JPS5848896B2 - ヘイバンインサツバンノ セイホウ - Google Patents

ヘイバンインサツバンノ セイホウ

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JPS5848896B2
JPS5848896B2 JP49088942A JP8894274A JPS5848896B2 JP S5848896 B2 JPS5848896 B2 JP S5848896B2 JP 49088942 A JP49088942 A JP 49088942A JP 8894274 A JP8894274 A JP 8894274A JP S5848896 B2 JPS5848896 B2 JP S5848896B2
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B41C1/00Forme preparation
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    • B41C1/1041Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern

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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は親水性の層で蔽われたベースを像に従って照射
し、それによって親油性画像部をつくる平版印刷版の製
法に関する。
平版印刷版をホトメカニカルに製造する場合、普通は感
光層を有する複写材料を像に従って露光し、次1こ適尚
な現像液で現像して親油性画像部と親水性非画像部が得
られる。
親油性画像部は通常現像の後に残る層の範囲であり、非
画像部はベース表面の現像により除去される範囲である
現像のためには一般に層Q)性質により有機溶剤または
アルカリ性もしくは酸性水溶液が使用される。
この溶液による作業はつねに所定の安全規定に注意しな
がら行わなければならず、使用した現像液の除去には蒸
留、中和などの付加的手段が必要である。
それゆえこのような現像液を使用せずにすますことが望
まれる。
たとえばドイツ連邦共和国特許明細書第 1160733号の例4により、露光したプリセンシタ
イズドオフセット印刷版を純水によりぬぐうことによっ
て現像することもすでに公知である。
しかしこの場合貯蔵性の制限された感光性複写層を使用
することが必要であり、貯蔵が長過ぎると複写はまだ可
能であるとしても、もはや純水で現像することはできな
い。
いずれにせよこの場合もたとえばジアゾニウム塩、酸、
金属塩などを含む感光層の洗い出された部分を除去しな
ければならない。
さらにドイツ連邦共和国特願P2231815.6には
ベースおよび非感光性の層よりなる記録材料を電子で照
射し、水または水溶液で現像することが提案されている
ここに記載された方法によればオフセット印刷版を製造
することができる。
本発明の目的は感光材料および現像過程をまったく必要
とせずに、像に従った照射Oこよって平版印刷版を製造
する方法を提案することである。
本発明の目的は層で蔽われたベースを像に従って照射す
る平版印刷版の製法である。
本法の特徴は非感光性の親水性層を有するベースを使用
し、層を像に従って電子ビームで照射し、照射して得ら
れた材料を直接平版印刷機で印刷することである。
本発明の方法は平版印刷版を製造するための新規かつ意
外に簡単な軒能性を開示する。
ここに使用する記録材料は昼光および人造光ならびに老
化に対し不感受性である。
ほとんど無制限に貯蔵町能である。
ただ1つの処理過程は電子ビームによる像に従った材料
の照射である。
この場合照射された部分の親水性表面層は硬化するので
、疎水性または親油性になり、印刷インキを吸収する。
照射した版は他の処理なしにただちにオフセット印刷機
にセットされ、常用法で油性または脂肪性印刷インキお
よび湿し水が塗布される。
この場合初めの親水性表向層が水溶性であれは、この層
は湿し水によって取去られる。
この場合はその下にあるベース表面も親水性でなけれは
ならない。
親水性層が水に不溶性の場合、湿し水による層の除去は
ほとんど起こらず、照射されない部分は直接画像支持体
として役立つ。
優れた親水性層の場合、オフセット印刷機で湿し水はま
ったく必要がなく、すなわち乾式オフセット法で印刷す
ることができる。
電子照射によって親水性表面の永続的親油性化が達成さ
れるので、多くは非常に高い印刷版数を達威することが
できる。
本発明における親水性の層としては種々の層および表面
を挙げることかで−きる。
薄い非結晶性の均一なフイルムを形戒するに適した水溶
性有機物質の層が重要な群を形成し、これらはモノマー
またはポリマーである。
適当な水溶性ポリマーはたとえばポリビニルアルコール
、ポリビニルピロリドン、ポリアルキレンオキシド、ポ
リアルキレンイミン、カルボキシメチルセルロースまた
はヒドロキシエチルセルロースのようなセルロースエー
テル、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、ポリメタ
クリル酸、デンプン、小麦糊、デキストリン、カゼイン
、ゼラチン、アラビ了ゴムおよびタンニンである。
適当な七ノマーまたは低分子水溶性物質はたとえばロー
ダミンB1 メチレンブルー、エオシンまたはトリフエ
ニルメタン染料たとえはクリスタルバイオレットのよう
な水溶性染料、およびドイツ連邦共和国公開特許公報第
2036585号に記載されているフイルムを形或する
低分子有機物質である。
これに属するものはとくに七ノマーおよびオリコマー炭
水化物およびそれから誘導された還元−および酸化生放
物ならびにそれらのエステル、エーテル、塩類、たとえ
ばアラビット、ソルビット、ペンタエリトリット、ジペ
ンタエリトリット、テトラメチロールシク口ペンタノー
ル、テトラメチロールシク口ヘキサノール、アンヒドロ
エンネアへプチット、グルコン酸、ガラクトン酸、ガラ
クツロン酸、粘液酸およびそのアルカリ金属塩またはア
ンモニウム塩、グルコース、ガラクトース、フラクトー
ス、マンノース、アラビノース、サツカロース、ラクト
ース、マルトース、メチルグルコース、ヒドロキシエチ
ルグルコース、サツカロースーモノウラート、サツカロ
ースーモノパルミタート、サツ力ロースーモノ−12−
こドロキシーステアラート、さらにサポニン0ような湿
潤剤、アルキル化されたスルホコノ・ク酸およびアルキ
ル化されたアリールスルホン酸のナトリウム塩、ポリグ
リコール、ポリグリコールアルキルフェノールエーテル
、ポリオキシエチレンーソルビタンー脂肪酸エステルな
ど多数である。
無機および有機の水に不溶性の親水性層も有利に使用す
ることができる。
適当な有機非水溶性親水性物質はたとえばドイツ連邦共
和国公開特許公報第1447978号に記載されている
ようなフェノール樹脂とポリエチレンオキシドの会合生
成物、英国特許明細書第907289号による硬化した
メラミンホルムアルデヒド樹脂、またはアミンー尿素一
ホルムアルデヒド縮合樹脂もしくはドイツ連邦共和国特
許公報第1166217号に記載されたスルホン化され
た尿素−ホルムアルデヒド樹脂、さらに網状化された親
水性コロイドたとえば場合により親水性無機顔料を含み
うる網状化されたポリビニルアルコールである。
ざらにベースたとえはプラスチックシ一トまたはプラス
チック表面を有する紙の表面へ埋めこまれた非水溶性親
水性の無機顔料層たとえば熱分解ケイ酸の層が適当であ
る。
本発明により使用しつる非水溶性親水性層のとくに重要
で有利な群は金属表面とくにアルミニウム表面と、有機
もしくは無機酸またはその塩または特定の錯体酸もしく
は錯体塩のモノマーまたはボリマーとの反応によって得
られる層である。
この種の層は平版印刷工業でよく知られ、感光層を塗布
するための金属ベースの前処理に広く使用される。
適当な処理剤の例はアルカリ金属ケイ酸塩(ドイツ連邦
共和国特許明細書第907147号参照)、ホスホン酸
またはその誘導体(ドイツ連邦共和国特許明細書第11
34093および1160733号参照)、6ハロゲン
化チタンまたはージルコン(ドイツ連邦共和国特許公報
第1183919および1192668号参照)、有機
ポリ酸(ドイツ連邦共和国特許明細書第1091433
号参照)、モノマーカルボン酸またはその誘導体、リン
モリブデン酸塩、ケイモリブデン酸塩などである。
しかし本発明の目的には一般に所定物質の濃度が普通の
場合より高い処理液とくに約3〜15重量係の溶液が使
用される。
親水性層としてはさらにアルミニウムベースに場合によ
り陽極酸化した後、熱水または熱水溶液で処理して得ら
れるベーマイト層が適当である。
一般に本発明による親水性層は平版一またはオフセット
印刷法で油性印刷インキおよび湿し水が同時に作用する
際、水によってのみぬらされる条件を充足しなければな
らない。
この性質を有する層は平版印刷版のベース表面または支
持体面として十分公知である。
さらに前述のように水溶性のフィルムを形成する有機物
質の層もこの前提を充足する。
本発明の方法に使用するための親水性層が満たさなけれ
ばならない他の条件は電子ビームによる照射の際、その
水および印刷インキに対する表面張力が、水でなくて油
性または脂肪性の印刷インキによってのみぬらされ、す
なわち疎水性または親油性になるように、変化する能力
である。
電子照射による変化の性質に関しては確実な説明はでき
ないけれど、親水性基とくにOH基が疎水性基へ分解ま
たは変化しながら重合または網状化が行われるものと推
定される。
これによりその親水性が網状化しうる親水基の存在に基
かない親水性層たとえばクロムのような金属表面または
アルミニウムに陽極酸化しただけの酸化面は本発明の方
法(こ使用するに適しないことは明らかである。
親水性層のベースとしては平版印刷Oこ常用の材料、た
とえばセルロースアセテート被覆紙、亜鉛、マグネシウ
ム、アルミニウム、クロム、銅、真ちゅう、鋼、多層金
属−、プラスチ゜゛lクー またはプラスチックー金属
複合シートが適する。
とくに機械的、化学的または電流により粗面化および(
または)陽極酸化したアルミニウムが使用される。
水溶性親水性層を使用する場合、ベース面は永久的親水
性であることが必要である。
他の場合Cごは任意に選択することができる。
親水性層は約10−8〜1o−2クーロン/dの電荷密
度、約5〜50KVの加速電圧で電子により像に従って
照射される。
使用する層の感度に応じて1〜1000μAの照射電流
強さで2cmの飛程当たり0.005〜10秒の時間が
必要である。
層は紫外線に対しても非感光性なので、照射は昼光中で
行うことかできる。
電子ビームは所定のプログラム化された長点一および(
または)ラスク運動により制御するのが有利である。
像に従って照射した印刷ベースをただちにオフセット印
刷機に固定し、ただちに印刷を開始できるのは本発明の
特殊な利点である。
被覆した多くはプリセンシクイズしたオフセット印刷版
に公知であり、しばしば大きい空間を要する高価な現像
機械で行われるような印刷ベースの現像または非画像部
の除去は完全に不用である。
この利点によりオフセット印刷の速度および経済性に関
する要求が充足される。
オフセット印刷機により照射した材料で作業する場合、
乾式オフセット法または湿し水の存在のもとに印刷が行
われる。
親水性非画像部を湿し水でぬらす場合、材料がまったく
剥離されないか(非水溶性層)、または比較的少量の材
料が湿し水によって取去られ(水溶性層)、これは多く
の場合容易に分解され、ただちに排水として放出するこ
とができる。
これに反し常用感光層を現像する場合、多くは著しく腐
食性の物質が生じ、その環境を汚染しない除去には付加
的手段が必要である。
次に例により本発明を説明する。
係値はとくに指示のない限り重量饅である。
容量部としてliを選べば、重量部としてlを使用する
ことができる。
例1 厚さ0. 3 mmのアルミニウム板をブラシで機械的
に粗面化し、70℃で3分リン酸3ナトリウム20φ溶
液に浸積し、水で洗い、15秒間70%硝酸で処理し、
もう1度温水で洗った後、3分間85℃のケイ酸ナトリ
ウム10%液で処理し、水洗し、乾燥する。
非感光性の数年貯蔵しうる、被覆されたアルミニウム板
を10〜15KVの工不ルギーを有する中速の電子によ
り高真空(約10−5トル)中で像に従い照射する。
ビーム電流強さは200μA1偏向速度は1. 0se
c/ 2 cm飛程である。
照射後、印刷版はただちにオフセット印刷機に固定され
、印刷が開始され、その際照射された部分は印刷インキ
を吸収する。
数千の印刷が得られる。例2 冷間圧延光輝状態のアルミニウムコイルを連続法で粗面
化し、陽極酸化し、ポリビニルピロリドンの5φ水溶液
で被覆し、乾燥する。
非感光性材料を小片に切断し、例1記載のように、しか
し5sec/2cm.飛程の偏向速度で中速電子により
像に従って照射する。
照射後アルミニウムシ一トをオフセット印刷機に固定し
、次Oこただちに印刷する。
ポリビニルピロリドンの代りにそのコーポリマーまたは
カゼインもしくは2.5%小麦糊または5斜タンニンを
水に溶解して被覆に使用しても同様の結果が得られる。
例3 機械的に粗面化したアルミニウム板を80℃のポリビニ
ルホスホン酸5係水溶液に浸積被覆し、乾燥し、電子ビ
ームで像に従い照射する。
ビームの電流強さは200μA1偏向速度はQ, 5s
ec/ 2の飛程である。
照射された部分は親油性であり、印刷の際脂肪性インキ
を吸収する。
例4 Al−Cr板をポリビニルアルコール2.5%水溶液で
被覆し、100μAの電子により偏向速度5 sec/
2 amで照射する。
次に前述のようにただちに印刷する。
ポリビニルアルコールの代りにデキストリンの6係溶液
、アラビアゴム18%溶液、デンプン5係溶液、小麦糊
2.5%溶液またはヒドロキシエチルセルロースo.1
%溶液で被覆して同様の結果が得られる。
例5 陽極酸化したアノレミニウム板を3900〜4800の
中分子量を有するポリエチレングリコールの5幅溶液で
被覆し、200μAの電子により5 sec/ 2 c
mの偏向速度で照射する。
照射した板をただちにオフセット印刷版として使用する
ポリアクリル酸の2.5係溶液で被覆して同様の結果が
得られる。
例6 陽極酸化した板に空気酸化層の少くとも10倍以上の厚
さのベーマイト層をつくるため、95℃の純水に60秒
浸漬し、乾燥する。
20μAの電子で像に従い照射した後、照射部は親油性
になり、オフセット印刷機に使用の際インキを吸収する
陽極酸化した板の代りに軽石懸濁液中でナイロンブラシ
によって粗面化したアルミニウム板も同様ベーマイト層
を備え、上記のように処理することができる。
例7 微細な無機顔料を含む親水性コロイド状結合剤よりなる
硬化した被覆を備える印刷版として使用するに適した市
販の紙シートを25μAの電子で照射し、次に例lのと
おり印刷する。
例8 微細な2酸化ケイ素2%が分散しているトリクロル酢酸
lo%およびアニオン性湿潤剤0. 2 %の水溶液で
処理して親水性付着層を設けたポリエチレンテレフタラ
ートシ一トを50μAの電子で照射し、さらに例lのと
おり処理する。
例1と同様の品質の印刷が得られる。
例9 機械的に粗面化したアルミニウム板をクリスタルバイオ
レット2係水溶液で被覆し、乾燥する。
100μAのビーム電流強さ0.)電子で照射する。
次に印刷版をオフセット印刷機に固定し、湿ったスポン
ジでぬぐう。
それによって照射されない部分の非常に容易に水に溶け
る染料層は除去されるけれど、照射された部分は硬化し
、親油性である。
湿ったスポンジでぬぐうことは必ずしも必要でないけれ
ど、あらかじめぬぐわずに作業すると機械は次第に染料
残部により汚染される。
100,000部以上の満足な印刷が得られる。
クリスタルバイオレットの代りに同じ濃度の染料ローダ
ミンB1メチレンブルーおよびエオシンを使用して同じ
結果が得られる。
例10 機械的に粗面化したアルミニウム板をソルビットの5係
溶液で被覆し、乾燥し、例l記載のように電子を照射し
、他の作業過程なしにオフセット印刷機で印刷を開始す
る。
ソルビット溶液の代りに同じ濃度のシヨ糖、ブドウ糖、
乳糖および(または)マルトーゼを使用して同じ良好な
結果が得られる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 親水性の層で蔽われた金属ベースを像に従って照射
    する平版印刷版の製法において、親水性の層として水溶
    性のフイルム形成性有機化合物の非感光性層またはベー
    スのアルミニウム表面と有機もしくは無機酸もしくはそ
    の塩のモノマーもしくはポリマーとの非水溶性反応生成
    物の非感光性層を使用し、この層を像に従って電子ビー
    ムで照射し、照射して得られた材料によりただちに平版
    印刷機で印刷することを特徴とする平版印刷版の製法。
JP49088942A 1973-08-09 1974-08-02 ヘイバンインサツバンノ セイホウ Expired JPS5848896B2 (ja)

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JPS5071407A JPS5071407A (ja) 1975-06-13
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BR (1) BR7406556D0 (ja)
CA (1) CA1047174A (ja)
CH (1) CH591713A5 (ja)
DE (1) DE2340323C2 (ja)
ES (1) ES429090A1 (ja)
FR (1) FR2240471B1 (ja)
GB (1) GB1482665A (ja)
IT (1) IT1018868B (ja)
NL (1) NL7410568A (ja)
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