JPS5845400A - めっき装置 - Google Patents

めっき装置

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JPS5845400A
JPS5845400A JP14534581A JP14534581A JPS5845400A JP S5845400 A JPS5845400 A JP S5845400A JP 14534581 A JP14534581 A JP 14534581A JP 14534581 A JP14534581 A JP 14534581A JP S5845400 A JPS5845400 A JP S5845400A
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JP
Japan
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plating
current
plating bath
objects
bath
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JP14534581A
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JPS5836080B2 (ja
Inventor
Yasuo Yamazaki
山崎靖男
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SOGO TOKIN KOGYO KK
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SOGO TOKIN KOGYO KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1めりき装置の改JIK関するものである。
従来のめっき装置にありて社%被めりき物がクロムめっ
き浴中に浸漬される時に被めり色物に欠陥が生ずるのを
防ぐ丸めに浸漬時の電流量を微弱にして浸漬が終了して
から所要の電流を流すようにしていた。しかしながら1
被めり色物をクロムめっき浴に浸嗅するという過液時に
おいて辻被めつき物の表面状態などめっき状態が一定せ
ず、たとえ電流量を少なくして吃めつき表面の光沢がな
くなり1かつ繊弱なめっき層(いわゆる二重めっき)が
発生するということがあった。
本発明は1かかる従来例の欠点に鑑みてなされた屯ので
、その目的とするところは、このようなめっき不要を完
全Kff止できるめっき装置を提供するKIhる。
以下1本発明を図示実施例と共に詳述する。
クロムめっき浴(1)は一般的には無水り譬ム酸と硫酸
とから成るt−ジエント浴が使用′される。整流回路(
2)け商用三相交流を1[#l電流に変えるもので、直
流側の(+)が陽極(7)k接続してあ)、(−)がク
ロムめっき浴(1)eJ上縁に配設されている陰極摺動
板(8)に接続しである。制御回路(3)は交流側に接
続してあつで整流回路(2)を交流側にて制御するもの
で1これKよシ直流電流はOA〜所要最大電流(本実施
例では2000A)まで可変と力っている。さらにこの
制御回路(3)は後述するスイッチ回路(5)Kてオン
・オフ制御されるようKeっている。昇降搬送装置N 
(4)は#I1図のようにループ状になっている。(9
)は参事のレール(10)内に配設された昇降車で1こ
の昇降車(I)からハンガ(11)を外側方に央出しで
ある。レール(10)は参本/組となっていて、多数組
が一定間隔で配設されてお〉\上下に配設された長円状
の軌道(12)に沿って移動するようになりている。一
方この軌道(!2)の間に軌道(12)と同じ膨長の長
円形の昇降部(図示せず)が配設してあうてこの昇降部
に昇降車(9)が走行自在に係止しである。従って昇降
部の昇降に従って昇降すると共に軌道(12) Kfa
りて11動して行くむとになる。Mコ図中(13) a
^ハンガ11)の軌跡を示している。さらにζO軌道(
1意)の外周には出入口(14)から順次電解槽(ms
) %水洗槽(18) %酸洗槽(17)  (塩酸と
硫酸am合液)%水洗槽(18)・下地ニッケルめりき
浴(1G) 、水洗槽(20)、光沢ニッケルめ−> 
I MF (21) S水洗槽(*z) s光沢クロム
め0き浴(1)及び水洗11 (ffi3)を配設しで
ある。このり蘭ムめつき浴(1)の入口側上方には例え
はリミットスイッチとか近接スイッチ1投・受光器のよ
うな位置検出器(24)を設けてらシ、昇降車(9)の
位置検出を行なりていゐvh  (”)はリレー、  
(26)社タイマ、(27)は電′Jl&接触量士・位
置検出器(24)とリレー(z5)とが接続しである。
タイマ(24り 11リレー(25) K′?制御され
、電磁接触器(27)はタイマ(26) Icて制御さ
れ、電磁接触器(27)は制御回路(3)をオン・オフ
制御するようになっている。そしてこれら位置検出! 
(!4) 、リレー(25)為タイマ(26) 、電磁
接触器(27)がスイッチ回路(5)を形成することに
なる。スイッチ−賂(5)の他の実施例と乙て第7図の
ように1電磁接触m (2’r)を使用せず1リレー(
訃)を三相交流のうちの1零に直列IiI絖して作動さ
せXタイマ(2i) Kてリレー(25)を所定時間だ
けオン・オフ動作するようにしてもよい。
次に1本装置の作動状態について説明する。
ハンガ01)は軌道(11) KGつて回動かつ昇降し
ているもので1出入口(14)の所で空のハンガ(11
)K被めっき愉(6)をつ)下げる。ハンガ01)につ
〉下げられ九被めっき物(6)はハンガ(11)と共に
昇降を繰少返しながら搬送されて電解槽(15)・・・
光沢ニッケルめっき浴(19)・・・光沢タームめっき
浴(1)・・・水洗槽(23)と順次浸漬されてめっき
処理が施される。こ仁で、光沢り四ムめっき浴(1)に
お妙るめっき作業を詳述すると、ハンガ(11)が夕四
五めっき浴(1)O入口真上に至ると昇降車(9)を位
置検出器(九)が検出してオンになる。するとリレー(
25)に電流が流れてオンになムクイマ<16> Kも
電流が流れてオンKtk石。すゐとリレー(25)の&
接点(11−a)が閉じ、仁の経路を通じてリレー(2
5)とタイマ(26)に電流が流れるととKなる。従っ
て昇降車(9)が離れて位置検出器(24)がオフKe
りでもリレー(=s)とタイマ(=6)とはオン状態が
継続することに&シ、タイ!(26)は所要時間だけカ
クトすることに′&る。一方電磁接触器(27)Kあっ
てはリレー(ZS) O作動と同時にリレー(25) 
C)m接点 (R−a)が閉じて電11接触器(21)
が働き、電磁接触器(8丁)の嗜点(MC−リが開き1
交流電流を連断し1その結果直流電流が流れなくなる。
仁のようにしてり四ムめっ龜浴(1)の入口真上にハン
ガ(11)が鋼着する中歪中直流電流は連断される。次
いで昇降部が下降して昇降車(−)が下)lめっき物(
6)がり賞ムめっき浴(1)中に完全に浸漬iれる。タ
イ!(xi) aこの下降時間に合せて令ツ)されてお
勤被めっき物(6)が浸漬され九所てタイムアクトし〜
オン状態に戻る。するとタイマ(意6)のb接点(?L
R−b)がRを一リレー(25)をオフにする。すると
リレー (25)の両al1点(R−a) (R−a)
が共kljlき、タイマ(26)及び電磁接触器(!7
)への通電が遍断されてオフとなり、タイマ(26)が
O状態に戻)に交流電流が流れる。一方下降した昇降車
(S)はり曹ムめつき浴(1)0*に設けられた陰極摺
動板(8)に接触していて直流電流が流れ、めっきが施
される。従って被めつき物(6)はり四ムめりき浴(1
)中に完全に浸漬され先後通電めっきされることになる
。次いで1昇降部が上昇して昇降車(9)は上昇するが
、り買ムめ−5き浴(1)中に浸漬された被めっき物(
@)の昇降車(9)は昇降部から外れて下降状態を保つ
。次いで1昇障車(9)は軌道(1りKaりてlピッチ
移動するが電昇降車(會)が陰極摺動板(8)上をスツ
ィVし1被めっき物(6)はり■ムめりき鉢(1)中を
移動する。ζ0時/ピッチ害送完了直前で昇降車(9)
が陰極摺動板(8)よシ外れ1通電が適所される。この
間次のへンガ(11)がり曹ムめりき浴(1)の入口真
上に至シ次いで昇降部の下降に併うて新しい被めっき物
(6)が浸漬されることKなる。次いで昇降部が上被め
っき物(6)が昇降部に伴われて上昇し、然るのち/ピ
ッチ送られる。ここでは昇降車(・)が別途用意された
架材(図示せず)に係止され、上方につられたitとな
る。以降は昇降部と共に昇降し、/ピッチずつ搬送され
ることKなる。また1嬉7図の鳩舎で紘1位置検出II
(24)の作動によ)リレー(鵞S)とタイマ(26)
とが同時に作動しS9レー(筋)Oa接点(R−a)を
閉じると同時Kb接点(*−b)を開き1*接点(R−
a)を通して曹し−(茸S)とタイマ(26)とに電流
が流れる。従りて位置検出I!(24)がオフになりて
4!レー(2s)とタイ!(26)とに電流が流れ続け
る。一方す接点(R−b)社三相交流のうち01本に挿
入されていてb接点(R−b)が開くと三相交流が適所
され1*流の通電が停止される。そして所要時間(ζζ
では10a@e)経つと曽めりき物(6)が十分に浸漬
されえ状Ii)タイ!(*s) yオフとなつてb接点
(?LR−b) $t7と1ke、 IJ$/ −(!
5) #連接点(R−b)が閉い三相交流が通電状態と
なりて直流の通電が再開される。なお、本実施例では、
スイッチ回路(5)としてタイマ(26)を−用したが
、これに限られず、位置検出器(24)下方にも位置検
出IB (24)を設け1上部の位置検出器(24)に
て、電流を適所し下方の位置検出器で通電するようにし
てもよい。
本発明は、畝上のような構成であるので電波めつき物が
めつき浴中に完全に浸漬された後に通電が開始されてめ
つきされることになシ、被めりき物のめりき浴への浸漬
中に通電されることがないものであって終始通電状態が
一定の状態に保たれ1めつき不良の発生がないという利
点もあシ、それ故めっき浴条件も緩和することができ1
従来のサージェント浴のように高電流密度を利用する浴
も使用できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の平面図1第a図は同上のり
四ムめっき浴部分の概略斜視図)第3図は同上の系続図
ノ、第7図はめつき条件を示すグラフ、Mj図は本発明
のシーケンス図1第6国轄同上のタイムチャート1嬉り
図社本発明の棺コ実施のシーケンス図1−を図は同上の
タイムチャー トで、(1)はクロムめっき浴、(2)
は整流回路・ (3)は制御回路)(4)は昇降搬込装
置1(5)はスイッチ回路−(6)は被めっき物である

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)フレふめつき浴と1交流電源電流を直流電流に変
    えてり″aムメッキ浴に直流電流を供給するm籠回路と
    1整流回路の交流側Ell続され、めりき浴oiat流
    をOAから所要最大電流値の閏で制御する制御回路と、
    被め?き物を順次搬送すると共に昇降させてクロムめり
    き浴中に被めっき物を浸漬する昇降搬送装置とへ被めっ
    き物がり胃ムめつき浴の直上に至ったことを検出し、制
    御回路をオンにして直流電流を連断すると共に被めうき
    物がりpムめっき浴中に浸漬、されたことをm鐵して制
    御回路をオンにしてり一ムめりき浴に直流電流を通電し
    1被めりき物にめっきを施させるスイッチ回路とで構成
    されたことを特徴とするめつき装置。
JP14534581A 1981-09-14 1981-09-14 めっき装置 Expired JPS5836080B2 (ja)

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JPH0294888U (ja) * 1989-01-12 1990-07-27

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63293521A (ja) * 1987-05-26 1988-11-30 Ricoh Co Ltd 反射型拡大投影装置
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