JPS5846069A - ピラゾ−ル化合物および除草剤組成物 - Google Patents
ピラゾ−ル化合物および除草剤組成物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/04—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
- A01N43/48—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- A01N43/56—1,2-Diazoles; Hydrogenated 1,2-diazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明の背景
ある種のピラゾールカルボキシレートが除草剤として有
効であることは公知である。例えば、米国特許第4.1
16.675号明細書は1位が水素才たはアルキルで置
換されたフェニル置換ピ2f−ルー4−カルボキシレー
トを除草剤として記載している。ドイツ特許第29 2
0 955号明細書は6−アリール−5−メチルピラゾ
ール−4−カルボキシレートの除草剤としての使用を記
載している。これら化合物に詔ける1−位の置換基は水
素、ある種のフルカッイル、アルコキシカルボニルまた
はクロロフェノキシカルボニルである。
効であることは公知である。例えば、米国特許第4.1
16.675号明細書は1位が水素才たはアルキルで置
換されたフェニル置換ピ2f−ルー4−カルボキシレー
トを除草剤として記載している。ドイツ特許第29 2
0 955号明細書は6−アリール−5−メチルピラゾ
ール−4−カルボキシレートの除草剤としての使用を記
載している。これら化合物に詔ける1−位の置換基は水
素、ある種のフルカッイル、アルコキシカルボニルまた
はクロロフェノキシカルボニルである。
米国特許第4.260.775号明細書は除草剤として
の6−位または5−位にアミノ基を有するピラゾール誘
導体を記載している。パスチ)” (Bastide)
等は1−位における置換基が水素である幾つかの5−ア
リール−5−メチルおよび5−アリール−5−メチル
ピラゾール−4−カルボキシレートの製造を記載してい
る( [Cyaloaddition ofDiag
oalkansa 0nto DiguMtitu
t@d ム1ken*s anlム1k7nll
J、T@trah@dron、 30.3355〜55
65パーガモンルス、1974、英国参照)。除草活性
はその組成物に対して記載されていない。
の6−位または5−位にアミノ基を有するピラゾール誘
導体を記載している。パスチ)” (Bastide)
等は1−位における置換基が水素である幾つかの5−ア
リール−5−メチルおよび5−アリール−5−メチル
ピラゾール−4−カルボキシレートの製造を記載してい
る( [Cyaloaddition ofDiag
oalkansa 0nto DiguMtitu
t@d ム1ken*s anlム1k7nll
J、T@trah@dron、 30.3355〜55
65パーガモンルス、1974、英国参照)。除草活性
はその組成物に対して記載されていない。
―
YR3
〔式中 HlはO1〜C4ハロアルキルまたは)(61
5(式中、Rは01〜0.フルキレンまたはC,アルキ
リデンであり R5は水素、al−、、a4アルキル、
O廊〜C6アルカノイル、アロイル、0.〜C10アル
アルカノイル、”F〜09アルアルキル、フェニル、ま
たは置換フェニル(O1〜04アルキル、01〜04ア
ルコキシ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたは
ニトロで置換されたフェニル)、または置換ベンゾイル
(ハロゲン、01〜04アルキル、01〜04アルコキ
シ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニトロ
で置換されたベンゾイル)である)であり、R′′は0
1〜C4アルキ゛ル、Cs〜06シクロアルキル、01
〜C9アルアルキル、01〜0.アルカリール、フェニ
ル、ナフチル、または酸素、硫黄才たは窒素含有5員−
または6員複素環基であり、あるいはR8は置換フェニ
ル(ハロゲン、トリハロメチル、C1〜04アルコキシ
、ヒドロキシまたはシアンで置換されたフェニル)であ
り、Yは酸素または硫黄であり、R3は01〜04アル
キル、C3〜C4アルケニル、03〜04アルキニル、
C3〜09アルコキシアルキルまたは0.〜06アルキ
ルチオアルキルであり、R4は水素、O1〜C4アルキ
ルまたはトリハロメチルであるが、ただし R8は6,
4−ジアルキルフェニルまたは5.4−ジハロフェニル
でないことを条件とする〕のピラゾール類が除草剤とし
て有用であることを見出した。
5(式中、Rは01〜0.フルキレンまたはC,アルキ
リデンであり R5は水素、al−、、a4アルキル、
O廊〜C6アルカノイル、アロイル、0.〜C10アル
アルカノイル、”F〜09アルアルキル、フェニル、ま
たは置換フェニル(O1〜04アルキル、01〜04ア
ルコキシ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたは
ニトロで置換されたフェニル)、または置換ベンゾイル
(ハロゲン、01〜04アルキル、01〜04アルコキ
シ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニトロ
で置換されたベンゾイル)である)であり、R′′は0
1〜C4アルキ゛ル、Cs〜06シクロアルキル、01
〜C9アルアルキル、01〜0.アルカリール、フェニ
ル、ナフチル、または酸素、硫黄才たは窒素含有5員−
または6員複素環基であり、あるいはR8は置換フェニ
ル(ハロゲン、トリハロメチル、C1〜04アルコキシ
、ヒドロキシまたはシアンで置換されたフェニル)であ
り、Yは酸素または硫黄であり、R3は01〜04アル
キル、C3〜C4アルケニル、03〜04アルキニル、
C3〜09アルコキシアルキルまたは0.〜06アルキ
ルチオアルキルであり、R4は水素、O1〜C4アルキ
ルまたはトリハロメチルであるが、ただし R8は6,
4−ジアルキルフェニルまたは5.4−ジハロフェニル
でないことを条件とする〕のピラゾール類が除草剤とし
て有用であることを見出した。
詳細な説明
本発明は除草剤として有用なある種のピラゾール類に関
する。特に本発明は一般式: 〔式中、Riはol〜04ハロアルキルまたはROR′
′(式中、RはO1〜02アルキレンまたはC,アルキ
リデンであり H&は水素、01〜C4アルキル、02
〜Osアルカノイル、アロイル、08〜Ox1アルアル
カノイル、01〜09アルアルキル、フェニル、7また
は置換フェニル(01〜04アルキル、01〜C4アル
コキシ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニ
トロで置換されたフェニル)、あるいは置換ベンゾイル
(ハロゲン、01〜04アルキル、01〜04ア〃コキ
シ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニトロ
で置換されたベンゾイル)である)であり R1は0□
〜04アルキJ&、01. ”−04シpロアルキル、
Cマ〜0会アルアルキル、0.〜0−アルカリール、フ
ェニル、ナフチルあるいは酸素、硫黄または窒素含有5
員または6員複素禦基であり、あるいはR2は置換フェ
ニル(ハロゲン、トリハロメチル、01〜04アルコキ
シ、ヒドロキシまたはシアノで置換されたフェニル)で
あり、Yは酸素または硫黄であり、R3はO1〜04ア
ルキル、0+l〜C4アルケニル、03〜C4アルキニ
ル、02〜C6アルコキシアルキルまたはO寓〜06ア
ルキルチオアルキルであり R4’g* 水素、 OX
〜C4アルキルまたはトリハロメチルであるが、ただし
、R2は6.4−ジアルキルフェニルまたは6.4−ジ
ハロフェニルでないことを条件とする〕を有するピラゾ
ールに関する。Rはなるべくはメチレンがよい。 一 本発明ピッゾール化合物は種々な草本および広葉雑草(
あかざ(Amaranthus retroflexu
s L、)、ジムソンウイード(Datura str
amonium L、 )、パーンヤードグラス(1o
hinoohloa crusgarlT(L、) B
eauv、)、およびグリーン フオクステイル (t
aria viridis (L、) Beauv、
)の防除に使用できる。施用は水溶液でも懸濁液でもよ
く、これを雑草の葉または土の表面に雑草および作物の
発芽に先立ちそして作物の種子を播く前後に散布できる
。本発明化合物はまた雑草および作物の発芽に先立ち粒
状組成物の全面散布によっても施用できる。
する。特に本発明は一般式: 〔式中、Riはol〜04ハロアルキルまたはROR′
′(式中、RはO1〜02アルキレンまたはC,アルキ
リデンであり H&は水素、01〜C4アルキル、02
〜Osアルカノイル、アロイル、08〜Ox1アルアル
カノイル、01〜09アルアルキル、フェニル、7また
は置換フェニル(01〜04アルキル、01〜C4アル
コキシ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニ
トロで置換されたフェニル)、あるいは置換ベンゾイル
(ハロゲン、01〜04アルキル、01〜04ア〃コキ
シ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニトロ
で置換されたベンゾイル)である)であり R1は0□
〜04アルキJ&、01. ”−04シpロアルキル、
Cマ〜0会アルアルキル、0.〜0−アルカリール、フ
ェニル、ナフチルあるいは酸素、硫黄または窒素含有5
員または6員複素禦基であり、あるいはR2は置換フェ
ニル(ハロゲン、トリハロメチル、01〜04アルコキ
シ、ヒドロキシまたはシアノで置換されたフェニル)で
あり、Yは酸素または硫黄であり、R3はO1〜04ア
ルキル、0+l〜C4アルケニル、03〜C4アルキニ
ル、02〜C6アルコキシアルキルまたはO寓〜06ア
ルキルチオアルキルであり R4’g* 水素、 OX
〜C4アルキルまたはトリハロメチルであるが、ただし
、R2は6.4−ジアルキルフェニルまたは6.4−ジ
ハロフェニルでないことを条件とする〕を有するピラゾ
ールに関する。Rはなるべくはメチレンがよい。 一 本発明ピッゾール化合物は種々な草本および広葉雑草(
あかざ(Amaranthus retroflexu
s L、)、ジムソンウイード(Datura str
amonium L、 )、パーンヤードグラス(1o
hinoohloa crusgarlT(L、) B
eauv、)、およびグリーン フオクステイル (t
aria viridis (L、) Beauv、
)の防除に使用できる。施用は水溶液でも懸濁液でもよ
く、これを雑草の葉または土の表面に雑草および作物の
発芽に先立ちそして作物の種子を播く前後に散布できる
。本発明化合物はまた雑草および作物の発芽に先立ち粒
状組成物の全面散布によっても施用できる。
本発明化合物は「タンクミシス」として他の除草剤溶液
へ加え、単一の施用で防除される異なる雑草種の数を増
加させるようにすることができる。
へ加え、単一の施用で防除される異なる雑草種の数を増
加させるようにすることができる。
本発明化合物の処方物はまた散布または顆粒施用により
防除される雑草のスペクトルを拡張できるように他の除
草剤を含みうる。
防除される雑草のスペクトルを拡張できるように他の除
草剤を含みうる。
本発明に係る本置換ピラゾールを除草剤として用いる手
順は通常の農業上の習慣に従うことができる。化合物は
通常は担体および(または)界面活性剤を含む組成物と
して施用される。この組成物は1種以上の有効量の記載
の置換ビ2f−ルを含むことができ、望むならば他の活
性除草剤も処方物中に含めることができる。
順は通常の農業上の習慣に従うことができる。化合物は
通常は担体および(または)界面活性剤を含む組成物と
して施用される。この組成物は1種以上の有効量の記載
の置換ビ2f−ルを含むことができ、望むならば他の活
性除草剤も処方物中に含めることができる。
このようにしてピラゾール化合物は、微粉砕したまたは
顆粒状の無機または有機担体、例えばアタパルジャイト
クレー、砂、ひる石、とうもろこし穂軸、活性炭また
はこの分野で公知の他の粒状担体上に含浸できる。次に
含浸した顆粒を土の上にひろげることができる。更にま
たピラゾール化合物は、これを微細粉末に粉砕し、界面
活性剤および(または)分散剤を添加した不活性粉末化
担体と混合することにより水利剤として処、方できる。
顆粒状の無機または有機担体、例えばアタパルジャイト
クレー、砂、ひる石、とうもろこし穂軸、活性炭また
はこの分野で公知の他の粒状担体上に含浸できる。次に
含浸した顆粒を土の上にひろげることができる。更にま
たピラゾール化合物は、これを微細粉末に粉砕し、界面
活性剤および(または)分散剤を添加した不活性粉末化
担体と混合することにより水利剤として処、方できる。
典型的な粉末固体担体は各種の鉱物質ケイ酸塩、例えば
雲母、タルク、葉ろう石およびクレーである0次に水利
剤を水に分散し、土の表面または雑草に噴霧できる。同
様に、乳化性濃縮物は、界面活性分散剤を添加したベン
ゼン、トルエン、または他の脂肪族または芳香族炭化水
素のような溶媒に化合物を溶かすことにより調製できる
。次に乳化性濃縮物を水に分散し、噴霧することにより
施用しうる。適当な界面活性剤は当業者にとってよく知
られており、マツクカチェン(MaOut−ahaon
)のD@t@rgents ana Kmulsig
iera、 1980゜アルレッド パブリッシング
コーポレーション(ム1lur@a Publishi
ng 0orp、)、リッジウッド。
雲母、タルク、葉ろう石およびクレーである0次に水利
剤を水に分散し、土の表面または雑草に噴霧できる。同
様に、乳化性濃縮物は、界面活性分散剤を添加したベン
ゼン、トルエン、または他の脂肪族または芳香族炭化水
素のような溶媒に化合物を溶かすことにより調製できる
。次に乳化性濃縮物を水に分散し、噴霧することにより
施用しうる。適当な界面活性剤は当業者にとってよく知
られており、マツクカチェン(MaOut−ahaon
)のD@t@rgents ana Kmulsig
iera、 1980゜アルレッド パブリッシング
コーポレーション(ム1lur@a Publishi
ng 0orp、)、リッジウッド。
ニューゼリー、あるいはホフマン(Hoffman )
等、米国特許第2.614.916号明細書コラム2か
ら4まで、セよびg2.547,724号明細書コラム
3および4(例えば、適当な界面活性剤について)を引
用することができ、これら特許明細書は参考のため本明
細書にとり入れている。組成物中の活性化合物の濃度は
、例えば1から95−と広く変えることができる。発芽
前除草剤として使用するためには、化食物を雑草および
作物の種子を含む土壌へ担体に入れて施用する(土壊表
面へまたは土の上方2.5から入6cmまでの中に混入
して)。
等、米国特許第2.614.916号明細書コラム2か
ら4まで、セよびg2.547,724号明細書コラム
3および4(例えば、適当な界面活性剤について)を引
用することができ、これら特許明細書は参考のため本明
細書にとり入れている。組成物中の活性化合物の濃度は
、例えば1から95−と広く変えることができる。発芽
前除草剤として使用するためには、化食物を雑草および
作物の種子を含む土壌へ担体に入れて施用する(土壊表
面へまたは土の上方2.5から入6cmまでの中に混入
して)。
本発明化合物は発芽後除草剤として特に活性がある。発
芽後除草剤として使用する場合、化合物を担体に入れて
防除すべき植物の葉に施用する。
芽後除草剤として使用する場合、化合物を担体に入れて
防除すべき植物の葉に施用する。
これら化合物は丈51未満の双子葉雑草および丈12α
未満の単子葉雑草へ施用したとき最も活性がある0、与
えられたどの場合においても最適の施用−合は土壊の型
1.土壌の−、土壌の有機物含量、処理前後の降水量お
よび強さ、空気および土壌の温度、光の強さ、1日当り
の日照時間、処理時の植物の大きさ、および植物の種類
といった因子に左右されるであろう。これら因子のすべ
てが除草剤として用いるための薬剤の効力に対して影響
をもつ。施用割合は0.5から12ゆ/ヘクタールまで
に及ぶが、なるべくは処理が約1から6に9/ヘククー
ルにあるのがよい。
未満の単子葉雑草へ施用したとき最も活性がある0、与
えられたどの場合においても最適の施用−合は土壊の型
1.土壌の−、土壌の有機物含量、処理前後の降水量お
よび強さ、空気および土壌の温度、光の強さ、1日当り
の日照時間、処理時の植物の大きさ、および植物の種類
といった因子に左右されるであろう。これら因子のすべ
てが除草剤として用いるための薬剤の効力に対して影響
をもつ。施用割合は0.5から12ゆ/ヘクタールまで
に及ぶが、なるべくは処理が約1から6に9/ヘククー
ルにあるのがよい。
本発明に係る新規除草剤の利点は下記の例を引用するこ
とにより二層容易に理解されるであろう。
とにより二層容易に理解されるであろう。
例 1
ジクロロメタン2.Ot中中子チル5または5)−メチ
ル−5(または6)−フェニル−1H−ピラゾール−4
−カル?キシレー) 500 # (2,31モル)お
よびパラホルムアルデヒド67.0(2,5モル)の混
合物を室温で64時間かきまぜ、8時間還流する。更に
70.0 # (2,55モル)のパラホルムアルデヒ
ドを加え、混合物を室温で56時間かきまぜ、16時間
還流する。混合物をP遇し、溶媒をP液から減圧下に蒸
留して油状物を残し、これを酢酸エチル−ヘキサ/混合
物から結晶化させる・2Mすると表題の化合物2、融点
94〜96℃、445Iが得られる。
ル−5(または6)−フェニル−1H−ピラゾール−4
−カル?キシレー) 500 # (2,31モル)お
よびパラホルムアルデヒド67.0(2,5モル)の混
合物を室温で64時間かきまぜ、8時間還流する。更に
70.0 # (2,55モル)のパラホルムアルデヒ
ドを加え、混合物を室温で56時間かきまぜ、16時間
還流する。混合物をP遇し、溶媒をP液から減圧下に蒸
留して油状物を残し、これを酢酸エチル−ヘキサ/混合
物から結晶化させる・2Mすると表題の化合物2、融点
94〜96℃、445Iが得られる。
分析(0,)i、M)計算: 65.49.5.76.
11.58実測:66.45.5.67.11.24例
2 ジクロロメタン600d中メチル6(または5)−メチ
ル−5(または6)−フェニル−1H−ピラゾール−4
−カルボキシレート50g(0,23モル)、パラホル
ムアルデヒド28 Ii(0,95モル)およびp−ト
ルエンスルホン酸約0.5gの混合物を2日間かきまぜ
るが、この間に12時間還流加熱した。混合物を濾過し
、P液ヘトリエチルアミン59d<2811.0.28
モル)を加える。
11.58実測:66.45.5.67.11.24例
2 ジクロロメタン600d中メチル6(または5)−メチ
ル−5(または6)−フェニル−1H−ピラゾール−4
−カルボキシレート50g(0,23モル)、パラホル
ムアルデヒド28 Ii(0,95モル)およびp−ト
ルエンスルホン酸約0.5gの混合物を2日間かきまぜ
るが、この間に12時間還流加熱した。混合物を濾過し
、P液ヘトリエチルアミン59d<2811.0.28
モル)を加える。
生じた溶液を10℃未満に冷却し、かきまぜながらジク
ロロメタン55sl中塩化チオニル23WLl17.8
+、0.51モル)の溶液で滴下処理する。
ロロメタン55sl中塩化チオニル23WLl17.8
+、0.51モル)の溶液で滴下処理する。
添加は1.5時間で終了し、かきまぜを10’C未満で
1時間、室温で1日続ける。次に反応混合物を水洗し、
無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を蒸発させる。残
留物をトルエンと加温し、冷却し、表題の化合物、62
g、融点166〜168℃、をF取する。
1時間、室温で1日続ける。次に反応混合物を水洗し、
無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を蒸発させる。残
留物をトルエンと加温し、冷却し、表題の化合物、62
g、融点166〜168℃、をF取する。
分析(0、H,M)二計算: 58.98.4.95.
10.57実測: 58.98.4.90.10.23
例 5 粉砕した水酸化ナトリウム28Ii(0,70モル)を
アセト酢酸メチル8010.68モル)と0H10を寓
300WLlとのよくかきまぜた混合物へ、混合物を
10℃未満に冷却しつつ少しずつ加える。
10.57実測: 58.98.4.90.10.23
例 5 粉砕した水酸化ナトリウム28Ii(0,70モル)を
アセト酢酸メチル8010.68モル)と0H10を寓
300WLlとのよくかきまぜた混合物へ、混合物を
10℃未満に冷却しつつ少しずつ加える。
混合物を冷所で6時間かきまぜ、室温で一晩放置する。
混合物をかき才ぜ、10℃未満に冷却し、97.9 (
0,68モル)の塩化ベンゾイルを混合物の温度が10
℃を超えない速度で加える。添加終了後混合物を冷所で
1時間そして室温で一晩かきまぜる。生じた塩からデカ
ンテーションした液相なかきまぜ、10℃未満に冷却し
、200dの酢酸を加える。冷溶液へ(2−ヒドロキシ
エチル)ヒドラジン5’1.8 g(0,68モル)を
滴加する。
0,68モル)の塩化ベンゾイルを混合物の温度が10
℃を超えない速度で加える。添加終了後混合物を冷所で
1時間そして室温で一晩かきまぜる。生じた塩からデカ
ンテーションした液相なかきまぜ、10℃未満に冷却し
、200dの酢酸を加える。冷溶液へ(2−ヒドロキシ
エチル)ヒドラジン5’1.8 g(0,68モル)を
滴加する。
混合物を室温で一晩かぎ才ぜる。混合物を水で二回、冷
型炭酸ナトリウムで二回、そして再び水で二回洗浄する
。有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧
下に留去してオレンジ色の油状物を残す。この油は放置
すると結晶化する。酢酸エチル−ヘキサン混合物から再
結晶すると表題の生成物、融点79〜80℃、17.1
.9が得られる。
型炭酸ナトリウムで二回、そして再び水で二回洗浄する
。有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧
下に留去してオレンジ色の油状物を残す。この油は放置
すると結晶化する。酢酸エチル−ヘキサン混合物から再
結晶すると表題の生成物、融点79〜80℃、17.1
.9が得られる。
分析(0、H、M)二計算: 64.60.6.20.
10.76実測二64.94.6.25.10.85例
4 0)!、0t250d中例3の生成物5.5 g(0,
021モル)とトリエチルアミン2.5g(,025モ
ル)の冷(約10℃)溶液へ塩化チオニル3.0 Ii
(,025モル)を滴加する。添加後混合物を室温で一
晩かきまぜる。生じた褐色溶液を一過し、F液を水洗す
る。有機相を無水硫酸す)IJウム上で乾燥し、溶媒を
減圧で留去すると油状物が残る。この油はMMR分光法
により例3の生成物と上記表題の化合物との混合物であ
ることが決定された。この油を再び501の0H20t
、にとり、トリエチルアミン2、Fl、塩化チオニル6
.0gで上記のように処理する。水処理後、6.2gの
表題の生成物が褐色固体、融点91〜93℃、として得
られる。
10.76実測二64.94.6.25.10.85例
4 0)!、0t250d中例3の生成物5.5 g(0,
021モル)とトリエチルアミン2.5g(,025モ
ル)の冷(約10℃)溶液へ塩化チオニル3.0 Ii
(,025モル)を滴加する。添加後混合物を室温で一
晩かきまぜる。生じた褐色溶液を一過し、F液を水洗す
る。有機相を無水硫酸す)IJウム上で乾燥し、溶媒を
減圧で留去すると油状物が残る。この油はMMR分光法
により例3の生成物と上記表題の化合物との混合物であ
ることが決定された。この油を再び501の0H20t
、にとり、トリエチルアミン2、Fl、塩化チオニル6
.0gで上記のように処理する。水処理後、6.2gの
表題の生成物が褐色固体、融点91〜93℃、として得
られる。
分析(0、H,N):計算二60.32.5.42.1
0.04実測: 60.55.5.55.9.94例5 トルエン100d中例6のピラゾール5.59(0,0
21モル)およびトリエチルアミン2.59(0,02
5モル)の冷(約10℃)溶液へ塩化アセチル2.01
0.025モル)を滴加する。添加後、混合物を室温で
4時間かきまぜ一晩放置する。
0.04実測: 60.55.5.55.9.94例5 トルエン100d中例6のピラゾール5.59(0,0
21モル)およびトリエチルアミン2.59(0,02
5モル)の冷(約10℃)溶液へ塩化アセチル2.01
0.025モル)を滴加する。添加後、混合物を室温で
4時間かきまぜ一晩放置する。
沈澱したトリエチルアミン塩酸塩をF別し、トルエンを
減圧で留去すると無色の油が残り、放置すると固化する
。生成物を酢酸エチル−ヘキサン混合物から再結晶する
と表題の化合物、融点78〜80℃、4.99が得られ
る。
減圧で留去すると無色の油が残り、放置すると固化する
。生成物を酢酸エチル−ヘキサン混合物から再結晶する
と表題の化合物、融点78〜80℃、4.99が得られ
る。
分析(0,H,M ):計算: 65.56.6.00
.9.27実側: 65.79.6.24.9.o26
5.60.5.95.8.99 例 6 メチル1−(クロロメチル)−3(7たは5)−メチル
−5(または3)−フェニル−1H−ピラゾール−4−
カルがキシレート(10,0,9゜0.036モル)を
メタノール中ナトリウムメトキシトの溶液(窒素雰囲気
下で調製、メタノール60d中ナトリウム1.!M)へ
加え、混合物をかきまぜながら60°に6時間加熱する
。混合物が冷えた後これをジクロロメタン(200′I
Ll)にとり、水洗する。有機相を無水硫酸す) IJ
ウム上で乾燥し、減圧下に蒸発させると8.2gの表題
の化合徹融点92〜94℃、が得られる。
.9.27実側: 65.79.6.24.9.o26
5.60.5.95.8.99 例 6 メチル1−(クロロメチル)−3(7たは5)−メチル
−5(または3)−フェニル−1H−ピラゾール−4−
カルがキシレート(10,0,9゜0.036モル)を
メタノール中ナトリウムメトキシトの溶液(窒素雰囲気
下で調製、メタノール60d中ナトリウム1.!M)へ
加え、混合物をかきまぜながら60°に6時間加熱する
。混合物が冷えた後これをジクロロメタン(200′I
Ll)にとり、水洗する。有機相を無水硫酸す) IJ
ウム上で乾燥し、減圧下に蒸発させると8.2gの表題
の化合徹融点92〜94℃、が得られる。
分析(0,H,N、):計算: 64.40.6.20
.10.76実測: 64.62.6.24 、11.
08例 7 トルエンl1100m)中メチル1−(ヒドロキシメチ
ル)−6(または5)−メチル−5(または3)−フェ
ニル−1H−ピラゾール−4−カルボキシレート5.0
& < o、020モル)およびトリエチルアミン2
.4N(0,024舌ル)のかきまぜた混合物を塩化ア
セチル1.9.9 (0,024モル)で10℃未満に
おいて滴加処理する。混合物な室温で一晩かきまぜ、次
に固体を戸別し、溶媒を減圧下で蒸発させる。残留物は
放置すると結晶化する。酢酸エチル/ヘキサンからの再
結晶は4.0gの表題の化合物、融点91〜94℃を与
える。
.10.76実測: 64.62.6.24 、11.
08例 7 トルエンl1100m)中メチル1−(ヒドロキシメチ
ル)−6(または5)−メチル−5(または3)−フェ
ニル−1H−ピラゾール−4−カルボキシレート5.0
& < o、020モル)およびトリエチルアミン2
.4N(0,024舌ル)のかきまぜた混合物を塩化ア
セチル1.9.9 (0,024モル)で10℃未満に
おいて滴加処理する。混合物な室温で一晩かきまぜ、次
に固体を戸別し、溶媒を減圧下で蒸発させる。残留物は
放置すると結晶化する。酢酸エチル/ヘキサンからの再
結晶は4.0gの表題の化合物、融点91〜94℃を与
える。
分析(0、H、M)二計算: 62.49.5.59.
9.72実側: 61.56.6.02.9.4261
.77.6.16.9.00 上記諸例の一般的教えに従い更に次の化合物を製造し、
表1に示した。
9.72実側: 61.56.6.02.9.4261
.77.6.16.9.00 上記諸例の一般的教えに従い更に次の化合物を製造し、
表1に示した。
寸 Ln’O” の び
P+ −F −−−
例56
発芽前除草剤として記述のピラゾール誘導体の有効性を
説明するため、化合物600ηを有機溶媒(例えば、ア
セトン)10dに溶解し、これに通常の乳化剤(例えば
、エトキシル化ツルぎタンモノ2ウレート「トウイーン
20」)を加える。
説明するため、化合物600ηを有機溶媒(例えば、ア
セトン)10dに溶解し、これに通常の乳化剤(例えば
、エトキシル化ツルぎタンモノ2ウレート「トウイーン
20」)を加える。
この溶液を蒸留水で100dに希釈する。この6000
ppm溶液の201を蒸留水で250 ppmに希釈
する。直径114cILのプラスチック鉢中の±の表面
に250 ppm溶液46mを潅注することにより化合
物を11.2に9/ヘクタール(キログラム/ヘタター
ル)の割合で施用する。上記鉢に下記雑草の種子:ベル
ベットリーフ(ムt)utilontheophias
ti M@dia、 )、ジムソン ウイード(Dat
ura stramonium L、 )、トールモー
ニンググローリイ(工pom@a purpurea(
L、) ROth )、スウィッチグラス(Panio
um fir atum L、)、パー/ヤードグラス
(Kahinoahloa crusgalli (L
、)B@auマ)、およびグリーンフォックステイル(
8*taria viri41s (L、) Beau
v )を前以て播いておく。未処理対照と比較した雑草
防除パーセントを処理後2週間で決定する。表1は上記
試料に従って鍔製した本発明発芽前除草剤に関する結果
を示す。
ppm溶液の201を蒸留水で250 ppmに希釈
する。直径114cILのプラスチック鉢中の±の表面
に250 ppm溶液46mを潅注することにより化合
物を11.2に9/ヘクタール(キログラム/ヘタター
ル)の割合で施用する。上記鉢に下記雑草の種子:ベル
ベットリーフ(ムt)utilontheophias
ti M@dia、 )、ジムソン ウイード(Dat
ura stramonium L、 )、トールモー
ニンググローリイ(工pom@a purpurea(
L、) ROth )、スウィッチグラス(Panio
um fir atum L、)、パー/ヤードグラス
(Kahinoahloa crusgalli (L
、)B@auマ)、およびグリーンフォックステイル(
8*taria viri41s (L、) Beau
v )を前以て播いておく。未処理対照と比較した雑草
防除パーセントを処理後2週間で決定する。表1は上記
試料に従って鍔製した本発明発芽前除草剤に関する結果
を示す。
例57
地上出現後2週間として記載のピラゾール誘導体の有効
性を説明するため、例66で記述した6000ppml
液をナンバ−152デビルビス噴霧機で散布し滴り落ち
る点まで葉を濡らす。雑草(これは例36に記載のもの
と同種である)を発芽後6日間処理する。処理の2週間
後防除パーセントを評価する。表層は本発明発芽後除草
剤についての結果を示す。
性を説明するため、例66で記述した6000ppml
液をナンバ−152デビルビス噴霧機で散布し滴り落ち
る点まで葉を濡らす。雑草(これは例36に記載のもの
と同種である)を発芽後6日間処理する。処理の2週間
後防除パーセントを評価する。表層は本発明発芽後除草
剤についての結果を示す。
例38
11.2kN/ヘクタール地上出現前に怠ける効力を説
明するため、250 ppm溶液を直径15.2mの鉢
1個当り80dの割合で土表面に潅注する。
明するため、250 ppm溶液を直径15.2mの鉢
1個当り80dの割合で土表面に潅注する。
1.12)Cf/ヘククールの割合は25 ppmを必
要とする。幾つかの雑草種の種子を薬剤施用前に6鉢の
土に播く、未処理対照と比較した雑草の防除パーセント
を地上出現後2週間で決定する。表貨は11.2および
1.12N?/ヘクタールの割合における効力試験の結
果を示す。
要とする。幾つかの雑草種の種子を薬剤施用前に6鉢の
土に播く、未処理対照と比較した雑草の防除パーセント
を地上出現後2週間で決定する。表貨は11.2および
1.12N?/ヘクタールの割合における効力試験の結
果を示す。
例39
6000 ppm未満の割合における発芽後効力を説明
するため、例56に記載の溶液を蒸留水で4000.2
000.1000.500.250および125 pp
mに希釈し、例2に記載のように植物の葉に施用する。
するため、例56に記載の溶液を蒸留水で4000.2
000.1000.500.250および125 pp
mに希釈し、例2に記載のように植物の葉に施用する。
表■は6000 PPmより低い割合での発芽後施用の
結果を説明する。
結果を説明する。
例40
望ましい作物植の間に生えている雑草の防除ができるの
で除草剤の選択性が望ましい。本発明化合物の選択的発
芽後除草剤としての有用性を説明するため、化合物40
0mgを通常の乳化剤(例えば、エトキシル化ソルビタ
ンモノラウレート「トウイーン20」〔商標))251
9を含むアセトンのような有機溶媒101に溶解し、蒸
留水で501に希釈する。この溶液を水280を生活性
成分2.24kg/ヘクタールの割合で1 r X 2
0”の半箱に生えている植物の葉に散布する。4つと低
い割合は蒸留水で希釈することにより果した。例えば、
水で50ts希釈した2、24kl?/ヘクタール用溶
液は1.12kN/ヘクタール用溶液を生ずる。処理後
5週間で雑草防除パーセントおよび作物損害を評価する
0表有は選択的発芽後除草剤としてのこれら化合物の有
用性を説明する。
で除草剤の選択性が望ましい。本発明化合物の選択的発
芽後除草剤としての有用性を説明するため、化合物40
0mgを通常の乳化剤(例えば、エトキシル化ソルビタ
ンモノラウレート「トウイーン20」〔商標))251
9を含むアセトンのような有機溶媒101に溶解し、蒸
留水で501に希釈する。この溶液を水280を生活性
成分2.24kg/ヘクタールの割合で1 r X 2
0”の半箱に生えている植物の葉に散布する。4つと低
い割合は蒸留水で希釈することにより果した。例えば、
水で50ts希釈した2、24kl?/ヘクタール用溶
液は1.12kN/ヘクタール用溶液を生ずる。処理後
5週間で雑草防除パーセントおよび作物損害を評価する
0表有は選択的発芽後除草剤としてのこれら化合物の有
用性を説明する。
ロ r へ ′lo さ ロ r 哨
・唖 唖P P r で F C%4
ヘ ヘ /ff1−へl/)寸クリのへ口rへ噂寸
りうh(イ)寸罰PP−y” y FFv−v−へへへ
伽へへへへ唖唖唖0000口000口 0口(:l 0 00 ローF唖11つ(イ)暑 発芽前除草剤としての使用に特に適したピラゾール化合
物は例1.10および11の化合物であることは前記の
例から明らかである。発芽後除草剤としての使用K特に
適したピラゾールは例1.9.10.11.12.14
および18の化合物である。
・唖 唖P P r で F C%4
ヘ ヘ /ff1−へl/)寸クリのへ口rへ噂寸
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伽へへへへ唖唖唖0000口000口 0口(:l 0 00 ローF唖11つ(イ)暑 発芽前除草剤としての使用に特に適したピラゾール化合
物は例1.10および11の化合物であることは前記の
例から明らかである。発芽後除草剤としての使用K特に
適したピラゾールは例1.9.10.11.12.14
および18の化合物である。
除草活性を有しかつ本発明の範囲内にある追加のピッゾ
ール−4−カルがキシレートは次の通りである:メチル
1−(ブトキシメチル)−6(または5)−メチル−5
(または3)−フェニル−1H−ピラゾール−4−カル
ざキシレート、8−メチル1−((1−オキシブトキシ
)メチル〕−3(談たは5)−メチル−5(菫たは3)
−フェニル−1H−ピラゾール−4−カルがキシレート
、2−(メチルチオ)エチル1−(1−オキソ−2=フ
エニルエトキシ)−5<または5)−メチル−5(才た
は6)−フェニル−1N!−ピラゾール−4−カルボキ
シレート、メチル1−(ヒドロキシメテルンー3(また
は5)−フェニル−5(または6)−トリフルオロメチ
ル%−1B−一ラゾール−4−カルボキシレート、メチ
ル1− (((4−(1,1−ジメチルエチル)ベンゾ
イル〕オキシ〕メチル〕−6(または5)−メチル−5
(または6)−(フェニルメチル)−1H−ピラゾール
−4−カルがキシレート、メチル6(才たは5)−(5
−ブチルフェニル)−5(または3)−メチル−1−(
((4−プロポキシベンゾイル)オキシ〕メチル〕−1
H−ピラゾール−4−カルがキシレート、メチル6(ま
たは5)−メチル−5(または5)−C5−チェニル)
−1−(((3−(トリフルオロメチル)ベンゾイル〕
オキシ〕メチル)−1B−ピラゾール−4−カルボキシ
レート、メチル1−(((2−ヒドロキシペンクイル)
オキシコメチル〕−6(または5)−メチル−5(また
は3)−(4−モルホリニル)−1H−ぎツー−ルー4
−カルがキシレート、メチル1−(((5−シアノベン
ゾイル)−オキシコメチル〕−3(または5)−(3−
シアノフェニル)−5(または6)−メチル−IH−ぎ
ラゾールー4−力ルポキシレート、メチル6(または5
)−C5−ブトキシフェニル)−5(または6)−メチ
ル−1−(((4−ニトロベンシイλ)オキシ〕メチル
〕−1H−ピ2ゾール−4−カルボキシレート、メチル
1−(ヒドロキシメチル)−6(または5)−(ヒドロ
キシフェニル)−5(または6)−メチル−1H−ピラ
ゾール−4−カルボキシレート、メチル1−((4−ヒ
Pロキシフエノキシ)メチル〕−3(または5)−メチ
ル−5(または5)−フェニル−1H−ピラゾール−4
−カルボキシレート、メチル°1−((4−シアノフェ
ノキシ)メチル〕−6(または5)−メチル−5(また
は6)−フェニル−1H−ピラゾール−4−カルボキシ
レート、メチル3(または5)−メチル−5(または6
)−フ二二/I/−1−((5−()リフルオロメチル
)フェノキシコメチル) −1H−−ピッゾール−4−
カルボキシレート。
ール−4−カルがキシレートは次の通りである:メチル
1−(ブトキシメチル)−6(または5)−メチル−5
(または3)−フェニル−1H−ピラゾール−4−カル
ざキシレート、8−メチル1−((1−オキシブトキシ
)メチル〕−3(談たは5)−メチル−5(菫たは3)
−フェニル−1H−ピラゾール−4−カルがキシレート
、2−(メチルチオ)エチル1−(1−オキソ−2=フ
エニルエトキシ)−5<または5)−メチル−5(才た
は6)−フェニル−1N!−ピラゾール−4−カルボキ
シレート、メチル1−(ヒドロキシメテルンー3(また
は5)−フェニル−5(または6)−トリフルオロメチ
ル%−1B−一ラゾール−4−カルボキシレート、メチ
ル1− (((4−(1,1−ジメチルエチル)ベンゾ
イル〕オキシ〕メチル〕−6(または5)−メチル−5
(または6)−(フェニルメチル)−1H−ピラゾール
−4−カルがキシレート、メチル6(才たは5)−(5
−ブチルフェニル)−5(または3)−メチル−1−(
((4−プロポキシベンゾイル)オキシ〕メチル〕−1
H−ピラゾール−4−カルがキシレート、メチル6(ま
たは5)−メチル−5(または5)−C5−チェニル)
−1−(((3−(トリフルオロメチル)ベンゾイル〕
オキシ〕メチル)−1B−ピラゾール−4−カルボキシ
レート、メチル1−(((2−ヒドロキシペンクイル)
オキシコメチル〕−6(または5)−メチル−5(また
は3)−(4−モルホリニル)−1H−ぎツー−ルー4
−カルがキシレート、メチル1−(((5−シアノベン
ゾイル)−オキシコメチル〕−3(または5)−(3−
シアノフェニル)−5(または6)−メチル−IH−ぎ
ラゾールー4−力ルポキシレート、メチル6(または5
)−C5−ブトキシフェニル)−5(または6)−メチ
ル−1−(((4−ニトロベンシイλ)オキシ〕メチル
〕−1H−ピ2ゾール−4−カルボキシレート、メチル
1−(ヒドロキシメチル)−6(または5)−(ヒドロ
キシフェニル)−5(または6)−メチル−1H−ピラ
ゾール−4−カルボキシレート、メチル1−((4−ヒ
Pロキシフエノキシ)メチル〕−3(または5)−メチ
ル−5(または5)−フェニル−1H−ピラゾール−4
−カルボキシレート、メチル°1−((4−シアノフェ
ノキシ)メチル〕−6(または5)−メチル−5(また
は6)−フェニル−1H−ピラゾール−4−カルボキシ
レート、メチル3(または5)−メチル−5(または6
)−フ二二/I/−1−((5−()リフルオロメチル
)フェノキシコメチル) −1H−−ピッゾール−4−
カルボキシレート。
代理人 浅 村 晧
外4名
第1頁の続き
1− 明 者 アリン・アール・ベルアメリカ合衆国
コネチカット州 チェシャー・ウイーゼ・ロード 86 ■出 願 人 ユニロイヤル・リミテッドカナダ国オン
タリオ・トン・ミ ルズ・トン・ミルズ・ロード15 0
コネチカット州 チェシャー・ウイーゼ・ロード 86 ■出 願 人 ユニロイヤル・リミテッドカナダ国オン
タリオ・トン・ミ ルズ・トン・ミルズ・ロード15 0
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)構造式 〔式中、R1は01〜C4ハロアルキルまたはROR5
(式中、Rは01〜C2アルキレンまたはC2アルキリ
デンであり、RI5は水素、C1−C4アルキル、C8
〜C5アルカノイル、アロイル、C8〜CXOアルアル
力ノイル% C’l〜C9アルアルキル、フェニル、ま
たは置換フェニル(C1〜C4アルキル、01〜C4ア
ルコキシ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたは
ニトロで置換されたフェニル)、または置換ベンゾイル
(ハロゲン、01〜C4アルキル、C1〜C4アルコキ
シ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニトロ
で置換されたベンゾイル)である)であり、R2はC1
〜C4アルキル、c 、−CI!シクロアルキル、Cフ
ルC9アルアルキル、C?〜C9アルカリール、フェニ
ル、ナフチルまたは酸素、硫黄または窒素含有5員−ま
たは6−員複素環基であり、あるいはR2は置換フェニ
ル(ハロゲン、トリハロメチル、C1〜C4アルコキシ
、ヒドロキシまたはシアノで置換されたフェニル)であ
り、Yは酸素または硫黄であり、R3は01〜C4アル
キルs C2〜C4アルケニル、Ca〜C4ミルC4ア
ルキニルC6アルコキシアルキルまたは02〜C11ア
ルキルチオアルキルであり、R4は水素、C1−04ア
ルキルまたはトリハロメチルであるが、ただし、R2は
3,4−ジアルキルフェニルまたは6,4−ジハロフェ
ニルでないことを条件とする〕を有することを%黴とす
るピラゾール化合物。 (21R1がC1〜C2クロロアルキル、Rが01〜C
2アルキレン R5が水素、 C1〜C4アルキル、フ
ェニルt タtfヘンシル R2がシクロヘキシル、フ
ェニル、ハロフェニル、トリフルオロメチルフエニル、
メトキシフェニル、ベンジル、ナフチル、チェニルまた
はフラニル、Yが酸素または硫黄、R3が01〜C2ア
ルキル、プロペニルまたはプロピニル、R4が水素また
はC1〜C4アルキルである、第1項記載の化合物。 f31 R1がクロロメチル、クロロエチル、ヒドロ
キシメチル、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、エト
キシメチル、フェノキシメチル、メチルカルざニルオキ
シメチルおよびペン・戸イルオキシメチルカラ選ハレ、
R2がシクロヘキシル、フェニル、ナフチル、フラニル
または置換フェニル(フッ素、塩素、臭素、メチル、ト
リフルオロメチルまたはメトキシで置換されたフェニル
)であり、R3がC1−03アルキル、アリル、プロパ
ルギルまたはエトキシエチルであり、R4が水素または
01〜C3アルキルであり、そしてYが酸素である、第
1項記載の化合物。 (4) 発芽前除草剤組成物において、構造式:C式
中、R”ハクロロメチル、クロロエチル、ヒドロキシメ
チル、メトキシメチル、エトキシメチル、フェノキシメ
チル、またはベンゾイルオキシl子にでhF)、R”f
dシクロヘキシル、フェニル、ナフチル、または置換フ
ェニル(フッ素、塩素、臭素またはメチルで置換された
フェニルであるが、ただしこのような置換基はバラ−位
になく、かつR2は3t4−ジアルキルフェニルま7’
cハ3.4−ジハロフェニルでないことを条件とする)
であり R3はC1〜CSアルキルまたはプロパルギル
であり R4は水素または01〜C2アルキルであり、
Yは酸素である〕を有するピラゾール化合物およびそれ
に対する担体とからなることを%黴とする、上記組成物
。 (5)キラゾール化合物がメチル1−(ヒドロキシメチ
ル)−3(tたは5)−メチル−5(または6)−フェ
ニル−1H−ピラゾール−4−カルボキシレート、メチ
ル−6(または5)−(6−フルオロフェニル)−1−
(ヒドロキシメチル)−5(または6)−メチル−11
H−ピラゾール−4−カルボキシレート、メチル−1−
(ヒドロキシメチル)−6(または5)−メチル−5(
または3)−(3−(トリフルオロメチル)フェニル〕
−IH−ピラゾール−4−カルざキシレートまたはその
混合物からなる群から選ばれる、第4項記載の組成物。 (6)発芽後除草剤組成物において、構造式:〔式中
R1は01〜C4ハロアルキルまたはROR’(式中、
RFiC1〜C2アルキレンまたはC2アルキリデンで
あり、R5は水素、01〜C4アルキル、02〜C5ア
ルカノイル、アロイル、08〜C10アルアルカノイル
、C〒〜C9アルアルキル、フェニル、または置換フェ
ニル(C1−04アルキル、01〜C4アルコキシ、ト
リハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニトロで置換
されたフェニル)、または置換ベンゾイル(ハロゲン、
C1−c、アルキル、01〜C4アルコキシ、トリハ
ロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニトロで置換され
たベンゾイル)である)であり R2は01〜C4アル
キル、05〜Cl11シクロアルキル%C?〜C9アル
アルキル、”F〜C9アルカリール、フェニル、ナフチ
ルまたは酸素、硫黄または窒素含有5−員または6−員
複素環基であり、あるいはR2は置換フェニル(ハロゲ
ン、トリハロメチル、01〜C4アルコキシ、ヒドロキ
シまたはシアノで置換されたフェニル)であり、Yは酸
素または硫黄であり、R3はC1〜C4アルキル、C2
〜C4アルケニル、C3〜C4アルキニル、02〜Cl
11アルコキシアルキルまたは02〜C11アルキルチ
オアルキルであり、R4ハ水素%C工〜C4アルキルま
たはトリハロメチルであるが、ただし R2は3,4−
ジアルキルフェニルまたは3.4−ジハロフェニルでな
いことを条件とする〕を有するピラゾール化合物を含む
ことを4#徴とする、上記組成物。 (7) R”がクロロメチル、Rがメチレン、R5が
水素またはメチルカルボニル、R2がシクロヘキシ/l
/、 7 xニル、2−1 fctd 3−フルオロフ
ェニル、2−または3−メチルフェニルまたは2−また
は3−)!7フルオロメチルフエニル、R3カメチル、
アリルまたはプロパルギル、R4がメチルまたはエチル
、そしてYが酸素である、第6項記載の組成物。 (8) ピラゾール化合物がメチル1−(ヒドロキシ
メチル)−3(または5)−メチル−5(または3)(
6−メチルフェニル)−1H−ビラシールー−4−カル
ボキシレート;メチル3(または5)−C5−フルオロ
フェニル)−1−(ヒドロキシメチル)−5(または6
)−メチル−1H−ピラゾール−4−カルサ゛キシレー
ト:メチル1−.(ヒドロキシメチル)−6(または5
)−メチル−5(マタは3)−(3−()リフルオロメ
チル)フェニル)−1HI’ラゾール−4−カルボキシ
レート;メチル3(または5)−(2−フルオロフェニ
ル)−1−(ヒドロキシメチル−5またR3)−メチル
−1H−ピラゾール−4−カルボキシレート;メチル1
−(ヒドロキシメチル)−3(または5)−2−フラニ
ル−5(または3)−メチルー1H−ピラゾールー4−
カルボキシレート;メチル1−(ヒドロキシメチル)−
3(または5)−メチル−5(または3)−(2−メチ
ルフェニル)−1H1’うψ−ルー4−カルざキシレ−
);2−ニア’ロペニル1−(ヒドロキシメチル)−6
(または5)−メチル−5(または3)−フェニル−1
)(−ピラゾール−4−カルざキシレート;2−プロピ
ニル1−(ヒドロキシメチル)−3(または5)−メチ
ル−5(ま走は3)−7エ二ルーIH−ピラゾール−4
−カルボキシレート。 メチル3(tたは5)−シクロヘキシル−1−(ヒドロ
キシメチル)−5(または3)−メチル−1H−ピラゾ
ール−4−カルボキシレート;メチル3(tたは5)−
エチル−1−(ヒドロキシメチル)−5(または6)−
フェニル−1H−ピラゾール−4−カルがキシレート;
メチル1−(クロロメチル)−6(または5)−メチル
−5(または3)−1−メチルフェニル)−1H−ピラ
ゾール−4−カルボキシレート;メチル1−(ヒドロキ
シメチル)−3(または5)−メチル−5(または3)
−フェニル−1H−ピラゾール−4−カルざキシレート
;メチル1−〔(アセチルオキシ)メチル〕−3(また
は5)−メチル−5(または6)−フェニル−1H−ピ
ラゾール−4−カルボキシレートまたはその混合物であ
る、第6項記載の発芽後除草剤組成物。 (9) ピラゾール化合物を微粉砕、粉末化または顆
粒担体上に含浸させる、第4項または第・7項記載の組
成物。 C1担体がアタパルジャイトクレー、砂、ひる石、とう
もろこし穂軸、活性炭またはその混合物からなる群から
選ばれる、第9項記載の組成物。 α心 界面活性剤または分散剤を添加し、そして担体が
、粉末化した形の鉱物質ケイ酸塩である、第9項記載9
組成物。 0 鉱物質ケイ酸塩が雲母、タルク、葉ろう石またはク
レーである、第11項記載の組成物。 (13雑草の発芽前防除の方法において、防除すべき地
域を一般式 〔式中、R1ハクロロメチル、クロロエチル、とPロキ
シメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、フェノキ
シメチル、またはベンゾイルオキシメチルテア!l)、
R”はシクロヘキシル、フェニル、または置換フェニル
(フッ素、塩素、臭素またはメチルで置換されたフェニ
ル、ただし、このような置換基はバラ−位にはなく、そ
してR2は6,4−ジアルキルフェニルまたは3,4−
ジクロロフエニルでない)であり R3はcl−c、ア
ルキルまたは!ロパルザルであね、R4は水素またはc
l〜Csアルキルであり、YFi酸素である〕を有する
ピラゾール化合物およびそれに対する担体からなる有効
量の組成物で処理することを特徴とする、上記方法。 α4 Vpラゾール化合物がメチル1−(ヒドロキシ−
メチル)−3(または5)−メチル−5(または3)−
フェニル−1H−ピラゾール−4−カルざキシレート;
メチル−6(または5)−(3−フルオロフェニル)−
1−(ヒドロキシメチル)−5(または3)−メチル−
1H−ビラ・戸−ルー4−カルがキシレート;メチル−
1−(ヒドロキシメチル)−6(または5)−メチル−
5(または3)−(3−(llフルオロメチル)フェニ
ル)−1H−&うψ−ルー4−カルボキシレートまたは
その混合物からなる群から選ばれる、第1!1項記載の
方法。 ・ OQ 雑草の発芽後防除の方法において、防除すべき
地域を構造式: 〔式中、RIId C1−04)・ロアルキルまたはR
OR5(式中、RFiC1〜C2アルキレンまたはC2
アルキリデンであり、R6は水素、01〜C4アルキル
、C2〜C5アルカノイル、アロイル、CBNC1oア
ルアルカノイル、C)〜C9アルアルキル、フェニル、
マたは置換フェニル(01〜C4アルキル、ClNC4
アルコキシ、トリハロメチル、ヒドロキシ、シアノまた
はニトロで置換されたフェニル)、または置換ベンゾイ
ル(ハロゲン、C1〜C,フルキル、C1〜C4アルコ
キシ )IJハロメチル、ヒドロキシ、シアノまたはニ
トロで置換されたベンゾイル)である)であ炒、R2は
C1−C4アルキル、05〜C^シクロアルキル、Cフ
ルC9アルアルキル、CフルC9アルカリール、フェニ
ル、ナフチル、または酸素、硫黄または窒素含有5員−
または6員複索環基であり、あるいはR2は置換フェニ
ル()・口rン、トリハロメチル、01〜C4アルコキ
シ、ヒドロキシまたはシアノで置換されたフェニル)で
あり、Yは酸素または硫黄であり、R3は01〜C4ア
ルキル、C2〜C4アルケニル、C3〜C4アルキニル
、02〜C6アルコキシアルキルまたは02〜Cのアル
キルチオアルキルであり、R1は水素、C1〜C4アル
キルまたはトリハロメチルであるが、ただし、R2は3
,4−ジアルキルフェニルまたはs、4−ジハロフェニ
ルでないことを条件とする〕を有する組成物の有効量で
処理することを%微とする、上記方法。 (至) ビラ・戸−ル化合物がメチル1−(ヒドロキシ
メチル)−3(または5)−メチル−5(または3)(
3−メチルフェニル)−1H−ビラ・戸−ルー4−カル
がキシレート;メチル6(または5)−(′5−フルオ
ロフェニル)−1−(ヒドロキシメチル)−5(または
6)−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボキシレー
ト;メチル1−(ヒドロキシメチル)−3(または5)
−メチル−5(tたは5)−(り−()リフルオロメチ
ル)フェニル)−iH−1?ラゾール−4−カルボキシ
レート;メチル6(または5)−(2−フルオロフェニ
ル)−1−(ヒドロキシメチル−5(tり1J6)−メ
チル−1H−ピラゾール−4−カルボキシレート;メチ
ル1−(ヒドロキシメチル)−3(1または5)−2−
7ラニルー5(または6)−メチル−1H−ピラゾール
−4−カルがキシレート;メチル1−(ヒドロキシメチ
ル)−3(または5)−メチル−5(または3)−(2
−メチルフェニル)−1a−ピラゾール−4−カルホキ
シレー) ; 2−fロイニル1−(ヒドロキシメチル
)−6(または5)−メチル−5(または3)−フェニ
ル−1H−ピラゾール−4−カルボキシレート;2−ゾ
ロぎニル1−(ヒドロキシメチル)−!+(または5)
−メチル−5(または6)−フェニル−1H−ピラゾー
ル−4−カルがキシレート;メチル6(または5)−シ
クロヘキシル−1−(ヒドロキシメチル’) −5(ま
たは3)−メチル−IH−ピラゾール−4−カルボキシ
レート;メチル3(t、15)−エチル−1−(ヒドロ
キシメチル)−5(または3)−フェニル−1H−ピラ
ゾール−4−カルボキシレート;メチル1−(クロルメ
チル)−3(まえは5)−メチル−5(または3)−(
3−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−4−カルボ
キシレート;メチル1−(ヒドロキシメチル)−3(″
または5)−メチル−5(または3)−フェニル−1H
−ピラゾール−4−カルボキシレート;メチル1−((
アセチルオキシ)メチル)−3(または5)−メチル−
5(または3)−7エニルー1H−ビラ・戸−ルー4−
カルボキシレートまたはその混合物である、8115項
記載の方法。 Qの ビラゾール化合物を微粉砕、粉末化、また顆粒担
体またはその混合物上に含浸する、第14項または第1
5項記載の方法。 (至)担体がアタパルジャイトクレー、砂、ひる石、と
うもろこし穂軸、活性炭またはその混合物からなる群か
ら選ばれる、第16項記載の方法。 a呻 界面活性剤または分散剤を添加し、そして担体が
粉末化した形の鉱物質ケイ酸塩のものである、第16項
記載の方法。 ■ 鉱物質ケイ酸塩が雲母、タルク、集ろう石またはク
レーである、第18項記載の方法。
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