JPS5848549Y2 - 竪型還元炉の原料装入装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案ｄ１鉄鉱石、ペレット等を還元ガスにてガス還元
するための竪型炉の原料装入装置に関するものである。

従来の原料装入装置としては例えば第１図に見る如く炉
内装入物の粒度偏析を改善するため原料は炉頂部外に設
けられた複数本の装入管１を介し炉内に装入される如く
なしている。

ところが最近還元炉の生産性を向上させるため高圧操業
が有効であることが確認された。

この高圧操業を行なうためには当然のことながら別途ホ
ッパー、ゲート弁、シール弁等を必要とするがこれらを
従来の装入装置に設置するとなると装置高さが非常に高
くなるという難点を有していた。

そこでこれら問題点を解決せんがため炉高をできるだけ
低くして高圧操業にも充分対処し得るような且つ炉内の
粒度偏析の少ない装置として第２図に示すような装入装
置が提供されている。

即ち均排圧槽８を設けた竪型還元炉において上記還元炉
の上方内部に仕切板を設けて原料の収納空間を形成し、
該仕切板に原料を流下せしめる装入管５を１本以上吊下
固定して上記炉内に貯留ホッパー３を構成し、上記仕切
板と上記パイプの下端を頂点とする装入物ストックライ
ンとの間に形成された空間部の還元炉炉壁に排ガスの導
出管１１を有している装入装置である。

ところがこのような装入装置にあって原料を装入した場
合、上記貯留ホッパー３内の装入物粒度分布において装
入位置近傍には細粒が多く周辺程粗粒が増加する傾向に
なる。

これは原料の落下による動的流れによるものである。

この傾向は還元炉の炉径が拡大する程、顕著に現われて
くる。

このような装入物の粒度偏析が上記貯留ホッパー３内で
生じると上記装入管５を介して還元炉本体２内でも同様
の粒度偏析となって現われてくる。

これは還元ガスの偏流となって現れ、ついには還元炉の
生産性にも影響を及ぼしてくる。

本考案においてはこれらの問題点を改善するため上記構
成になる装入装置の貯留ホッパー３内に装入筒４を第３
図に示す如く設けたものである。

以下本考案について説明する。

上記構成の本考案の装入装置にあって、ゲート弁１０よ
り流出した原料６は装入筒４内に一旦貯留され原料の落
下による動的流れが止められる。

その後還元炉２の下部より内容物を切出すことにより装
入筒４内の原料は徐々に貯留ホッパー３内に流出してい
く。

以上のように装入筒４内で原料の運動エネルギーを消す
ことにより貯留ホッパー３内で’Ｄ 粒度偏析が改善さ
れ、これにより装入管５を介して還元炉２内での粒度偏
析が改善されるものである。

以上本考案によれば炉内の装入物粒度偏析が改善できま
た還元炉の生産性向上が期待できるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の竪型還元炉の原料装入装置の構造を示す
図、第２図は高圧操業装置例を示す図、第３図は本案の
実施例装置の説明図である。 １・・・装入管、２・・・還元炉本体、３・・・貯留ホ
ッパ４・・・装入筒、５・・・装入管、６・・・原料、
７・・・ゲート弁、８・・・均排圧管、９・・・シール
弁、１０・・・シール弁、１１・・・排ガス管。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 炉頂部本体内に貯留ホッパーを形成し、該貯留ホッパー
   の下部は複数本の装入管を介し炉内に連通せしめる如く
   なした原料装入装置において、上記貯留ホッパー内の上
   部に装入筒を臨ませたことを特徴とする竪型還元炉の原
   料装入装置。