JPS5848368Y2 - 半導体物質溶融用ルツボ装置 - Google Patents
半導体物質溶融用ルツボ装置Info
- Publication number
- JPS5848368Y2 JPS5848368Y2 JP1718380U JP1718380U JPS5848368Y2 JP S5848368 Y2 JPS5848368 Y2 JP S5848368Y2 JP 1718380 U JP1718380 U JP 1718380U JP 1718380 U JP1718380 U JP 1718380U JP S5848368 Y2 JPS5848368 Y2 JP S5848368Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- dividing
- melting
- graphite crucible
- quartz
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 21
- 238000002844 melting Methods 0.000 title claims description 19
- 230000008018 melting Effects 0.000 title claims description 19
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 52
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 38
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は半導体物質溶融用ルツボ装置の改良に関する
ものである。
ものである。
シリコンなどの半導体物質を単結晶化精製のために溶融
するに際しては第1図に示すような石英ルツボ1及び黒
鉛ルツボ3が使用される。
するに際しては第1図に示すような石英ルツボ1及び黒
鉛ルツボ3が使用される。
石英ルツボ1は半導体物質2を収容して溶融するための
ものである。
ものである。
黒鉛ルツボ3は石英ルツボ1の外形とほぼ相似の凹陥部
を有する。
を有する。
通常、石英ルツボ1は横断面が円形で、縦断面がほぼU
字形に構成されている。
字形に構成されている。
そのような石英ルツボ1の中に前述のように半導体物質
2を入れる。
2を入れる。
かかる石英ルツボ1を黒鉛ルツボ3の凹陥部に内装する
のである。
のである。
その際、黒鉛ルツボ3の凹陥部の側壁面と石英ルツボ1
の外壁面との間にわずかに空隙を設ける。
の外壁面との間にわずかに空隙を設ける。
溶融炉内においてこのような石英ルツボ1及び黒鉛ルツ
ボ3を高周波誘導装置や抵抗加熱などによって加熱し、
半導体物質2を溶融させ、引き上げ操作によって、単結
晶化精製を行うのである。
ボ3を高周波誘導装置や抵抗加熱などによって加熱し、
半導体物質2を溶融させ、引き上げ操作によって、単結
晶化精製を行うのである。
半導体物質2の溶融前に石英ルツボ1の外壁面と黒鉛ル
ツボ3の凹陥部の内壁面との間に存在した空隙は、半導
体物質2の溶融熱により石英ルツボ1が変形し、また黒
鉛ルツボ3が熱による体積膨張をするため、消失してし
まう。
ツボ3の凹陥部の内壁面との間に存在した空隙は、半導
体物質2の溶融熱により石英ルツボ1が変形し、また黒
鉛ルツボ3が熱による体積膨張をするため、消失してし
まう。
すなわち石英ルツボ1と黒鉛ルツボ3とが互いに密着し
た状態になるのである。
た状態になるのである。
熱による黒鉛の体積膨張が石英のそれに比較して著しく
大きいため、このような現象が生じるのである。
大きいため、このような現象が生じるのである。
また石英ルツボが軟化して溶融物の自重により外向きに
変形されることも大きな理由である。
変形されることも大きな理由である。
さらに、黒鉛と石英ガラスの熱膨張係数の差から冷却時
に石英ルツボ1と黒鉛ルツボ3が更に密着して嵌合した
状態になる。
に石英ルツボ1と黒鉛ルツボ3が更に密着して嵌合した
状態になる。
このため、石英ルツボ1と黒鉛ルツボ3との間に大きな
応力が発生し、冷却段階でそれらの一方が破損する危険
がある。
応力が発生し、冷却段階でそれらの一方が破損する危険
がある。
仮りに破損しなかったとしても、石英ルツボ1と黒鉛ル
ツボ3から抜き去るのがきわめて困難となる。
ツボ3から抜き去るのがきわめて困難となる。
そこで、従来、このような困難を解決するためにいろい
ろな工夫がなされてきた。
ろな工夫がなされてきた。
例えば、黒鉛ルツボ3を縦方向又は横方向に2個以上分
割して、石英ルツボ1を抜去りやすいようにする提案が
なされた。
割して、石英ルツボ1を抜去りやすいようにする提案が
なされた。
しかし、従来は縦方向に黒鉛ルツボを単純に分割したに
すぎなかったため、使用時に分割が互いに離れやすい欠
点がある。
すぎなかったため、使用時に分割が互いに離れやすい欠
点がある。
たとえば、半導体物質2の単結晶の引き上げの際に、黒
鉛ルツボ3及び石英ルツボ1が半導体物質2の融点付近
に加熱された場合、石英ルツボ1が軟化して、その結果
、半導体物質の溶融液の自重により石英ルツボ1及び黒
鉛ルツボ3が外側に向って押し拡げられる。
鉛ルツボ3及び石英ルツボ1が半導体物質2の融点付近
に加熱された場合、石英ルツボ1が軟化して、その結果
、半導体物質の溶融液の自重により石英ルツボ1及び黒
鉛ルツボ3が外側に向って押し拡げられる。
このため黒鉛ルツボ3の各分割面が互いに離れる傾向に
あり、その結果分割面の間に空隙が生じる。
あり、その結果分割面の間に空隙が生じる。
このような空隙は加熱物体から石英ルツボ1に直接輻射
熱が伝達される原因となり、それにより伝熱条件が変化
し、結晶の品質に悪影響を及ぼす結果となる。
熱が伝達される原因となり、それにより伝熱条件が変化
し、結晶の品質に悪影響を及ぼす結果となる。
また、回転引き上げ中のルツボ装置の安定度が得られな
い欠点もある。
い欠点もある。
この考案の目的は、前述のような従来技術に見られる欠
点を除去して、使用時に分割面が離れに<<、更に良好
な処理状況を維持しやすく半導体物質溶融用ルツボ装置
を提供することにある。
点を除去して、使用時に分割面が離れに<<、更に良好
な処理状況を維持しやすく半導体物質溶融用ルツボ装置
を提供することにある。
本考案にあっては、半導体物質を収容して溶融するため
の石英又はSi3N4質のルツボを内装する黒鉛ルツボ
であって、黒鉛ルツボが石英又はSi3N4質のルツボ
と外形とほぼ相似の凹陥部を有するとともに第1及び第
2分割面により縦方向に2個以上に分割されている。
の石英又はSi3N4質のルツボを内装する黒鉛ルツボ
であって、黒鉛ルツボが石英又はSi3N4質のルツボ
と外形とほぼ相似の凹陥部を有するとともに第1及び第
2分割面により縦方向に2個以上に分割されている。
また第1分割面が第2分割面と交叉する。
好ましくは、2つの第2分割面を互いにほぼ平行にし、
これら第2分割面の両端間に1つの第1分割面を形成す
る。
これら第2分割面の両端間に1つの第1分割面を形成す
る。
また第1及び第2分割面により分割された各分割体を黒
鉛ルツボの中心軸に対して線対称に、構成することもで
第1分割面が黒鉛ルツボのほは沖心軸を通って、第1及
び第2分割面がほは゛直交するのが望ましい。
鉛ルツボの中心軸に対して線対称に、構成することもで
第1分割面が黒鉛ルツボのほは沖心軸を通って、第1及
び第2分割面がほは゛直交するのが望ましい。
以下、図面を参照して、この考案の好適な実施例を説明
する。
する。
第2図及び第3図はこの考案の第1実施例を示している
。
。
黒鉛ルツボ3は第1図に示したような石英ルツボ1をそ
の凹陥部3aに内装するように構成されている。
の凹陥部3aに内装するように構成されている。
凹陥部3aの内壁面は石英ルツボの外形に相似する構成
となっている。
となっている。
黒鉛ルツボ3の横断面形状は円形である。
凹陥部3aの縦断面形状はほぼ(1字形になっている。
また黒鉛ルツボ3の外壁側面は円筒状になっている。
黒鉛ルツボ3の底面には受は皿部分を設けることができ
る。
る。
実施態様によってはそのような受は皿部分を省略するこ
とも可能である。
とも可能である。
さて、これらの考案によるルツボ装置にあっては、黒鉛
ルツボ3が縦方向に2個以上に分割されている。
ルツボ3が縦方向に2個以上に分割されている。
第2図及び第3図の実施例においては、黒鉛ルツボ3が
2つに分割されている。
2つに分割されている。
そして、黒鉛ルツボ3の中心Oから外周に向う第1分割
面D1と外周から凹陥部3aに向う第2分割面D2とが
゛交叉している。
面D1と外周から凹陥部3aに向う第2分割面D2とが
゛交叉している。
図示した例にあっては、第2図を見ればわかるように、
第1分割面D1と第2分割面D2が互いにほは゛直角に
交わっているとともに、これら第1及び第2分割面D1
及びD2がほは゛等しい長さに設定されており、全体と
して第1及び第2分割面D1及びD2が直角二等辺三角
形の2辺に相当している。
第1分割面D1と第2分割面D2が互いにほは゛直角に
交わっているとともに、これら第1及び第2分割面D1
及びD2がほは゛等しい長さに設定されており、全体と
して第1及び第2分割面D1及びD2が直角二等辺三角
形の2辺に相当している。
第2図に示されている例にあっては、1つの第1分割面
Dlと2つの第2分割面D2とがZに近い形になってい
る。
Dlと2つの第2分割面D2とがZに近い形になってい
る。
なお、黒鉛ルツボ3の内壁面は上端からポイントP1の
ところまで直線的に下方に伸び、ポイントP1から中心
まで曲面となっている。
ところまで直線的に下方に伸び、ポイントP1から中心
まで曲面となっている。
その結果、平面で見た場合、第2図に示すように第2分
割面D2は直線的になる。
割面D2は直線的になる。
側面から見た場合には、第3図に示すようにポイントP
1からポイントP2までの部分において第2分割面D2
は曲線的に現われる。
1からポイントP2までの部分において第2分割面D2
は曲線的に現われる。
第4図及び第5図はこの考案の他の実施例を示している
。
。
この実施例にあっては、黒鉛ルツボ3が石英ルツボの外
形とほぼ相似形の凹陥部3aを有するとともに縦方向に
3個に分割されている。
形とほぼ相似形の凹陥部3aを有するとともに縦方向に
3個に分割されている。
そして、黒鉛ルツボ3の中心Oがら外周に向う第1分割
面D1と外周から凹陥部3aに向う第2分割面D2とが
前述の第1実施例と同様にほぼ直角に交わっている。
面D1と外周から凹陥部3aに向う第2分割面D2とが
前述の第1実施例と同様にほぼ直角に交わっている。
しかも、第1及び第2分割面D1及びD2がほぼ等しい
長さに設定されており、両者が直角二等辺三角形の2辺
に相当する構成となっている。
長さに設定されており、両者が直角二等辺三角形の2辺
に相当する構成となっている。
そして、3つの第1分割面D1がそれぞれ同じ角度で3
方向に配分されている。
方向に配分されている。
すなわち第1分割面D1同志の威す角が120°に設定
されている。
されている。
この考案によるルツボ装置によれば、以上のように構成
されているので、分割面の面積が著しく増大し、黒鉛ル
ツボの分割体同志が使用時に分離しにくくなる顕著な効
果が得られる。
されているので、分割面の面積が著しく増大し、黒鉛ル
ツボの分割体同志が使用時に分離しにくくなる顕著な効
果が得られる。
すなわち、黒鉛ルツボの分割体の互いの接触面積が増大
し、その結果、分割体同志が安定的に所定の形状に保持
しやすくなるのである。
し、その結果、分割体同志が安定的に所定の形状に保持
しやすくなるのである。
その結果、黒鉛ルツボの分割面に隙間が生じることが極
力抑制され、加熱体からの直熱の輻射加熱が防止でき、
従来のような好ましくない影響を最少限にとどめること
ができる。
力抑制され、加熱体からの直熱の輻射加熱が防止でき、
従来のような好ましくない影響を最少限にとどめること
ができる。
石英ルツボを局部的に加熱する事態が回避でき、使用時
に温度分布が均一に保て、その当然の結果として良好な
引き上げ状況が確保できる。
に温度分布が均一に保て、その当然の結果として良好な
引き上げ状況が確保できる。
黒鉛ルツボを分割したことにより、石英ルツボの外形の
バラツキがあっても正確に石英ルツボを然るべき状態で
黒鉛ルツボの中に収容することができる。
バラツキがあっても正確に石英ルツボを然るべき状態で
黒鉛ルツボの中に収容することができる。
また、溶融に伴って生ずる石英ルツボの変形に対しても
充分に対応できる。
充分に対応できる。
逆に言えば、黒鉛ルツボ3の内壁面を内装するのがきわ
めて容易となる。
めて容易となる。
つまり、石英ルツボと黒鉛ルツボとの間に融通性が増す
のである。
のである。
また、黒鉛ルツボをこのように分割したことにより、ル
ツボの破損を皆無となし、その結果、耐用回数が著しく
増大した。
ツボの破損を皆無となし、その結果、耐用回数が著しく
増大した。
また、石英ルツボの取り出しがきわめて簡単になり、作
業性の向上が計れた。
業性の向上が計れた。
また、石英ルツボと黒鉛ルツボとの間に空隙を設ける必
要もなくなり、溶融前から両ルツボを密着して組み立て
ることができるので、黒鉛ルツボへの熱伝導もきわめて
良好となり、溶融による石英ルツボの側壁面の変形も少
ない。
要もなくなり、溶融前から両ルツボを密着して組み立て
ることができるので、黒鉛ルツボへの熱伝導もきわめて
良好となり、溶融による石英ルツボの側壁面の変形も少
ない。
特に黒鉛ルツボの第1分割面と第2分割面とがほぼ直交
している場合にはルツボ装置を回転させた際に遠心力が
たくみに分散され、黒鉛ルツボの分割体同志が常に広い
分割面でうまく接触した状態が確保できる。
している場合にはルツボ装置を回転させた際に遠心力が
たくみに分散され、黒鉛ルツボの分割体同志が常に広い
分割面でうまく接触した状態が確保できる。
第1分割面と第2分割面がほぼ直角に交わり、しかも線
対称の形に設定された時に、そのような効果が最大とな
る。
対称の形に設定された時に、そのような効果が最大とな
る。
なお、この考案は前述の実施例にのみ限定されるもので
なく、他のいろいろな変形例を含むものである。
なく、他のいろいろな変形例を含むものである。
例えば石英ルツボの代わりに、Si3N4質のルツボを
使用することもできる。
使用することもできる。
第1分割面は黒鉛ルツボの中心軸を通らなくてもよい。
第1及び第2分割面は鈍角又は鋭角でもよい。
また、第6〜9図に示されているように、第1および第
2分割面の交叉部分に丸みをつけて応力の集中を避ける
こともできる。
2分割面の交叉部分に丸みをつけて応力の集中を避ける
こともできる。
第1図は従来の半導体物質溶融用ルツボ装置を示す外柵
縦断面図、第2図は本考案による半導体物質溶融用ルツ
ボ装置の1例を示す平面図、第3図はその縦断面図、第
4図は本考案の他の実施例を示す平面図、第5図はその
縦断面図である。 第6および7図は別の実施例を示す平面図および断面図
、第8および9図はさらに別の実施例を示す平面図およ
び断面図である。 1・・・・・・石英ルツボ、2・・・・・・半導体物質
、3・・・・・・黒鉛ルツボ、3a・・・・・・凹陥部
、Dl・・・・・・黒鉛ルツボの中心から外周に向う第
1分割面、D2・・・・・・黒鉛ルツボの外周から凹陥
部に向う第2分割面、O・・・・・・黒鉛ルツボ゛の中
心。
縦断面図、第2図は本考案による半導体物質溶融用ルツ
ボ装置の1例を示す平面図、第3図はその縦断面図、第
4図は本考案の他の実施例を示す平面図、第5図はその
縦断面図である。 第6および7図は別の実施例を示す平面図および断面図
、第8および9図はさらに別の実施例を示す平面図およ
び断面図である。 1・・・・・・石英ルツボ、2・・・・・・半導体物質
、3・・・・・・黒鉛ルツボ、3a・・・・・・凹陥部
、Dl・・・・・・黒鉛ルツボの中心から外周に向う第
1分割面、D2・・・・・・黒鉛ルツボの外周から凹陥
部に向う第2分割面、O・・・・・・黒鉛ルツボ゛の中
心。
Claims (5)
- (1)半導体物質を収容して溶融するための石英又はS
i3N4質のルツボを内装する黒鉛ルツボにおいて、前
記黒鉛ルツボが前記石英又はSi3N4質のルツボの外
形とほぼ相似の凹陥部を有するとともに第1及び第2分
割面により縦方向に2個以上に分割されており、該該1
分割面が該第2分割面と交叉する構成したことを特徴と
する半導体物質溶融用ルツボ装置。 - (2)2つの第2分割面が互いにほぼ平行で、これら第
2分割面の両端面に1つの第1分割面を形成した実用新
案登録請求の範囲第1項に記載の半導体物質溶融用ルツ
ボ装置。 - (3)第1及び第2分割面により分割された各分割木が
前記黒鉛ルツボの中心軸に対して線対称に構成されてい
る実用新案登録請求の範囲第1項に記載の半導体物質溶
融用ルツボ装置。 - (4)前記第1分割面が前記黒鉛ルツボのほぼ中心軸を
通る実用新案登録請求の範囲第1項に記載の半導体物質
溶融用ルツボ装置。 - (5)前記第1及び第2分割面がほぼ直交している実用
新案登録請求の範囲第1項に記載の半導体物質溶融用ル
ツボ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1718380U JPS5848368Y2 (ja) | 1980-02-15 | 1980-02-15 | 半導体物質溶融用ルツボ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1718380U JPS5848368Y2 (ja) | 1980-02-15 | 1980-02-15 | 半導体物質溶融用ルツボ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5765971U JPS5765971U (ja) | 1982-04-20 |
| JPS5848368Y2 true JPS5848368Y2 (ja) | 1983-11-04 |
Family
ID=29434557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1718380U Expired JPS5848368Y2 (ja) | 1980-02-15 | 1980-02-15 | 半導体物質溶融用ルツボ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5848368Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002243370A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-28 | Daido Steel Co Ltd | シリコンなどの溶解装置 |
-
1980
- 1980-02-15 JP JP1718380U patent/JPS5848368Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5765971U (ja) | 1982-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4243471A (en) | Method for directional solidification of silicon | |
| JPS5848368Y2 (ja) | 半導体物質溶融用ルツボ装置 | |
| Huang et al. | Influence of thermal conductivity on interface shape during Bridgman growth | |
| JPH07296955A (ja) | カーボンヒーター | |
| JPH03228892A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP3508877B2 (ja) | シリコン溶解装置 | |
| JPH0538059Y2 (ja) | ||
| JPH0265122A (ja) | 半導体基板支持ボート | |
| JP2823257B2 (ja) | 半導体単結晶製造装置 | |
| JP3028767B2 (ja) | T字型種結晶および保持治具 | |
| JPS5895693A (ja) | 単結晶引上げ用黒鉛ルツボ | |
| EP2522764A2 (en) | Reusable dual crucible for silicon melting and manufacturing apparatus of silicon thin film including the same | |
| JP2707351B2 (ja) | シリコン単結晶製造用カーボンルツボ | |
| JPS6234439Y2 (ja) | ||
| JPS5940443Y2 (ja) | ウエハ支持装置 | |
| Zhong et al. | Preliminary results of GaAs single crystal growth under high gravity conditions | |
| JPH02172888A (ja) | シリコン単結晶引き上げ用るつぼ | |
| JPS58294Y2 (ja) | 半導体拡散炉 | |
| JP2665778B2 (ja) | 半導体単結晶引上げ装置 | |
| JPS5852292Y2 (ja) | 坩堝支持体 | |
| JPS61106210A (ja) | 高周波予熱機 | |
| KR20020050683A (ko) | 석영 진공 챔버 제조 방법 | |
| JPS63201086A (ja) | 単結晶成長法 | |
| CN206396354U (zh) | 一种多晶硅铸锭炉用坩埚组件 | |
| JPH11176916A (ja) | ウェーハ支持体 |