JPS5845773B2

JPS5845773B2 - 調光フィルタ−およびその製造方法

Info

Publication number: JPS5845773B2
Application number: JP7356177A
Authority: JP
Inventors: 安男岩崎
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1977-06-20
Filing date: 1977-06-20
Publication date: 1983-10-12
Also published as: JPS547855A

Description

【発明の詳細な説明】この発明は、カラー受像管の螢光面の露光の際に用いる
調光フィルターおよびその製造方法に関するものである
。

第１図は、従来のカラー受像管における螢光面の露光工
程の概略を示すもので、第１図においてパネル１の内面
には感光性フォト・レジスト膜あるいは感光性螢光体ス
ラリー膜２が形成されており、このパネル１の内側の定
位置にシャドウマスク３がパネル１内面に対向して配置
されている。

このようなパネル・マスク・アセンブリー４を露光台５
上の定位置に載置し、光源６によるパネル１内面上の光
強度分布を補正するための調光フィルター１および完成
カラー受像管の電子ビームの飛跡と露光時の光源６から
の光の光跡とを整合させるための補正レンズ８を通過し
て来た光源６からの光によりシャドウマスク３の孔を介
して露光が行なわれる。

前記調光フィルター７について、さらに詳しく説明する
。

第２図の曲線Ａは調光フィルター１を使用しない場合の
パネル１内面上の光強度分布をパネル中央での光強度値
に対する比率として表わしたものである。

一方パネル１内面上で露光中に実際に必要とする理想的
な光強度分布はパネル１内面に形成された感光性フォト
・レジスト膜あるいは感光性螢光体スラリー膜２をブ定
条件に感光反応させるのに必要な露光量の分布で決定さ
れ、これは曲線Ａと同様にパネル中央での光強度に対す
る比率として表わせば曲線Ｂのようになる。

前記曲線ＡとＢとはほとんどの場合に一致しない。

このため、パネル１の内面上で曲線Ｂのような理想的な
光強度分布を得るために、通常第３図に示すような所定
の光透過重分布を有する調光フィルターＩが光源６とパ
ネル・マスク・アセンブリ４との間の定位置に挿入され
る。

この所定の光透過重分布を有する調光フィルター７は、
第４図に示すように、透明基板上にクロムやロジウムや
ニッケル・クロム合金などの半透光性蒸着薄膜を特定の
膜厚分布になるように真空蒸着法によって形成すること
によって作られる。

第５図は他の種類の調光フィルター７を示すもので、透
明基板上に金属の半透光性蒸着薄膜を一定形状に一定の
透過率で形成し、露光に際して第６図に示すようにモー
タ１０でプーリー９を介してフィルター７を回転させる
ことにより、実質的に第３図のような透過率分布を得る
ものである。

前記調光フィルター７の光透過率は、光源６の光度、配
光分布および適正露光時間などによって決定されるが、
通常使用されるものは調光フィルター７の中央の光透過
率で約１０係〜７０％位の範囲である。

以上述べたような金属の半透光性蒸着膜による調光フィ
ルター７の使用上の大きな欠点は、光透過率の経時変化
が起るということである。

すなわち、第１図のＸは従来の半透光性蒸着薄膜による
調光フィルター７の使用時間と蒸着膜の光透過率の関係
を示すもので、蒸着金属の種類および光源６の種類およ
び調光フィルター７の露光装置への設定位置などの条件
によっても異るが、最初の光透過率Ｔ。

と１０００時間後の光透過率Ｔｔ。

Ｔ１の比−か極端な場合２〜３になることもあＯる。

このような光透過率の変化の原因としては、光源６から
の強力な紫外線および熱線によって金属の半透光性蒸着
薄膜が物理的、化学的変化を起こすためであると考えら
れる。

この光透過率の変化は露光時間の適正露光時間からの変
化をもたらすだけではない。

すなわち、この光透過率の変化は調光フィルター７の全
ｆにわたって均一な割合で現われるのではなく、通常変
化の割合は調光フィルター７の中央部と周辺部とで異る
ため、露光中のパネル内面上で必要とする光強度分布が
得られなくなるのである。

このような光透過率の経時変化Ｇ”４従来のような半透
光性蒸着薄膜の調光フィルター７では、多かれ少なかれ
避は難いものであった。

この発明は、前述のような欠点を解消するためになされ
たものであり、光透過率の経時変化の少ない安定した調
光フィルターおよびその製造方法を提供するものである
。

以下この一実施例である第８図ａ、ｂについて説明する
。

調光フィルター７は黒鉛またはカーボンの層からなる遮
光部分Ｍと、これらの層を有しない透光部分りとでメツ
シュ状パターンを形成している。

また、前記透光部分りの面積が調光フィルター７の中央
部から周辺部にかげて順次大となるように構成されてい
る。

具体的にはメツシュ状のパターンにおけるピッチＰある
いは線状幅Ｗを中央部から周辺部にかげて変化させて構
成される。

さらに、前記遮光部分Ｍは光透過性をほとんどもたない
ように形成される。

このような調光フィルター７を用いて感光性フォト・レ
ジストあるいは螢光体スラリーの露光工程を行ないその
経時変化を調べたところ、第１図に曲線Ｙで示すように
最初の光透過率Ｔ。

と２１０００時間後の光透過率Ｔ２の比−はほとんＯと１に近く特性の劣化が生じないものであった。

これは、調光フィルター７の遮光部分Ｍる形成している
黒鉛またはカーボンの層が非常に安定なものであり、光
源６からの強力な紫外線および熱線によっても光透過率
がほとんど変化せず、調光フィルター７の光透過率が遮
光部分Ｍと透光部分りとの面積比で決定されているから
である。

なお、感光性フォト・レジスト膜あるいは感光性スラリ
ー膜の品質から云えばメツシュ状パターンは細かいほど
好ましく、光源６の形状あるいは調光フィルター７の位
置によっても異なるが少くとも２０メツシュ以上の細か
さが必要であった。

また、１００メツシユ以下の調光フィルター７を使用す
ると、メツシュ構造が直接フォト・レジスト膜あるいは
螢光体スラリー膜面に投影されて露光が不均一になる恐
れがあるが、この場合には第６図に示すように調光フィ
ルター７を回転させるように構成すればよい。

第９図ａ、ｂばこの発明の他の実施例を示すものである
。

この実施例では、メツシュ状パターンにおけるピッチＰ
および線状幅Ｗの大きさを調光フィルター７の全面にわ
たってほぼ同一とし、このメツシュ状パターンを所定位
置に所定形状で形成したもので、従来装置と同様に調光
フィルター７を回転させてパネル内面上の各点における
積分光量が実質的に所要の分布となるように構成したも
のである。

第１０図は、この発明の製造方法の一例による調光フィ
ルターの製造工程を示す。

この例では透明基板１１上に黒鉛またはカーボンを含む
感光性膜１２を形成し、この感光性膜１２に対向配置し
た例えば金属製メツシュなどのメツシュ状パターン１３
を通して光源１４からの光により前記感光性膜１２の露
光を行なう。

その後、例えばスプレ一式現像などにより、感光性膜１
２の感光部分または未感光部分を除去すれば、透明基板
１１上に黒鉛またはカーボン層からなる所定のパターン
１５が形成される。

感光性物質として光分解形の物質を使用した場合には、
第１０図ａに示したように黒鉛またはカーボン層からな
る格子状の遮光部分Ｍとこれらの層を有しない透光部分
りとを有するメツシュ状パターン１５が得られ、また感
光物質として光硬化型の物質を使用した場合には、第１
０図すに示したように、格子状の透光部分りとこれらに
囲まれた遮光部分Ｍとを有するメツシュ状パターン１５
が得られる。

第１１図は、この発明の製造方法の他側による調光フィ
ルターの製造工程を示す。

この例では、透明基板１１に感光性レジスト膜１６を形
成し、このレジスト膜１６に対向配置された例えば金属
製メツシュなどのメツシュ状パターン１３を通して光源
１４からの光により前記レジスト膜１６の露光を行なう
。

その後、例えばスプレ一式現像などにより前記レジスト
膜１６の未感光部分を除去すれば、透明基板１１上に硬
化レジスト膜からなる一定パターン１７が形成される。

次に、この硬化レジスト膜からなるパターン１γを有す
る透明基板１１上に黒鉛またはカーボンの分散流を均一
に塗布し、乾燥させて黒鉛またはカーボン層１８を形成
する。

さらにその後、例えば酸化剤を含む溶液によって、前記
硬化レジスト膜を分解除去すると同時にこのレジスト膜
からなるパターン１７上に形成されていた黒鉛またはカ
ーボン層も除去すれば、第１０図ａに示したと同様なメ
ツシュ状パターンが形成された調光フィルターが得られ
る。

以上説明したようにこの発明は、黒鉛またはカーボンの
層からなる遮光部分と、これらの層を設けない透光部分
とによってメツシュ状パターンを透光基板に構成したも
のであるから、この発明によれば、光透過率の経時変化
がほとんどない調光フィルターを提供することができ、
カラー受像管の螢光面の露光を安定に行なわせることが
できる。

また、この発明の製造方法によれば前述したこの発明の
調光フィルターを得ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図はカラー受像管の螢光面を形成する露光装置の一
例の構成を示す概略縦断面図、第２図はパネル内面上の
光強度分布を示す図、第３図は調光フィルターの光透過
率分布を示す図、第４図、第５図は従来の調光フィルタ
ーの互に異った例を示す平面図、第６図はカラー受像管
の螢光面を形成する露光装置の他側の連成を示す概略縦
断面図、第７図は調光フィルターの光透過率の経時変化
を示す図、第８図ａおよびｂはこの発明による調光フィ
ルターの一実施例を示す平面図および部分拡大図、第９
図ａおよびｂは同地の実施例を示す平面図および部分拡
大図、第１０図はこの発明の調光フィルターの製造方法
の一例を示す工程説明図、第１０図ａ、ｂは第１０図の
製造方法によって得られた調光フィルターの互に異った
例を示す部分拡大図、第１１図はこの発明の調光フィル
ターの製造方法の他側を示す工程説明図である。１・・・パネル、２・・・感光性フォトレジスト膜ある
いは螢光体スラリー膜、３・・・シャドウマスク、４・
・・パネル・マスク・アセンブリー、５・・・露光台、
６・・・光源、７・・・調光フィルター、８・・・補正
レンズ、９・・・プーリー、１０・・・モーター、１１
・・・透明基板、１２・・・黒鉛またはカーボンを含む
感光性膜、１３・・・メツシュ状パターン、１４・・・
光源、１５・・・黒鉛またはカーボンの層からなるパタ
ーン、１６・・・感光レジスト膜、１７・・・硬化レジ
スト膜からなるパターン、１８・・・黒鉛またはカーボ
ン層、Ｌ・・・透光部分、Ｍ・・・遮光部分。なお、図中同一部分は同一または相当部分を示す。

Claims

【特許請求の範囲】１カラー受像管の螢光面の露光の際に用いる調光フィ
ルターであって、透光基板に黒鉛またはカーボンの層か
らなる遮光部分と、これらの層を設けない透光部分とに
よりメツシュ状パターンを構成したことを特徴とする調
光フィルター。２カラー受像管の螢光面の露光の際に用いる調光フィ
ルターの製造方法において、透明基板に黒鉛またはカー
ボンを含む感光性膜を形成する工程と、この感光性膜に
対向配置したメツシュ状パターンを通して光源からの光
により感光性膜を露光する工程と、露光された感光性膜
の現像を行なう工程とを含み、前記透光基板に黒鉛また
はカーボン層からなる遮光部分と、これらの層を設けな
い透光部分とによりメツシュ状パターンを構成すること
を特徴とする調光フィルターの製造方法。３カラー受像管の螢光面の露光の際に用いる調光フィ
ルターの製造方法において、透明基板上に感光性レジス
ト膜を形成する工程と、この感光性レジスト膜に対向配
置したメツシュ状パターンを通して光源からの光により
前記レジスト膜を露光する工程と、露光された感光レジ
スト膜の現像を行なう工程と、黒鉛またはカーボンの分
散液を塗布して黒鉛層またはカーボン層を形成する工程
と未除去感光性膜およびこの感光性膜上に被着している
黒鉛層またはカーボン層を除去する工程とを含み、前記
透光基板に黒鉛またはカーボン層からなる遮光部分と、
これらの層を設けない透光部分とによりメツシュ状パタ
ーンを構成することを特徴とする調光フィルターの製造
方法。