯電防止効果を奏す
るが、他の帯電防止剤と組み合せて使用した場合にも同
様に優れた帯電防止効果を奏する。
それを単独で使用した場合に優れた帯電防止効果を奏す
るが、他の帯電防止剤と組み合せて使用した場合にも同
様に優れた帯電防止効果を奏する。
とくに従来の帯電防止剤の中には帯電防止性能は極めて
良好であるが、適用したノ・ロゲン化銀写真感光材料の
表面にブリード現象を生ずるという欠点を有するがため
に使用し難いというものがあり、このような帯電防止剤
は本発明の付加重合物と組み合せて使用することにより
、ブリード現象を生せしめない範囲内の使用量で所望の
帯電防止効果を得ることができる。
良好であるが、適用したノ・ロゲン化銀写真感光材料の
表面にブリード現象を生ずるという欠点を有するがため
に使用し難いというものがあり、このような帯電防止剤
は本発明の付加重合物と組み合せて使用することにより
、ブリード現象を生せしめない範囲内の使用量で所望の
帯電防止効果を得ることができる。
このように本発明の付加重合物はそれを組み合せて使用
することにより従来使用し難いとされていた他の帯電防
止剤を有効に使用可能にし得るという利点を有している
。
することにより従来使用し難いとされていた他の帯電防
止剤を有効に使用可能にし得るという利点を有している
。
たとえば本発明の付加重合物と組み合せて使用すること
ができる望ましい他の帯電防止剤の最も代表的なものと
しては、たとえば下記一般式(V)で示される化合物を
挙げることができる。
ができる望ましい他の帯電防止剤の最も代表的なものと
しては、たとえば下記一般式(V)で示される化合物を
挙げることができる。
一般式(V)
(式中、Rは炭素原子数1−20のアルキル基、Zlお
よびZ2は重合度を表わし、z、+z2=1〜50であ
る。
よびZ2は重合度を表わし、z、+z2=1〜50であ
る。
)前記一般式(V)で示されるN−ポリオキシエチレン
アシルアミド類は優れた帯電防1)JIJではあるが、
非常に低い相対湿度下においては帯電防止性能が不充分
であるとともに、増量して使用するとブリード現象を生
ずるという欠点を有している。
アシルアミド類は優れた帯電防1)JIJではあるが、
非常に低い相対湿度下においては帯電防止性能が不充分
であるとともに、増量して使用するとブリード現象を生
ずるという欠点を有している。
しかしながらこれに本発明の付加重合体を組み合せて使
用することにより、それらの欠点を生せしめることなく
有効に使用することが可能となる。
用することにより、それらの欠点を生せしめることなく
有効に使用することが可能となる。
なお前記一般式(V)で示される化合物としては、たと
えば市販品のアミゼット5C1アミゼツト10C(いず
れも日光ケミカル社製)等がある。
えば市販品のアミゼット5C1アミゼツト10C(いず
れも日光ケミカル社製)等がある。
これらの化合物と本発明の付加重合物を組み合せて・・
ロゲン化銀写真感光材料に適用した場合、感光度、カブ
リなどの写真特性、保存性、物性などにいささかの悪影
響をも及ぼさず、優れた帯電防止効果を発揮する。
ロゲン化銀写真感光材料に適用した場合、感光度、カブ
リなどの写真特性、保存性、物性などにいささかの悪影
響をも及ぼさず、優れた帯電防止効果を発揮する。
本発明を適用する・・ロゲン化銀写真感光材料の支持体
としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリプロピレン、セルローズアセ
テート等からなるフィルムあるいはバライタ紙、ポリエ
チレンラミネート紙等任意の支持体を用いることができ
る。
としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリプロピレン、セルローズアセ
テート等からなるフィルムあるいはバライタ紙、ポリエ
チレンラミネート紙等任意の支持体を用いることができ
る。
次に実施例によって本発明を例証するが、本発明の実施
の態様がこれによって限定されるものではない。
の態様がこれによって限定されるものではない。
実施例 1
沃化銀2.0モル%を含む沃臭化銀ゼラチン高感度乳剤
に対し第2熟成時に金増感を行なった後安定剤としての
アザインデン化合物、硬膜剤としてのホルマリン、塗布
助剤としてのサポニンを加えポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に塗布し乾燥した。
に対し第2熟成時に金増感を行なった後安定剤としての
アザインデン化合物、硬膜剤としてのホルマリン、塗布
助剤としてのサポニンを加えポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に塗布し乾燥した。
次いで硬膜剤としてのホルマリン、塗布助剤としてのサ
ポニンを加えたゼラチン水溶液を調整し、これを5分割
しその4者に帯電防止剤としてそれぞれ例示化合物(2
)、(3)、(6)および(8)を溶液11当リ5?添
加した後5者をそれぞれ前記沃臭化銀乳剤層上に保護層
として塗布し乾燥して試料とした。
ポニンを加えたゼラチン水溶液を調整し、これを5分割
しその4者に帯電防止剤としてそれぞれ例示化合物(2
)、(3)、(6)および(8)を溶液11当リ5?添
加した後5者をそれぞれ前記沃臭化銀乳剤層上に保護層
として塗布し乾燥して試料とした。
これらの試料を25℃、相対温度(RE)20%で12
時間調湿し、同一空調条件下で暗室中において未露光試
料をゴムで摩擦した後通常の現像処理を行いスタチック
マークの発生状況を観察した。
時間調湿し、同一空調条件下で暗室中において未露光試
料をゴムで摩擦した後通常の現像処理を行いスタチック
マークの発生状況を観察した。
その結果、帯電防止剤としての例示化合物を保護層に添
加しない試料においてはスタチックマークの発生が極め
て顕著に認められたが、帯電防止剤としての各例示化合
物を保護層に添加した4種の試料にはいずれもスタチッ
クマークの発生が認められなかった。
加しない試料においてはスタチックマークの発生が極め
て顕著に認められたが、帯電防止剤としての各例示化合
物を保護層に添加した4種の試料にはいずれもスタチッ
クマークの発生が認められなかった。
なお、各例示化合物の添加による写真特性の変化は全く
認められなかった。
認められなかった。
実施例 2
沃化銀1.5モル%を含む沃臭化銀ゼラチン高感度乳剤
に対して第2熟成時に金増感を行なった後実施例1と同
様の安定剤、硬膜剤、塗布助剤を加工、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に塗布し、乾燥した。
に対して第2熟成時に金増感を行なった後実施例1と同
様の安定剤、硬膜剤、塗布助剤を加工、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に塗布し、乾燥した。
次いで硬膜剤としてのムコクロル酸と塗布助剤としての
サポニンを加えたゼラチン水溶液をこの上に保護層とし
て塗布し乾燥した。
サポニンを加えたゼラチン水溶液をこの上に保護層とし
て塗布し乾燥した。
このようにして得られたフィルムを8分割しその7者の
保護層上にそれぞれ帯電防止剤として例示化合物1)、
(4)、(5)、(8)、00)、(12)および(1
4)をメタノールに溶解した溶液を塗布し乾燥して1平
方メートル当りそれぞれ例示化合物がIOPとなるよう
に付着せしめ試料を作成した。
保護層上にそれぞれ帯電防止剤として例示化合物1)、
(4)、(5)、(8)、00)、(12)および(1
4)をメタノールに溶解した溶液を塗布し乾燥して1平
方メートル当りそれぞれ例示化合物がIOPとなるよう
に付着せしめ試料を作成した。
これらの試料を実施例1と同様の方法で処理し、スタチ
ックマークの発生状況を観察した。
ックマークの発生状況を観察した。
その結果保護層上に帯電防止剤としての例示化合物を付
着せしめない試料にはスタチックマークの発生が極めて
顕著に現れたが、帯電防止剤としての各例示化合物を付
着せしめた試料には、いずれもスタチックマークの発生
が認められなかった。
着せしめない試料にはスタチックマークの発生が極めて
顕著に現れたが、帯電防止剤としての各例示化合物を付
着せしめた試料には、いずれもスタチックマークの発生
が認められなかった。
なお、各例示化合物の添加による写真特性の変化は全く
認められなかった。
認められなかった。
実施例 3
沃化銀1.5モル%を含む沃臭化銀ゼラチン高感度乳剤
に対し、第2熟成時に金増感を行なった後安定剤として
のアザインデン化合物、硬膜剤としてのグリオキザール
、塗布助剤としてのサポニンを加え、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に塗布し乾燥した。
に対し、第2熟成時に金増感を行なった後安定剤として
のアザインデン化合物、硬膜剤としてのグリオキザール
、塗布助剤としてのサポニンを加え、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に塗布し乾燥した。
次いで、硬膜剤としてのホルマリン、塗布助剤としての
サポニンを加えたゼラチン水溶液を調整し、これを分割
し、本発明の付加重合物である例示化合物と他の帯電防
止剤としてのN−ポリオキシエチレンアシルアミドとを
組み合せて、下記第1表の如(添加し、前記の沃臭化銀
乳剤層上に塗布し、乾燥し、試料とした。
サポニンを加えたゼラチン水溶液を調整し、これを分割
し、本発明の付加重合物である例示化合物と他の帯電防
止剤としてのN−ポリオキシエチレンアシルアミドとを
組み合せて、下記第1表の如(添加し、前記の沃臭化銀
乳剤層上に塗布し、乾燥し、試料とした。
これらの試料を25℃で相対湿度を10%、15%、2
0%、30%、40%に設定し、各々12時間調湿し、
同一空調条件下で暗室中でゴムで摩擦し、通常の現像処
理を行い、スタチックマークの発生状況を観察した。
0%、30%、40%に設定し、各々12時間調湿し、
同一空調条件下で暗室中でゴムで摩擦し、通常の現像処
理を行い、スタチックマークの発生状況を観察した。
Claims (1)
- 1 フェノールアルデヒド縮合物にグリシドールおよび
エチレンオキサイドを付加共重合させて得られる生成物
を使用することを特徴とする・・ロゲン化銀写真感光材
料の帯電防止方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13077274A JPS5843729B2 (ja) | 1974-11-12 | 1974-11-12 | ハロゲンカギンシヤシンカンコウザイリヨウノ タイデンボウシホウホウ |
| GB4639675A GB1528086A (en) | 1974-11-12 | 1975-11-10 | Antistatic treatment of silver halide photographic elements |
| DE19752550798 DE2550798A1 (de) | 1974-11-12 | 1975-11-12 | Verfahren zum antistatischen behandeln von lichtempfindlichen photographischen silberhalogenidmaterialien |
| US05/934,332 US4200465A (en) | 1974-11-12 | 1978-08-16 | Antistatic light-sensitive silver halide photographic element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13077274A JPS5843729B2 (ja) | 1974-11-12 | 1974-11-12 | ハロゲンカギンシヤシンカンコウザイリヨウノ タイデンボウシホウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5156220A JPS5156220A (ja) | 1976-05-17 |
| JPS5843729B2 true JPS5843729B2 (ja) | 1983-09-28 |
Family
ID=15042286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13077274A Expired JPS5843729B2 (ja) | 1974-11-12 | 1974-11-12 | ハロゲンカギンシヤシンカンコウザイリヨウノ タイデンボウシホウホウ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5843729B2 (ja) |
| DE (1) | DE2550798A1 (ja) |
| GB (1) | GB1528086A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0833599B2 (ja) * | 1985-12-03 | 1996-03-29 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
| JP4841750B2 (ja) * | 2001-05-28 | 2011-12-21 | 株式会社Adeka | 帯電防止剤、帯電防止剤組成物、帯電防止剤含浸物及び樹脂組成物 |
-
1974
- 1974-11-12 JP JP13077274A patent/JPS5843729B2/ja not_active Expired
-
1975
- 1975-11-10 GB GB4639675A patent/GB1528086A/en not_active Expired
- 1975-11-12 DE DE19752550798 patent/DE2550798A1/de active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2550798A1 (de) | 1976-05-13 |
| JPS5156220A (ja) | 1976-05-17 |
| GB1528086A (en) | 1978-10-11 |
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