JPS5847453A - 高温処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、例えば食品のレトルト殺薗勢における高温
処理装置に関し、特には同一のタンク内で共通の温水を
用−で被部履物の加熱部層と事後Ｏ降温処理とを行なう
装置に関する。

−ｍｌ！に高温部層 Ｆルト殺曹ｌ＆曹のように、高圧下で１００°Ｃ以上Ｏ
温直で行なわれるのであるが、この鳩舎の高温処理後直
ちに常温當圧下Ｋ］［すことは、彼処の容器等に対して
変形、破壊のお それがあるＯ″ｅ、該高圧を維持し大まま冷水を、タン
ク内に導入して、被部履物をある程度冷却してからタン
ク外へ搬出するのが通常である。しＦｋシ駿曹Ｏ例をと
るならば、加熱地理温度が約ＺＳＯ〜で、部層後の搬出
温度は９０°Ｃ以下である。しかるに％との加熱部層お
よび冷却降温処理を連続的に行なおうとするとき、加熱
−冷却０繰）返しに伴なう熱エネルギーの損失は膨むの
発明は、ζ０種の加熱−冷却が繰）返される連続的高温
ｌ＆層において、勢エネルギーをできるＩｌり有効Ｋｌ
ｌ用しようとして提案され九％Ｏであって、タンク内の
貯水部と放水部とをそれぞれ独立し九二つの回路、すな
わち加熱装置を備え九加熱昇温回路と熱交換器を備えた
放熱降温回路によってそれぞれ接続し、加熱延理時には
放熱降温回路を閉じ加熱昇温回路によって加熱され先高
温水を循還送入し、一方加熱部層後の降温部層時には加
熱昇温回路を閉じ放熱降温回路によって前記の高温水を
放熱降温して低温水として循還送入しうるようにし九も
のである。従って、ζＯ発明装置は同一のタンク内で共
通の・温水を用いて被処理物の加勢処理と降温処理とを
行なうものであ如、放熱降温回路によって放熱される熱
エネルギーは熱交換１１によって蓄熱ｔたは他工程（４
１に被処理物の予熱工程）Ｋ利用されるようにしたこと
を特徴とするものである。

以下添付の図面に基づｉて＾体的に説明すると、第１図
社この発明装置〇一実施例を示すレトルト殺菌処理の丸
めの高温処理装置の概略系統図であ〕、第ｔＡＥは七の
工ＩＩＫおける温度一時間曲線を示すグラフである。

熱昇温■路は図中矢印符号２０でその全体が示され、ス
チームヒータｓ３等の加熱装置を備えて−て、皺スチー
ムヒータ２３とタンク１０の貯水部１８および藪水部１
５とはそれぞれ導管１１）よび３４によって連結されて
−て、ポンプ寓意によって循還送入されるように構成さ
れて−る。放熱降温回路も同様に矢印符号３０で七〇全
体が示されてｉで、熱交換器３３を備え導管３１１にら
びに３４およびポンプｓ２によって、タンク１０の貯水
部１２の温水Ｗが放水部１５に循還送入されるように構
成されている。

まえ上記放熱降温回路ｓＯにお・ける熱交換器３８には
予熱装置４０のｌｌ＃導管番１が接続されて−て、レト
ルト殺菌のための被処理物の予熱曽熟曹が該予熱装置４
０で行なわれるようＫなって−る。

タンクｌＯ内の貯水部１２の温水Ｗは、加熱昇温回路ｇ
ｏｄた紘放熱降温回路３ｏを経て、それでれ加熱または
冷却されてタンク１０上部の放水部１５よシタンク内に
散水され、被処理物の加熱処理または冷却降温処理を選
択的に行がう。

すなわち、第３図ＯｗＦ度自線とともに加熱処理］：１
１につｉて説明す為と、第３図にお−て実線が被処理物
の温度で破線はタンク内の温水の温度であり、符号ムで
示される区間が仁の加熱処理工程である。前記した予熱
装置４Ｇで予熱前処理された被処理物の温度は約ツＯ’
ＯＫ加温されておじ、タンク１０内の温水温度は約８０
°Ｃを保って−る。この加熱処理工程ムにおｉては加熱
昇温回路２０が開かれ、貯水部−１２の温水Ｗは導管２
１を経てポンプ１１＠によってスチームヒータｓ３等の
加熱装置に導かれ加熱され、導管２４を経て放水部１５
よ〉高温水がタンクｌＯ内に散出される。そしてタンク
の貯水部１２に落下した温水は再び導管２１を経てスチ
ームヒータ２”Ｓに導かれ加熱され放水部１５よ如散出
され、この循還が一定温度になるまであるいは一定時間
繰シ返される。

所定の加熱処理工程ムが完了すると、次いで被ｌ＆墓物
の搬出のためＯ冷却降温処理が行なわれる。ヒＯ降温Ｊ
６理工程は第２図中符号Ｂで示される。ζＯ工＠Ｂにお
いてもタンク貯氷部ｌＳＯ温水Ｗ゛が使用される。ただ
し、この時の鋏温水Ｗは加熱感通直後であるから高温の
温水である。従って、放熱降温回路３０を開−いて熱交
換１１３ＳＫよって皺高温水を冷却し低温水として使用
する。この工１１においても前記と同様に該温水を放熱
降温回路中に循還されることＫよって第一回に示すよう
な曲線を描いて降温処理被処理物Ｏ１１度が搬出に適す
る温度（実施例では約９０〜９５°ｅ）Ｋなったとき（
第２図中の符号ａＯ時点）、タンクが開かれて被処理物
が搬出され次の冷却ニーに一移送される。この時のタン
ク内の温水温度は約ｓｏ’ｃ　　を示している。

上述したように１　この゛発明装置によればタンク内の
温水をある一定温度域（実施例では８０００〜１３０°
Ｃ）の間を連続的に昇降せしめて加熱処理、降温処理を
行表うことができるので、温水の熱エネルギーを徒らに
浪費することなく有効に使用できるとともに１降温処理
時に放熱され九熱エネルギーは熱交換器によって蓄熱ま
たは実施例のように被処理物の予熱前鵡理に利用するこ
とができる勢、総合的な熱エネルギーの有効利用に大き
な効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明−装置の一実施例を系す−レ。ト。 ルト殺菌のための高温処理装置の概略系統図、　　区第
２図はその工程における被処理物および温水　　−の温
度曲線である。　　　　　　　　−藪ｌＯ−・タンク、
　　１２…貯水部、　　１５−放水部、　　２０−・・
加熱昇温回路、　　２３・−スチ　。 、　　−ムヒータ、　　３〇−放熱降温回路、３３・・
・熱交換器、　　４０−・予熱装置、Ｗ・・・温　水。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 タンク内Ｏ温水の貯水部と放水部とを加熱昇温回路およ
   び゛放熱降温囲路によってそれぞれ接続し、前記加熱昇
   温回路は加熱装置を備えていて加熱処理時に前記貯水部
   の温水を加熱昇温ル前記放熱降゛温ｒｉｓｉ＊は熱交換
   器を備えて―て降温処理時には前記貯水部の温水を放熱
   降温して低温水として前記放水部に循還送入することに
   よ如、共通Ｏ温水を用いて被ｍ理物の加熱Ｉ＆運と。 降温処理とを行なうようにし九ことを特徴とする高Ｉ！
   Ｉｌ部層装置。