JPS5846555B2 - デンカイソウ - Google Patents
デンカイソウInfo
- Publication number
- JPS5846555B2 JPS5846555B2 JP14171775A JP14171775A JPS5846555B2 JP S5846555 B2 JPS5846555 B2 JP S5846555B2 JP 14171775 A JP14171775 A JP 14171775A JP 14171775 A JP14171775 A JP 14171775A JP S5846555 B2 JPS5846555 B2 JP S5846555B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bath
- electrolytic bath
- temperature
- section
- electrolytic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電解槽、特に析出金属(合金を含む)例えばチ
タンの如き電着物を、例えば平滑板状、塊状等任意の形
状に規整することができる溶融塩電着法に用いる電解槽
に係わる。
タンの如き電着物を、例えば平滑板状、塊状等任意の形
状に規整することができる溶融塩電着法に用いる電解槽
に係わる。
従来一般の溶融塩電着法による電解生成物は、熔融状若
しくは粒状粉末或いはスポンジ状であった。
しくは粒状粉末或いはスポンジ状であった。
そこで、この電解生成物が例えば平滑板状となるような
形状規整を行うことのできる電着法が研究され1例えば
、特許第212080号、同第229381号、同第2
94943号及び同第726754号に示される電着法
が本発明者等によって提供された。
形状規整を行うことのできる電着法が研究され1例えば
、特許第212080号、同第229381号、同第2
94943号及び同第726754号に示される電着法
が本発明者等によって提供された。
例えば上記第726754号に開示された電着法は、電
解浴として少くとも塩化バリウム、塩化マグネシウム、
塩化ナトリウム、塩化カルシウムより成る4成分系に於
ける凝固の始る点が600℃以下である組合せ浴と所望
金属例えばチタンの低原子価化合物とを含む熔融塩浴を
使用し、この電解浴の一部又は全部を少くとも500℃
以上の温度に加熱して浴状態を調整し、上記所望金属例
えばチタンが電着される電極付近の浴中のこの金属の高
原子価化合物を常温に於ける分析値のモル比で、この所
望金属の低原子価化合物の7以下に維持すると共に、4
00〜580℃で電着を行うものである。
解浴として少くとも塩化バリウム、塩化マグネシウム、
塩化ナトリウム、塩化カルシウムより成る4成分系に於
ける凝固の始る点が600℃以下である組合せ浴と所望
金属例えばチタンの低原子価化合物とを含む熔融塩浴を
使用し、この電解浴の一部又は全部を少くとも500℃
以上の温度に加熱して浴状態を調整し、上記所望金属例
えばチタンが電着される電極付近の浴中のこの金属の高
原子価化合物を常温に於ける分析値のモル比で、この所
望金属の低原子価化合物の7以下に維持すると共に、4
00〜580℃で電着を行うものである。
このような電着法は、熔融塩浴の組成が重要であること
もさることながら、電着金属イオンを含めて熔融塩のイ
オン状態、熔融塩中での熔解状態及び晶析の結晶組成状
態も重要な要素の1つである。
もさることながら、電着金属イオンを含めて熔融塩のイ
オン状態、熔融塩中での熔解状態及び晶析の結晶組成状
態も重要な要素の1つである。
即ち、電解槽中での電解浴温度牙布状態は、少くとも陰
極挿入部近傍の温度部分(低温部)と、その温度以上の
その他の部分(高温@)との2部分を相備えることが重
要な要素である。
極挿入部近傍の温度部分(低温部)と、その温度以上の
その他の部分(高温@)との2部分を相備えることが重
要な要素である。
更に説明するなら、この電着法では電解温度でその熔融
塩浴組成は過飽和組成である。
塩浴組成は過飽和組成である。
したがって、電解槽全体を長時間電解温度で保つならば
、過飽和成分は晶析を起し、結晶は成長して、仮え電解
浴を攪拌していても之が電解浴中に浮遊存続することが
次第にできなくなってくる。
、過飽和成分は晶析を起し、結晶は成長して、仮え電解
浴を攪拌していても之が電解浴中に浮遊存続することが
次第にできなくなってくる。
又、過飽和成分の結晶組成も冷却によって変化し、電着
金属イオン状態にも変化が生ずる。
金属イオン状態にも変化が生ずる。
そして、電着金属イオンが多原子価金属である場合には
一層不均化反応又は錯体の生成等でイオン状態が変化す
る。
一層不均化反応又は錯体の生成等でイオン状態が変化す
る。
この事実から電解温度に於ける陰極挿入部の溶融塩元素
比をほぼ一定に保持できたとしても、長時間の電解では
電着物の状態は劣下する。
比をほぼ一定に保持できたとしても、長時間の電解では
電着物の状態は劣下する。
したがって、長時間の電解を良好に行うには、熔融塩浴
を少くとも電解温度以上に昇温する必要がある。
を少くとも電解温度以上に昇温する必要がある。
例えば、金属チタンを平滑電着するための電解槽につい
て説明するなら溶融塩組成の液相線以下の電解温度に保
たれ陰極が配置される低温部と、この部分の温度より高
い温度を有し、上記電解温度で晶析された過剰の熔融塩
組成物の少くとも一部を熔融し熔融塩の機能を回復し得
る程度に加熱する高温部とを具備することが望まれる。
て説明するなら溶融塩組成の液相線以下の電解温度に保
たれ陰極が配置される低温部と、この部分の温度より高
い温度を有し、上記電解温度で晶析された過剰の熔融塩
組成物の少くとも一部を熔融し熔融塩の機能を回復し得
る程度に加熱する高温部とを具備することが望まれる。
そして、2等低温部と高温部とに電解浴を循環させるこ
とによって、この熔融塩浴の機能回復を連続的に且つ自
動的に電着を継続しながら行うことができるようになし
得るが、この場合、主として犬なる温度差に基すきその
浴表面、及び電解槽の壁面との接触部に於いて、凝固皮
膜即ちクラスト(crust)或いはスケイル(sca
le)が発生し、之等が電解浴の浴面附近の流れを変化
させ、長時間の良好な電解に支障を来す事を認めた。
とによって、この熔融塩浴の機能回復を連続的に且つ自
動的に電着を継続しながら行うことができるようになし
得るが、この場合、主として犬なる温度差に基すきその
浴表面、及び電解槽の壁面との接触部に於いて、凝固皮
膜即ちクラスト(crust)或いはスケイル(sca
le)が発生し、之等が電解浴の浴面附近の流れを変化
させ、長時間の良好な電解に支障を来す事を認めた。
本発明はこのようなりラスト或いはスケイルの成長を阻
害して長時間に亘って良好な電解を可能ならしめるもの
である。
害して長時間に亘って良好な電解を可能ならしめるもの
である。
即ち、本発明に於ては、溶融塩電解浴を収容した槽に絶
えず或いは一定時間毎に浴の表面部に衝撃を与えるか又
は揺動攪拌することによって、そのクラスト、スケイル
を破砕する破砕手段を設ける。
えず或いは一定時間毎に浴の表面部に衝撃を与えるか又
は揺動攪拌することによって、そのクラスト、スケイル
を破砕する破砕手段を設ける。
又、この破砕手段を設けることによって電解浴槽の気密
性が害われ電解浴が空気に接して、之が酸化することを
回避すべく少くともその電解浴表面を不活性ガス例えば
アルゴン(Ar)によって気密保時するようになすもの
である。
性が害われ電解浴が空気に接して、之が酸化することを
回避すべく少くともその電解浴表面を不活性ガス例えば
アルゴン(Ar)によって気密保時するようになすもの
である。
以下本発明による電解槽の一例を第1図を参照して詳細
に説明するに、図中1は溶融塩電解浴2を収容した槽を
示し、3はその蓋を示す(固定手段は図示せず)。
に説明するに、図中1は溶融塩電解浴2を収容した槽を
示し、3はその蓋を示す(固定手段は図示せず)。
槽1内には、電解浴2を例えば500℃以下、好ましく
は480〜440℃の電解温度に保持するようになされ
、陰極4が配置される低温部5と、電解浴2をその組成
物を十分熔融し得る温度の例えば500℃以上、好まし
くは520〜560℃に保持して電解浴2の機能を回復
させる高温部6とを設ける。
は480〜440℃の電解温度に保持するようになされ
、陰極4が配置される低温部5と、電解浴2をその組成
物を十分熔融し得る温度の例えば500℃以上、好まし
くは520〜560℃に保持して電解浴2の機能を回復
させる高温部6とを設ける。
そして、適当な攪拌手段を設けて之によって電解浴2に
低温部5と、高温部6とに於て夫々閉ループを形成する
環流を生じきせると同時に低温部5と高温部6との間を
全体的に循環する流れも生ずるようになす。
低温部5と、高温部6とに於て夫々閉ループを形成する
環流を生じきせると同時に低温部5と高温部6との間を
全体的に循環する流れも生ずるようになす。
尚、低温部5の一部には冷却部5aを設は得る。
この冷却部5aは、低温部5内の上記電解浴の全体的な
流れに関しての上流側に設ける。
流れに関しての上流側に設ける。
そして、この場合低温部5内の冷却部5aが設けられた
部分外の、上記電解浴の全体的な流れに関して下流側に
陰極4を配置して陰極冷却部5bを構成する。
部分外の、上記電解浴の全体的な流れに関して下流側に
陰極4を配置して陰極冷却部5bを構成する。
そして、この冷却部5aと陰極冷却部5bとの間に閉ル
ープの環流を形成するようになし、同時に高温部6→冷
却部5→高温部6の循環をも生ずるようになす。
ープの環流を形成するようになし、同時に高温部6→冷
却部5→高温部6の循環をも生ずるようになす。
このように各部5a 、5b及び6に於て、電解浴2に
夫々環流を生じさせることによって夫々電解浴2が各部
5a 、5b及び6に於て所要時間滞留するようになす
。
夫々環流を生じさせることによって夫々電解浴2が各部
5a 、5b及び6に於て所要時間滞留するようになす
。
高温部6は、例えば槽1内の一側部に深槽部を設けて、
その落ち込んだ部分を高温部6とし、その上方を低温部
5の冷却部5aとし、之と隣合う浅槽部を低温部5の陰
極冷却部5bとなし、かくして陰極冷却部5bの底面7
が高温部6上に張り出した言わば棚を形成するようにな
すを可とする。
その落ち込んだ部分を高温部6とし、その上方を低温部
5の冷却部5aとし、之と隣合う浅槽部を低温部5の陰
極冷却部5bとなし、かくして陰極冷却部5bの底面7
が高温部6上に張り出した言わば棚を形成するようにな
すを可とする。
更にこの底面7の少くとも高温部6側の縁部には、高温
@6に向って落ち込む傾斜面を付与するを可とする。
@6に向って落ち込む傾斜面を付与するを可とする。
尚、低温部5に配置される陰極4は、之を回転させると
か1差運動させるなど移動するようになす。
か1差運動させるなど移動するようになす。
又、陰極4に対向して陽極8を配置する。図示の例では
、陽極8を囲んで隔膜9を配し、之により電解暗中に生
ずる陽極反応生成物のために電解浴組成が変化すること
がないようにした場合である。
、陽極8を囲んで隔膜9を配し、之により電解暗中に生
ずる陽極反応生成物のために電解浴組成が変化すること
がないようにした場合である。
冷却@5aと、陰極冷却部5bとの間には透孔が穿設さ
れた或いは穿設されない例えばついたて状のセパレータ
10を配置し得る。
れた或いは穿設されない例えばついたて状のセパレータ
10を配置し得る。
低温部5の冷却部5a、陰極冷却部5b及び高温部の各
温度は、図示しないが例えば内熱式ヒータによって夫々
所要の温度を有するように電解浴2に対し、所要の温度
分布を持たせるようにする。
温度は、図示しないが例えば内熱式ヒータによって夫々
所要の温度を有するように電解浴2に対し、所要の温度
分布を持たせるようにする。
又、冷却部5aは必要に応じて電解浴2を冷却する手段
を設は得る。
を設は得る。
一方、電解浴2に、上述した各部5a 、sb及び6に
夫々閉ループの環流を形成し、且つその一部を各5a
、5b及び6間に循環させる全体的な流れを形成する攪
拌手段としては、2個以上の例えばプロペラスクリュウ
、へりカルスクリュウの如き攪拌機構11〜13を配置
することによって構成する。
夫々閉ループの環流を形成し、且つその一部を各5a
、5b及び6間に循環させる全体的な流れを形成する攪
拌手段としては、2個以上の例えばプロペラスクリュウ
、へりカルスクリュウの如き攪拌機構11〜13を配置
することによって構成する。
例えば、深槽部内の落込み部即ち高温部4に第1の攪拌
機構11を設け、冷却部5aに第2の攪拌機構12を設
け、陰極冷却部5bに第3の攪拌機構13を夫々設ける
。
機構11を設け、冷却部5aに第2の攪拌機構12を設
け、陰極冷却部5bに第3の攪拌機構13を夫々設ける
。
そして、之等第1〜第3の攪拌機構11〜13を、例え
ば電解浴の粘度、比重、電解槽の形状等を勘案してその
効率、回転数、回転方向等を選定して同時に動作させる
ことによって、第1図に矢印を付して示すように各部5
a、5b及び6に夫夫環流を生じさせると共にその各一
部を各部6→5a→5b→6・・・に循環させることが
でき、更に、必要に応じて高温部6と冷却部5aとの中
間部14に整粒部とも言うべきもう1つの閉ループを形
成する環流を形成することができる。
ば電解浴の粘度、比重、電解槽の形状等を勘案してその
効率、回転数、回転方向等を選定して同時に動作させる
ことによって、第1図に矢印を付して示すように各部5
a、5b及び6に夫夫環流を生じさせると共にその各一
部を各部6→5a→5b→6・・・に循環させることが
でき、更に、必要に応じて高温部6と冷却部5aとの中
間部14に整粒部とも言うべきもう1つの閉ループを形
成する環流を形成することができる。
そして、このような中間部14に環流を形成するときは
、低温部5よりの電解浴流が高温部6に入り此処で一旦
高温とされ十分熔融された状態の電解浴を冷却部5aに
送り込むので晶析粒子の大きさ並びに質を調整する即ち
整粒作用を行う効果を奏せしめ得る。
、低温部5よりの電解浴流が高温部6に入り此処で一旦
高温とされ十分熔融された状態の電解浴を冷却部5aに
送り込むので晶析粒子の大きさ並びに質を調整する即ち
整粒作用を行う効果を奏せしめ得る。
そして、本発明に於ては、槽1に電解浴2の表面及びそ
の周縁部に生ずるクラストやスケイルを破砕する破砕手
段15を設けるものである。
の周縁部に生ずるクラストやスケイルを破砕する破砕手
段15を設けるものである。
この破砕手段15の詳細は、例えば第2図に示す如く下
端に電解浴2の浴面2aに衝撃を加える衝撃体16を有
し、この衝撃体16を浴面2a上より浴面2a下に入り
込むように上下方向に移動する作動杆17を設けて戊る
。
端に電解浴2の浴面2aに衝撃を加える衝撃体16を有
し、この衝撃体16を浴面2a上より浴面2a下に入り
込むように上下方向に移動する作動杆17を設けて戊る
。
18は作動杆17に連結され、之を上下に移動するよう
に駆動する駆動部、例えばエアシリンダである。
に駆動する駆動部、例えばエアシリンダである。
作動杆17は、蓋3に形成した透孔19を通じて槽1外
より槽1内に貫通され、透孔19上には、シール部20
を介してシリンダ18を支持する套管21が取付けられ
、シール部20のバッキング22によって透孔19が気
密封止されるようになされる。
より槽1内に貫通され、透孔19上には、シール部20
を介してシリンダ18を支持する套管21が取付けられ
、シール部20のバッキング22によって透孔19が気
密封止されるようになされる。
第3図は破砕手段15の他の例を示すもので、この例に
於ては、蓋体3に破砕手段15を、同図中に母線23及
び24に示す範囲内で揺動し得るように取付けた場合で
ある。
於ては、蓋体3に破砕手段15を、同図中に母線23及
び24に示す範囲内で揺動し得るように取付けた場合で
ある。
即ち、この場合、蓋3とシール部20との間に揺動軸受
部25を配設した場合で、この揺動軸受部25は、例え
ばシール部20下に、周面に球面突部26を有する管体
27を取付け、一方突部26の外周にこの突部26の球
面と衝合する球面凹部28を設けて構成し得る。
部25を配設した場合で、この揺動軸受部25は、例え
ばシール部20下に、周面に球面突部26を有する管体
27を取付け、一方突部26の外周にこの突部26の球
面と衝合する球面凹部28を設けて構成し得る。
この例のように破砕手段15を揺動せしめながら衝撃を
加えると電解槽の壁面との接触部に生ずる凝固皮膜は、
中心部の皮膜の破砕に引きずられて容易に剥離破砕され
る。
加えると電解槽の壁面との接触部に生ずる凝固皮膜は、
中心部の皮膜の破砕に引きずられて容易に剥離破砕され
る。
但し、ある程度以上に壁面皮膜の凝固が進めば直接壁面
近傍に衝撃体16を設ける必要がある。
近傍に衝撃体16を設ける必要がある。
又、第4図は破砕手段15の他の例を示すもので、この
例では、浴面2aの位置に応じて衝撃体16の作動位置
を調整し得るようにシリンダ18下部と、蓋体3上剖と
に互に嵌合して軸方向に摺動し得る管体29及び30を
透孔19に連通して取付け、シリンダ18の配置高さ、
したがって衝撃体16の高さ位置を調整できるようにし
たものである。
例では、浴面2aの位置に応じて衝撃体16の作動位置
を調整し得るようにシリンダ18下部と、蓋体3上剖と
に互に嵌合して軸方向に摺動し得る管体29及び30を
透孔19に連通して取付け、シリンダ18の配置高さ、
したがって衝撃体16の高さ位置を調整できるようにし
たものである。
この場合、管体29及び30は互に摩擦係合をなすか或
いは図示しないが適当な固定手段を設けて、両管体29
及び30を互に任意の摺動位置に設定できるようになす
。
いは図示しないが適当な固定手段を設けて、両管体29
及び30を互に任意の摺動位置に設定できるようになす
。
31は管体29及び30間のシールを行うバッキングで
ある。
ある。
尚、上述の第3図及び第4図に於いて、第2図と対応す
る部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
る部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
上述した各破砕手段15は、例えばエアシリンダ18に
よって作動杆1Tをその軸方向に往復移動させることに
よって或いは、及び揺動させることによって、その衝撃
体16を浴面2aに叩きつけ、揺動攪拌せしめ、前述し
た特に温度差により生ずる浴2の凝固皮膜即ちクラスト
、スケイルを破砕する。
よって作動杆1Tをその軸方向に往復移動させることに
よって或いは、及び揺動させることによって、その衝撃
体16を浴面2aに叩きつけ、揺動攪拌せしめ、前述し
た特に温度差により生ずる浴2の凝固皮膜即ちクラスト
、スケイルを破砕する。
この破砕動作は、絶え間なく行うこともできるし、一定
の時間間隔、例えば30分〜60分毎に行うこともでき
る。
の時間間隔、例えば30分〜60分毎に行うこともでき
る。
又、槽1内の浴2上の空間には、不活性ガス、例えばア
ルゴンを送り込むことによって浴2の表面を大気に対し
て気密的に遮断する。
ルゴンを送り込むことによって浴2の表面を大気に対し
て気密的に遮断する。
即ち気密保持の補助をする。
上述の電解槽によって電着を行うときは、電解浴2が高
温部6と、低温部5即ち電着の行われる陰極冷却15b
を循環するようになされると共に、特に、低温部の電解
浴面の硬化(凝固)の生じ易い部分には、破砕手段15
が配設されて、之によって浴2の硬化された或いは硬化
されんとする部分が破砕されるので、この硬化によって
即ちクラストやスケイルによってこの浴2の流れが阻ま
れるような現象を効果的に回避できる。
温部6と、低温部5即ち電着の行われる陰極冷却15b
を循環するようになされると共に、特に、低温部の電解
浴面の硬化(凝固)の生じ易い部分には、破砕手段15
が配設されて、之によって浴2の硬化された或いは硬化
されんとする部分が破砕されるので、この硬化によって
即ちクラストやスケイルによってこの浴2の流れが阻ま
れるような現象を効果的に回避できる。
従って、長期に亘って良好な浴状態でその電着を継続で
きるものである。
きるものである。
そして、浴2の表面を不活性ガスによって大気と遮断す
る時は破砕手段15を上述したように蓋3を貫通して配
設した場合でも、この貫通した部分を通じて空気が槽内
に入り込んで之が浴2に触れて、之を酸化せしめるよう
なことも効果的に回避できる。
る時は破砕手段15を上述したように蓋3を貫通して配
設した場合でも、この貫通した部分を通じて空気が槽内
に入り込んで之が浴2に触れて、之を酸化せしめるよう
なことも効果的に回避できる。
第1図は本発明による電解槽の一例を示す断面図、第2
図ないし第4図は夫々その破砕手段の例を示す断面図で
ある。 1は槽、2は電解浴、3は蓋、4は陰極、8は陽極、5
は低温部、6は高温部、15は破砕手段、16は衝撃体
、17は作動杆、18はエアシリンダである。
図ないし第4図は夫々その破砕手段の例を示す断面図で
ある。 1は槽、2は電解浴、3は蓋、4は陰極、8は陽極、5
は低温部、6は高温部、15は破砕手段、16は衝撃体
、17は作動杆、18はエアシリンダである。
Claims (1)
- 1 溶融塩電解浴が収容される槽に気密封止する蓋が設
けられ、更に上記電解浴の少くとも表面凝固皮膜を破砕
する手段が設けられたことを特徴とする電解槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14171775A JPS5846555B2 (ja) | 1975-11-26 | 1975-11-26 | デンカイソウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14171775A JPS5846555B2 (ja) | 1975-11-26 | 1975-11-26 | デンカイソウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5265106A JPS5265106A (en) | 1977-05-30 |
| JPS5846555B2 true JPS5846555B2 (ja) | 1983-10-17 |
Family
ID=15298549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14171775A Expired JPS5846555B2 (ja) | 1975-11-26 | 1975-11-26 | デンカイソウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5846555B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5892790A (ja) * | 1981-11-25 | 1983-06-02 | 富士電機株式会社 | 誘導炉の集塵保温装置 |
-
1975
- 1975-11-26 JP JP14171775A patent/JPS5846555B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5265106A (en) | 1977-05-30 |
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